运载装置及基片处理设备的制作方法

文档序号:32726160发布日期:2022-12-28 06:13阅读:35来源:国知局
运载装置及基片处理设备的制作方法

1.本实用新型涉及基片处理技术领域,特别是涉及一种运载装置及基片处理设备。


背景技术:

2.基片在出厂前可能需要进行多种处理,以满足应用的需求。例如,玻璃作为一种基片,在出厂前进行表面粗化处理,以在玻璃的表面产生防眩光的效果。
3.在一些工艺环节中,基片需要处于与相应电极间保持一定的电势差、同时与机台结构保持绝缘的状态。例如,在利用等离子对基片表面进行溅射时,需要使基片电连接至其中一个偏压电极,让等离子在电场的作用下轰击基片的待处理面。
4.为满足与机台结构绝缘的状态要求,传统技术在进行相应的工艺环节时,一般将基片相对机台结构固定安装,不便于基板在不同的工艺环节之间进行转移。


技术实现要素:

5.基于此,有必要针对基板因绝缘需要而不便于在不同的工艺环节之间进行转移的问题,提供一种运载装置及基片处理设备。
6.一种运载装置,包括:
7.机台,具有多个可转动的导轮及多个具有磁性的磁导件;多个所述导轮沿第一方向呈线性分布;
8.导杆,承载于多个所述导轮上,且能够沿所述第一方向相对所述机台移动;主绝缘块,连接于所述导杆;及
9.载具,与所述主绝缘块连接;所述载具包括主框及连接于所述主框的导向条;所述导向条的移动路径的两侧均设置有所述磁导件;所述导向条具有磁性,所述磁导件以同名磁极朝向于所述导向条。
10.上述运载装置中,多个导轮经由导杆、主绝缘块对载具进行支撑,使得载具、主绝缘块及导杆均能够沿第一方向相对机台移动,从而有利于承载于载具的主框内的基板在不同的工艺环节之间进行转移。此外,由于导轮可转动,因而在载具相对机台移动的过程中,导轮与导杆呈滚动接触,如此可以降低移动阻力,从而有利于基板在不同的工艺环节之间进行转移。由于连接于主框的导向条处于两个磁导件之间,在磁导件以同名磁极朝向于导向条的情况下,导向条受到其两侧的磁导件的斥力作用,使导向条维持在相对的两磁导件之间,从而对载具的移动轨迹起到限定的作用。同时,在磁性斥力的作用下,导向条与磁导件之间无需接触,从而使导向条与磁导件之间能保持绝缘关系。此外,由于载具通过主绝缘块连接导杆,从而使载具与导轮之间处于绝缘状态,如此,当载具在不同的工艺环节之间进行转移的过程中,载具能够与机台保持绝缘,进而确保承载于主框内的基片与机台保持绝缘。
11.在其中一个实施例中,所述主绝缘块为多个;多个所述主绝缘块沿所述导杆的长度方向间隔分布。
12.在其中一个实施例中,所述主绝缘块连接于所述主框与所述导杆之间,所述导向条连接于所述主框的远离所述主绝缘块的一侧。
13.在其中一个实施例中,所述主绝缘块在背向所述主框的一侧设有限位槽;所述导杆至少部分地容置于所述限位槽;所述限位槽的槽壁形状与所述导杆的侧面形状一致。
14.在其中一个实施例中,所述导轮设有容置所述导杆的凹槽,所述凹槽沿所述导轮的周向边缘设置;在通过所述导轮轴心的截面上,所述凹槽边缘的形状与所述导杆的侧面形状相对应。
15.在其中一个实施例中,所述运载装置还包括连接于所述导轮的驱动机构;所述驱动机构能够带动所述导轮转动。
16.在其中一个实施例中,所述驱动机构包括驱动件,所述导轮连接于所述驱动件;或,所述驱动机构包括驱动件及连接于所述驱动件的传动组件,所述导轮连接于所述传动组件。
17.在其中一个实施例中,所述运载装置还包括副绝缘块;所述主框与所述导向条之间通过所述副绝缘块连接。
18.在其中一个实施例中,所述主框包括竖向框条及连接于所述竖向框条的水平框条;所述竖向框条覆盖有绝缘层。
19.一种基片处理设备,包括:运载装置。
附图说明
20.图1为本实用新型的一实施例的运载装置的立体示意图;
21.图2为图1所示的运载装置的a处放大图;
22.图3为图1所示的运载装置在另一角度的立体示意图;
23.图4为图1所示的运载装置在另一角度的立体示意图;
24.图5为图1所示的运载装置的侧视图。
25.附图标记:100、运载装置;20、机台;21、导轮;211、凹槽;22、磁导件;221、支撑件;23、主架;231、上架部;232、架台部;233、立杆部;30、载具;31、主框;311、竖向框条;312、水平框条;32、导向条;40、主绝缘块;41、限位槽;50、导杆;60、驱动机构;61、驱动件;62、传动组件;621、传动轮;622、同步带;623、减速器;70、副绝缘块。
具体实施方式
26.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
27.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装
置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
28.此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
29.在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
30.在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接地接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接地接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
31.需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
32.下面结合附图介绍本实用新型实施例提供的技术方案。
33.本实用新型提供一种基片处理设备。
34.在一些实施方式中,基片处理设备能够对基片进行移料处理、清洗处理、或蚀刻处理。具体地,基片处理设备可以具有一个或多个腔室。基片在进入腔室后,可以是进行清洗处理或蚀刻处理。当基片处理设备具有一个腔室时,基片处理设备可以通过移料处理而使基片进入该腔室或离开腔室。当基片处理设备具有多个腔室时,基片处理设备还可以通过移料处理而使基片在离开一个腔室的同时,进入另一个腔室。
35.进一步地,基片包括玻璃,或其他成分或性质与玻璃接近的材料。基片可以是呈板状或片状。更具体地,在清洗处理中,基片处理设备可以是利用惰性气体源或其他清洗气源对待加工基片的待处理表面进行等离子清洗。更具体地,在蚀刻处理中,基片处理设备可以是利用惰性气体源和含氟气体源或其他蚀刻气源,以对基片的待处理表面进行等离子蚀刻。
36.在一些实施方式中,结合图1所示,基片处理设备包括运载装置100,运载装置100用于实施移料处理,使基片相对腔室移动。进一步地,基片处理设备可以还包括等离子产生装置及偏压装置。在一个实施方式中,等离子产生装置用于在清洗处理中产生等离子体。在另外一个实施方式中,等离子产生装置用于在蚀刻处理中产生等离子体。偏压装置能够产生引导等离子体轰击至基片的电场,具体地,可以是偏压装置的负极通过运载装置100电连接至基片。
37.在一些实施方式中,结合图1至图5所示,运载装置100包括:机台20、导杆50、主绝缘块40及载具30。机台20具有多个可转动的导轮21及多个具有磁性的磁导件22。多个导轮21沿第一方向呈线性分布。导杆50承载于多个导轮21上,且能够沿第一方向相对机台20移动。主绝缘块40连接于导杆50。载具30与主绝缘块40连接。载具30包括主框31及连接于主框31的导向条32。导向条32的移动路径的两侧均设置有磁导件22。导向条32具有磁性,磁导件22以同名磁极朝向于导向条32。
38.具体地,多个导轮21经由导杆50、主绝缘块40对载具30进行支撑,使得载具30、主绝缘块40及导杆50均能够沿第一方向相对机台20移动,从而有利于承载于载具30的主框31内的基板在不同的工艺环节之间进行转移。此外,由于导轮21可转动,因而在载具30相对机台20移动的过程中,导轮21与导杆50呈滚动接触,如此可以降低移动阻力,从而有利于基板在不同的工艺环节之间进行转移。由于连接于主框31的导向条32处于两个磁导件22之间,在磁导件22以同名磁极朝向于导向条32的情况下,导向条32受到其两侧的磁导件22的斥力作用,使导向条32维持在相对的两磁导件22之间,从而对载具30的移动轨迹起到限定的作用。同时,在磁性斥力的作用下,导向条32与磁导件22之间无需接触,从而使导向条32与磁导件22之间能保持绝缘关系。此外,由于载具30通过主绝缘块40连接导杆50,从而使载具30与导轮21之间处于绝缘状态,如此,当载具30在不同的工艺环节之间进行转移的过程中,载具30能够与机台20保持绝缘,进而确保承载于主框31内的基片与机台20保持绝缘。
39.在一些实施方式中,结合图1所示,机台20还包括主架23。导轮21及磁导件22安装于主架23,更具体地,磁导件22处于导轮21的上方,以使载具30的平面方向与水平面接近于垂直。进一步地,主架23包括上架部231、架台部232及立杆部233。上架部231与架台部232至少部分地重合于同一竖直面,上架部231与架台部232之间通过立杆部233连接。磁导件22连接于上架部231,导轮21连接于架台部232。更具体地,基片处理设备的腔室可以是设置于上架部231与架台部232之间。
40.在一些实施方式中,多个导轮21沿水平线间隔分布,以使载具30能够沿水平线平稳移动。
41.在一些实施方式中结合图2及图5所示,导轮21设有容置导杆50的凹槽211,凹槽211沿导轮21的周向边缘设置。在通过导轮21轴心的截面上,凹槽211边缘的形状与导杆50的侧面形状相对应。具体地,由于主框31上可能安装有重量较大的基片,在基片及主框31的重力传递至导杆50时,会导致导杆50与导轮21之间存在较大的压强,容易造成导杆50或导轮21的受损。通过在导轮21设置凹槽211,且凹槽211边缘的形状与导杆50的侧面形状相对应,能增大导轮21与导杆50之间的接触面积,防止导杆50与导轮21之间存在较大的压强,避免导杆50或导轮21受损,提高运载装置100的使用寿命。更具体地,对于凹槽211边缘的形状与导杆50的侧面形状相对应,可理解为,导杆50在垂直于自身长度方向上的截面的边缘的形状与凹槽211边缘的形状一致。或者可理解为,凹槽211边缘至少有60%的长度能够贴合至导杆50的侧面。
42.具体地,磁导件22可以是一个或多个汝铁硼永磁体,磁导件22与带磁性的导向条32之间以同名磁极相对设置。更具体地,对于磁导件22以同名磁极朝向于导向条32,可理解为,导向条32的s极朝向于一侧的磁导件22的s极,导向条32的n极朝向于另一侧的磁导件22的n极,以使导向条32的两侧均受到斥力的作用。进一步地,结合图1及图5所示,机台20具有
支撑件221,支撑件221通过螺栓或其他紧固件与上架部231相连接,磁导件22安装于支撑件221,并是相对的磁导件22之间保留通过导向条32的间隙。
43.具体地,由于导向条32与磁导件22之间不存在摩擦阻力,避免了载具30的上侧受到接触式的滑动摩擦,防止因摩擦而造成异物的掉落并对产品良率造成影响。
44.在一些实施方式中,结合图1及图4所示,主框31包括竖向框条311及连接于竖向框条311的水平框条312。竖向框条311覆盖有绝缘层。具体地,偏压装置包括偏压电极轮,由于水平框条312未覆盖有绝缘层,在载具30相对机台20移动到指定位置时,具有导电性的水平框条312能够通过抵接偏压电极轮而使载具30及载具30上的基片形成偏压电极,以实施清洗处理或蚀刻处理。进一步地,在载具30相对机台20移动到指定位置时,绝缘层能避免竖向框条311裸露于真空环境,避免在载具30电连接至偏压装置时,竖向框条311发生放电问题并影响清洗处理或蚀刻处理的工艺质量。在一个实施方式中,主框31包括一对竖向框条311及一对水平框条312,两个水平框条312相平行设置,竖向框条311连接在两个水平框条312之间。更具体地,处于主框31上部的水平框条312用于形成主框31的上边缘,处于主框31下部的水平框条312用于形成主框31的下边缘。具体地,在载具30充当偏移电极时,由于导向条32与磁导件22之间没有直接地接触,从而能保证载具30电连接偏压装置时能正常起到电极功能的作用。
45.具体地,竖向框条311及水平框条312可以采用钛或钛合金材料制成,以提高主框31的结构稳定性。
46.在一些实施方式中,结合图1所示,主绝缘块40为多个。多个主绝缘块40沿导杆50的长度方向分布。具体地,导杆50的多个不同部位与主框31之间设置有主绝缘块40,确保导杆50的不同位置与主框31之间形成隔离间隙,保证绝缘性,保证导杆50与主框31之间的相对位置稳定性。同时,避免需要设置单个长度较大的主绝缘块40,减少了主绝缘块40的用料,有利于减少至少包含载具30、主绝缘块40及导杆50的移动部分的整体质量,有利于降低对载具30驱动力的要求。
47.在一些实施方式中,结合图1及图2所示,主绝缘块40连接于主框31与导杆50之间,导向条32连接于主框31的远离主绝缘块40的一侧。主绝缘块40设置于主框31的下边缘与导杆50之间。由于主框31的重力直接施加于主绝缘块40,相对于将主绝缘块40连接于主框31的水平一侧,能避免主绝缘块40因承受竖直方向上的拉力而受损。主框31的重力全部以压力的形式作用于主绝缘块40,从而能提高主绝缘块40的受力均匀性。更具体地,当载具30以预定的角度进入机台20时,主框31的重心与导杆50之间的最短连线垂直于水平面,使主框31的重力直接以压力的形式依次传达至主绝缘块40及导杆50。更具体地,主框31的下边缘为在载具30相对机台20处于预定的角度时,载具30在竖直方向上高度最低的边缘。
48.在一些实施方式中,结合图2所示,主绝缘块40在背向主框31的一侧设有限位槽41。导杆50至少部分地容置于限位槽41。限位槽41的槽壁形状与导杆50的侧面形状一致。具体地,由于导杆50至少部分地容置于限位槽41,当主绝缘块40的角度相对主框31固定时,导杆50在限位槽41的限定下能相对于主框31保持稳定的角度。从而避免了由于主绝缘块40与导杆50之间的稳定性低而使载具30在移动时出现晃动。在一个实施方式中,导杆50在垂直于自身长度方向上的截面呈圆形。更具体地,对于限位槽41的槽壁形状与导杆50的侧面形状一致,可理解为,限位槽41的槽壁具有至少60%的壁面能够与导杆50的侧面贴合。
49.具体地,主绝缘块40采用铁氟龙或其他具有绝缘性质的材料制成。在一个实施方式中,水平框条312与主绝缘块40之间通过一个紧固件连接,而主绝缘块40与导杆50之间通过另一紧固件连接,从而避免水平框条312与导杆50之间通过同一紧固件电连接。
50.在一些实施方式中,导杆50的长度为载具30的水平长度的85%~115%。更具体地,导杆50的长度大于任意在水平方向上相邻的两个导轮21之间的水平间距。
51.在一些实施方式中,结合图5所示,运载装置100还包括副绝缘块70。主框31与导向条32之间通过副绝缘块70连接。由于副绝缘块70设置在主框31与导向条32之间,使主框31与导向条32之间具有一定的距离,由于副绝缘块70具有绝缘性,从而能确保主框31与导向条32之间保持绝缘,在导向条32意外接触到磁导件22时,不会引起短路问题。进一步地,在竖直方向上,主框31的上边缘的高度低于磁导件22,因而在主框31处于意外倾斜时,由于主框31的上边缘高度始终低于磁导件22的高度,从而避免主框31与磁导件22接触,防止短路。
52.在一些实施方式中,结合图3及图4所示,运载装置100还包括连接于导轮21的驱动机构60。驱动机构60能够带动导轮21转动。具体地,由于导杆50承载于导轮21上,当多个导轮21在驱动机构60的作用下以相同的方向相对机台20转动时,导杆50以及载具30能在导轮21摩擦力的作用下,相对机台20移动,避免需要利用人力移动载具30。更具体地,导轮21具有轴心,导轮21绕轴心相对主架23转动。
53.在一些实施方式中,结合图3及图4所示,驱动机构60包括驱动件61及连接于驱动件61的传动组件62。导轮21连接于传动组件62。具体地,驱动件61通过传动组件62带动导轮21转动。驱动件61包括电机或其它能够输出扭力的器件。传动组件62包括传动轮621及同步带622,导轮21连接于传动轮621,传动轮621之间通过同步带622传递动力。在一个实施方式中,每个导轮21对应一组传动轮621,每组传动轮621包括单个传动轮621或包括至少两个同轴设置的传动轮621。相邻的两组传动轮621受同一个同步带622所箍套,以在相邻的两组传动轮621之间传递驱动力。进一步地,结合图3所示,传动组件62还包括减速器623,驱动件61的输出轴连接减速器623的输入端。减速器623的输出端连接有传动轮621,该传动轮621通过同步带622与连接于导轮21的传动轮621连接,从而能调整导轮21的转速范围,以适应对载具30的移动速度要求。更具体地,导轮21及对应的传动轮621安装于同一支撑轴,该支撑轴连接于架台部232。
54.在另外一些实施方式中,驱动机构60包括驱动件61,导轮21连接于驱动件61。具体地,导轮21直接连接于驱动件61的输出轴,从而能提高导轮21与驱动件61之间的传递效率。
55.更具体地,结合图4所示,驱动件61及减速器623设置于架台部232的下侧或其他不影响载具30移动的位置,以降低运载装置100的重心,提高运载装置100的稳定性。
56.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
57.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1