一种带真空破坏的真空吸盘的制作方法

1.本实用新型涉及真空吸盘技术领域，具体涉及一种带真空破坏的真空吸盘。


背景技术：

2.真空吸盘主要用于机械辅助搬运及转运时对物体进行吸附。
3.现有技术中目前的自动化搬运系统中，传统的非接触吸盘对喷嘴与吸盘主体加工精度要求高，另外两者装配后一致性差，由于传统喷嘴一圈为全开口结构，导致压缩空气喷射口间隙厚度一致性较难控制，吸盘一圈吸力不均匀，从而产品质量不稳定。


技术实现要素：

4.为此，本实用新型通过设置喷射口以及真空破坏气道，克服了现有技术的缺陷。
5.为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种带真空破坏的真空吸盘，包括吸盘、喷嘴，还包括：
6.所述吸盘底部内凹形成喷嘴安装位，所述喷嘴安装于所述喷嘴安装位；所述喷嘴与所述喷嘴安装位之间的环形空隙形成气流通道；所述喷嘴上设置有轴向贯通所述喷嘴的喷气孔；所述喷嘴的边缘设有一圈凸台，所述凸台的上表面与所述喷嘴安装位接触，所述凸台还设置有喷射口，所述喷射口用于连通所述气流通道与外界；
7.所述吸盘表面设置有贯穿吸盘的第一气流接口、第二气流接口；所述第一气流接口与所述气流通道导通；所述第二气流接口与所述喷气孔导通。
8.作为本实用新型的一种优选方式，所述喷射口有若干个，环设于所述凸台。
9.作为本实用新型的一种优选方式，所述喷射口为内嵌于所述凸台的上表面的凹槽。
10.作为本实用新型的一种优选方式，所述喷射口包括设置于所述凸台内部且末端互相导通的第一喷射通道、第二喷射通道。
11.作为本实用新型的一种优选方式，所述第一喷射通道的前端连接所述凸台的上表面，所述第二喷射通道的前端连接所述凸台的侧面。
12.作为本实用新型的一种优选方式，环绕所述喷嘴侧面设置有第一密封槽。
13.作为本实用新型的一种优选方式，所述第一密封槽内设置第一密封圈，所述第一密封圈用于封闭所述喷嘴与所述喷嘴安装位之间的空隙。
14.作为本实用新型的一种优选方式，所述喷气孔与所述第二气流接口导通处的外侧环设有第二密封槽。
15.作为本实用新型的一种优选方式，所述第二密封槽内设置有第二密封圈，所述第二密封圈用于封闭所述喷嘴与所述喷嘴安装位之间的空隙。
16.作为本实用新型的一种优选方式，所述吸盘上设置有贯通的第一安装孔，所述喷嘴上对应第一安装孔设置有第二安装孔，螺栓穿过所述第一安装孔、第二安装孔将所述吸盘与所述喷嘴固定。
17.本实用新型的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
18.本实用新型所述的一种带真空破坏的真空吸盘，便于装配，装配完成后吸力均匀稳定。配合真空破坏气流能够更好地实现对物体的吸附于释放。
附图说明
19.为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解，下面根据本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明。
20.图1是本实用新型的吸盘示意图。
21.图2是本实用新型的吸盘剖面示意图。
22.图3是本实用新型具有第一种喷射口的喷嘴示意图。
23.图4是本实用新型具有第二种喷射口的喷嘴示意图。
24.图5是本实用新型具有第一种喷射口的真空吸盘第一角度剖面示意图。
25.图6是本实用新型具有第二种喷射口的真空吸盘第一角度剖面示意图。
26.图7是本实用新型的真空吸盘第二角度剖面示意图。
27.说明书附图标记说明：1.吸盘、11.第一气流接口、12.第二气流接口、13.喷嘴安装位、14.第一安装孔、2.喷嘴、21.喷气孔、22.喷射口、221.第一喷射通道、222.第二喷射通道、23、第一密封槽、231.第一密封圈、24.第二密封槽、241.第二密封圈、25.第二安装孔、3.气流通道、4.螺栓。
具体实施方式
28.下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
29.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第二”、“第一”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
30.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
31.除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。此外，术语“包括”意图在于覆盖不排他的包含，例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备，没有限定于已列出的步骤或单元而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些
过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。
32.参照图1-7所示，本实用新型一种带真空破坏的真空吸盘的实施例，包括吸盘1、喷嘴2，还包括：
33.所述吸盘1底部内凹形成喷嘴安装位13，所述喷嘴2安装于所述喷嘴安装位13。喷嘴安装位13内嵌于吸盘1，喷嘴2通过安装于喷嘴安装位13与吸盘1连接。喷嘴安装位13的形状与喷嘴2相适应。
34.所述喷嘴2与所述喷嘴安装位13之间的环形空隙形成气流通道3。气流通道3为环形，气流通道3环绕喷嘴2。所述喷嘴2上设置有纵向贯通所述喷嘴2的喷气孔21。所述喷嘴2的边缘设有一圈凸台，所述凸台的上表面与所述喷嘴安装位13接触，所述凸台还设置有喷射口22，所述喷射口22用于连通所述气流通道3与外界。
35.所述吸盘1表面设置有贯穿吸盘1的第一气流接口11、第二气流接口12。所述第一气流接口11与所述气流通道3导通。所述第二气流接口12与所述喷气孔21导通。
36.第一气流接口11用于接入压缩空气，压缩空气从第一气流接口11进入吸盘1，经过气流通道3，通过喷嘴2上的喷射口22将气流喷射出吸盘1，吸盘1底部产生真空。作为其中一种实施例，第一气流接口11可设置于吸盘1的顶部，并贯通吸盘1。
37.第二气流接口12用于接入正压气体。当关闭真空时，为迅速释放物体，需要真空破坏。从第二气流接口12打入正压气体，气流通过第二气流接口12进入吸盘1，并从喷嘴2上的喷气孔21喷出，完成真空破坏。作为其中一种实施例，第二气流接口12可设置于喷嘴2的一侧，并向下贯通吸盘1。
38.所述气流通道3在除喷射口22与第一气流接口11外的位置密闭。喷嘴2与喷嘴安装位13接触形成的气流通道3，该气流通道3除了第一气流接口11用于向气流通道3接入压缩空气、喷射口22用于喷出气流通道3中的气体，其它位置均密闭。
39.所述喷射口22有若干个，环设于所述凸台。
40.作为其中一种实施例，所述喷射口22为内嵌于所述凸台的上表面的凹槽。喷射口22的形状可为半椭圆型，半椭圆型的切口可朝向喷嘴2的外侧。喷射口22的数量不定，可为一个或若干个，喷射口22沿气流通道3环绕喷嘴2设置，向喷嘴2的各方向喷出气流，喷出的气流在吸盘1内凹的喷嘴安装位13处回旋，形成吸力。根据需要的吸力可调整喷射口22内嵌于喷嘴2的深度。
41.作为其中一种实施例，所述喷射口22包括设置于所述凸台内部且末端互相导通的第一喷射通道221、第二喷射通道222。所述第一喷射通道221的前端连接所述凸台的上表面，所述第二喷射通道222的前端连接所述凸台的侧面。喷射口22的数量不定，可为一个或若干个，喷射口22沿气流通道3环绕喷嘴2设置，向喷嘴2的各方向喷出气流，喷出的气流在吸盘1内凹的喷嘴安装位13处回旋，形成吸力。根据需要的吸力可调整喷射口22的第一喷射通道221、第二喷射通道222的直径。
42.环绕所述喷嘴2侧面设置有第一密封槽23。所述第一密封槽23内设置第一密封圈231，所述第一密封圈231用于封闭所述喷嘴2与所述喷嘴安装位13之间的空隙。第一密封圈231在喷嘴2与吸盘1之间的气体通道3的一侧形成密闭。
43.所述喷气孔21与所述第二气流接口12导通处的外侧环设有第二密封槽24。所述第二密封槽24内设置有第二密封圈241，所述第二密封圈241用于封闭所述喷嘴2与所述喷嘴
安装位13之间的空隙。第二密封圈241封闭第二气流接口12与喷气孔21连接处的空隙，避免气流的泄露。作为其中一种实施例，吸盘1在对应于第二密封槽24的位置也可设置相应的密封槽，该密封槽用于对第二密封圈241进行限位。
44.所述吸盘1上设置有贯通的第一安装孔14，所述喷嘴2上对应第一安装孔14设置有第二安装孔25，螺栓4穿过所述第一安装孔14、第二安装孔25将所述吸盘1与所述喷嘴2固定。第一安装孔14、第二安装孔25可设置一个或多个，第一安装孔14、第二安装孔25两者相对上下对应设置。螺栓4依次穿过第一安装孔14与第二安装孔25可将喷嘴2与吸盘1进行连接。作为其中一种实施例，第一安装孔14、第二安装孔25内壁可导有螺纹，螺栓4外壁也可导有相应的螺纹。
45.显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。