1.一种光学胶，用于折叠显示屏，其特征在于，所述光学胶包括光学胶主体材料以及掺杂在所述光学胶主体材料中的活性纳米粒子和/或改性纳米线；
2.根据权利要求1所述的光学胶，其特征在于，所述活性纳米粒子为经牺牲层改性的纳米粒子，所述牺牲层用于减少所述纳米粒子之间的团聚。
3.根据权利要求2所述的光学胶，其特征在于，所述纳米粒子为金属氧化物、有机硅微球或有机纳米粒子中的至少一种；和/或，所述牺牲层为光分解型光刻胶。
4.根据权利要求2所述的光学胶，其特征在于，所述纳米粒子的粒径为5nm-100nm。
5.根据权利要求1所述的光学胶，其特征在于，所述改性纳米线为修饰有金属配体的纳米线，所述纳米线为金属纳米线或氧化石墨烯碳纳米管中的至少一种，所述金属配体为磷化物、胺、吡啶或金属离子中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的光学胶，其特征在于，所述改性纳米线的直径为10nm-100nm，所述改性纳米线的长度为500nm-50μm。
7.根据权利要求1所述的光学胶，其特征在于，所述光学胶主体材料还经过亲水基团修饰，所述亲水基团为羧酸基、磺酸基、硫酸基、磷酸基、氨基、季氨基、醚基、羟基、醛基、烷基、苯基、羧酸酯或嵌段聚醚中的至少一种。
8.根据权利要求7所述的光学胶，其特征在于，所述亲水基团占所述光学胶主体材料的质量百分比为1％-5％。
9.根据权利要求1所述的光学胶，其特征在于，所述光学胶的厚度为10μm-300μm。
10.一种光学胶的制备方法，其特征在于，所述光学胶为权利要求1-9任一项所述的光学胶，所述制备方法包括以下步骤：
11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述包覆的步骤中，所述纳米粒子的粒径为5nm-100nm；
13.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述改性纳米线为改性ag纳米线，合成所述改性ag纳米线的步骤为：
15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，在合成所述改性纳米线的步骤中，所述改性纳米线占所述光学胶主体材料的质量百分比为0.01％-2％；和/或，
16.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述光学胶的制备方法还包括以下步骤：
17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，用所述亲水基团修饰所述光学胶主体材料时，所述亲水基团占所述光学胶主体材料的质量百分比为1％-5％；和/或，
18.一种柔性盖板，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的光学胶。
19.一种折叠显示屏，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的光学胶。
20.一种终端，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的光学胶。