技术总结
本实用新型公开提供了一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜，包括基材层，基材层的上表面涂布一层防静电层，防静电层的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层A，胶层A的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层B，胶层B的上表面贴合一层离型膜；所述UV半固化胶层A包括上表面、下表面，在上表面和下表面之间分布有小颗粒。UV半固化胶层A和UV半固化胶层B含有光引发剂，胶层A胶质柔软，胶层B具有压敏粘性；在一定光照射条件下，胶层A达到完全固化，胶层B仍为半固化状态。在待加工器件的背面进行机械性、化学性加工时，用于保护其凹凸不平或微结构表面，避免其在加工过程中受到破坏和污染，且加工完成后，保护膜可无残胶地进行剥离。本实用新型保护膜具有结构和生产工艺简单，性能优良等优点。
技术研发人员：施克炜;陈晓东;杨明
受保护的技术使用者：太湖金张科技股份有限公司
技术研发日：2019.04.22
技术公布日：2020.02.14