保持装置和真空处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及将保持对象物利用粘附片材保持并能够将其在真空环境中移动的保持装置、和对保持在该保持装置上的保持对象物进行真空处理的真空处理装置。
【背景技术】
[0002]在液晶显示器(IXD)或等离子显示器(PDP)等平板显示器的制造工序中，包含基板组装工序及基板输送工序，有为了保持基板而使用粘附卡盘装置的技术。
[0003]例如在日本特许第3882004号公报所记载的装置中，将由基板输送用机器人移送的基板以预定压力按压在配置于保持板的粘附部件上，利用粘附部件的粘附力保持基板。还记载有通过将被粘附部件和基板包围的凹部真空抽吸而更强地抽吸保持的技术。
[0004]根据该装置，能够利用由变形膜分隔的凹部与封闭空间的压力差使可动膜变形，从而进行基板和粘附部件的剥离及粘附保持，此外，通过具备通气路、吸气源，还能够在使用真空抽吸的抽吸保持或剥离时使气体喷出。
[0005]但是，在该公报所记载的吸附保持中，如果在没有达到充分的真空度的状态下进行粘附衬垫与基板的贴合，则有在将粘附部件和基板贴合时咬入空气的问题，由于粘附力依赖于基板与粘附部件的接触面积，所以如果咬入空气，则接触面积减小，粘附力下降，基板有可能下落。
[0006]此外，在粘附衬垫与基板紧贴的部分不产生压力差而不产生按压力，所以为了确保较强的按压力，而需要使粘附衬垫之间的空间较大，有可能由于压力而使基板变形，或者需要装置的大型化。
[0007]此外，通过在由变形膜分隔的凹部和封闭空间产生压力差，将配置在变形膜上的粘附衬垫向基板方向按压，但根据变形膜和粘附衬垫的接合部处的压力分布，有可能粘附衬垫的粘附表面变形而不能获得与基板的较强的紧贴。
[0008]此外存在以下问题:基板和粘附部件粘贴的一侧相反的基板表面(成膜面)与基板输送用机器人的部件接触而产生颗粒。特别是，有机EL显示器的玻璃基板的成膜面的颗粒给设备特性带来不良影响。
[0009]在日本特开2011 — 35301号公报所公开的装置中记载有以下技术:在支承板上配置有粘附衬垫，通过使由配置有粘附衬垫的一侧的支承板和板状工件包围的吸附槽成为负压，使得以压力按压支承板而使粘附衬垫与板状工件紧贴，以及使配置有粘附衬垫的吸附槽返回到大气压，使在支承板上没有配置粘附衬垫的一侧的调压室成为负压，从而在支承板上作用压力，将粘附衬垫从板状工件剥离。
[0010]在日本特许第4746579号公报所记载的装置中，记载有利用负压使粘附剂片材与基板吸附的技术，此外，记载有通过使用弹性多孔质片材使得不仅利用负压吸附基板还使基板的应力减少的技术。但是，由于多孔质的面积相对于弹性多孔质片材的吸附面较小，所以有由于作用于基板的负压下降而不能将较重的基板抬起的问题。此外，在使用弹性多孔质片材的方法中，有不能在真空中使用的问题。
[0011]专利文献1:日本特开2011 — 35301号公报专利文献2:日本特许第3882004号公报
专利文献3:日本特许第3917651号公报专利文献4:日本特许第4746579号公报。
【发明内容】
[0012]本发明是为了解决上述现有技术的课题而创造的发明，提供一种保持装置，该保持装置不与保持对象物的被真空处理的表面接触，而能够将保持对象物可靠地保持并使保持对象物在真空环境中移动。
[0013]此外，提供一种利用该保持装置将保持对象物保持而进行真空处理的真空处理装置。
[0014]—般而言，在真空中也能够将粘附部件和基板贴合，但在与基板和粘附部件粘贴的部分相反的基板表面(成膜面)上，有基板输送用机器人的部件接触而产生颗粒的担心。
[0015]在以非接触将基板保持在成膜面上的情况下，可以考虑以真空吸附或基板的自重将粘附部件和基板粘附保持的方法，但前者不能在真空中使用。
[0016]在以基板的自重按压粘接衬垫的情况下，如果使基板与粘接衬垫接触的部分的面积减小，则每单位面积的按压力增加，粘附保持力增强，但在将基板悬吊保持的情况下，由于基板与粘附部分之间的剥离力也增加，所以有基板下落的担心。
[0017]相反，如果相对于基板增大粘附部分的面积，则每单位面积的按压力减小，由于基板与粘附衬垫的接触面积减小，使得粘附保持力下降。在该情况下，在将基板悬吊保持的情况下也有基板下落的担心。
[0018]另一方面，在将粘附衬垫的粘附力增强的情况下，在压剥基板时，有在基板上作用局部性应力而破损的可能、以及在基板上发生变形的担心。
[0019]在本发明所采用的技术中，做出了对于上述各担心的解决方案，本发明是一种保持装置，用于使设置在保持单元上的粘附衬垫与保持对象物接触，利用上述粘附衬垫粘附保持并输送上述保持对象物，其中，上述保持单元具有:真空容器；接触部，配置在上述真空容器的边缘上，与上述保持对象物接触，使上述真空容器的内部空间从上述真空容器的外部空间切断；排气孔，设置在上述真空容器上，成为利用吸附用排气装置将上述内部空间的气体真空排气的通路，上述内部空间被上述保持对象物和上述接触部从上述外部空间切断；和移动装置，使上述粘附衬垫移动，上述粘附衬垫配置在上述内部空间中，作为上述移动装置使上述粘附衬垫移动的方向的移动方向具有相对于接触平面垂直的方向的移动分量，所述接触平面是上述接触部的表面中的与上述保持对象物接触的部分所位于的平面。
[0020]本发明是一种保持装置，具有:多个上述真空容器；和配置在各上述真空容器中的上述粘附衬垫，使多个上述粘附衬垫和配置在多个上述真空容器的边缘上的上述接触部与相同的上述保持对象物接触。
[0021]本发明是一种保持装置，具有配置在相同的上述真空容器的上述内部空间中的多个上述粘附衬垫，使多个上述粘附衬垫和配置在上述真空容器的边缘上的上述接触部与相同的上述保持对象物接触。
[0022]本发明是一种保持装置，上述接触部使用具有柔软性的环状部件。
[0023]本发明是一种保持装置，上述接触部配置在上述保持装置的平坦的表面上。
[0024]本发明是一种保持装置，在上述保持装置的表面上设置有槽，上述接触部设置在上述槽内。
[0025]本发明是一种保持装置，上述接触部由紧贴片材构成，该紧贴片材配置在上述真空容器上，在上述真空容器的开口上形成有作为贯通孔的片材孔。
[0026]本发明是一种保持装置，具有使上述粘附衬垫相对于上述真空容器向远离上述接触部的方向一边旋转一边移动的旋转机构。
[0027]本发明是一种保持装置，是具有使上述保持装置连接到上述吸附用排气装置的拆装装置的保持装置，上述拆装装置使上述保持装置从上述吸附用排气装置分离，使得上述保持装置能够与上述吸附用排气装置独立地移动。
[0028]本发明是一种保持装置，使得当上述真空容器从上述吸附用排气装置分离时，气体不会穿过上述排气孔流入到上述真空容器内。
[0029]本发明是一种保持装置，粘接在上述保持对象物上的上述粘附衬垫被具有弹性力的缓冲部件向从上述保持对象物离开的方向施力。
[0030]本发明是一种真空处理装置，具有:上述任一方面的保持装置；真空槽，配置有上述保持装置；和处理部，配置在上述真空槽内，将被上述粘附衬垫粘附保持且处理表面朝下的上述保持对象物的上述处理表面在真空环境中处理。
[0031]本发明是一种真空处理装置，上述处理部是放出形成薄膜的微粒并在上述保持对象物表面上形成薄膜的成膜装置。
[0032]在本发明中，当将粘附衬垫向保持对象物按压时，由于保持对象物被真空吸附，所以使粘附衬垫可靠地紧贴在保持对象物上，粘附衬垫将保持对象物粘附保持的力提高。
[0033]此外，由于在真空中使粘附衬垫与保持对象物粘附，所以在相互粘附的粘附衬垫的表面与保持对象物之间不会存在气体。
[0034]此外，由于能够将保持对象物的单侧表面以非接触的方式粘附保持并输送，所以能够防止不合格品的产生。
[0035]此外，粘附衬垫的粘附物质是有机物质，虽然从粘附衬垫将排出气体排出，但通过由复位力产生的保持对象物向接触部的按压和使得气体不会从真空容器的排气孔流入的构成，使得在真空处理中将真空容器的内部空间从外部空间分离，所以不会将排出气体排出到配置有真空处理中的处理对象物的处理室内。
[0036]此外，由于利用多个保持单元保持一片保持对象物，所以向保持对象物施加的力分散，能够抑制保持对象物的破裂和变形。
【附图说明】
[0037]图1是表示本发明的真空处