光学元件净化存储系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于光学制造与检测技术领域，涉及一种用于存放光学元件的存储系统，尤其涉及一种用于存放大口径光学元件的净化存储系统。
【背景技术】
[0002]在先进光学制造与检测等技术领域对大口径光学元件的存放环境有非常高的要求，空气中的水汽、尘埃、颗粒物将造成光学元件表面质量的下降，存储环境的温度和湿度也会使光学元件产生形变，影响表面面形。
[0003]申请号为201110416916.1的发明专利就公开了一种用于真空紫外光学元件清洁和存放的紫外臭氧干燥柜，该干燥柜包括紫外臭氧发生模块、空调模块、气体管理模块和智能单元，紫外臭氧发生模块对真空紫外光学元件的清洁处理；空调模块实现真空紫外光学元件清洁/存放过程中干燥柜内温度和湿度的控制；气体管理模块完成真空紫外光学元件清洁和存放过程中干燥柜内气体管理；智能单元控制真空紫外光学元件清洁/存放的全部过程。该干燥柜虽能快速除去真空紫外光学元件上的碳氢根污染物，并阻止水汽对真空紫外光学元件光学性能的不利影响，有效地避免由于存储方式不当造成的真空紫外光学元件性能退化，尤其适用于真空紫外光学元件的清洁和存放。但是，由于空气中的水汽、尘埃、颗粒物将造成光学元件表面质量的下降，存储环境的温度和湿度也会使光学元件产生形变，且将上述干燥柜用于存储大口径(300mmX300mm以上)光学元件具有相当大的难度，因而致使该干燥柜的使用范围较为局限。
[0004]目前国内、外还没有专门用于存储大口径(300mmX300mm以上)光学元件的标准设备，光学元件生产或检测单位一般根据自身需要采用相应的存放方式，其主要有以下几种方案:第一种方案是直接将普通桌面改造成元件存放台，该存放台的可存储元件的数量由桌面的尺寸决定，且由于该存放台无空气净化功能，且没有物理隔离装置，所以元件处于开放的环境容易受到外部环境的影响。该方案中由于没有净化装置，不能给光学元件提供静态洁净环境；光学元件处在开放的环境中，没有物理隔离装置，在人员走动时或气流流动时，会对元件表面带入灰尘等污染物，同时元件裸露在外，容易在意外接触时受到损伤。第二种方案是采用恒温恒湿箱进行存放，恒温恒湿箱是市面上的标准产品，主要的功能是保持箱内环境的温度和湿度在可控范围内；通过在恒温恒湿箱内增加元件放置平台，将元件竖立保存在恒温恒湿箱内，该恒温恒湿箱可以控制元件外部环境的温度和湿度，但无空气净化功能，且恒温恒湿箱为标准产品，厂家一般不容许大规模改造，造成存放元件效率不高。恒温恒湿箱只能提供用于元件保存的温度和湿度环境，但不能净化箱内的空气，达不到净化元件的效果；其次，恒温恒湿箱结构复杂，内部空间和承重能力有限，对可以存放的元件尺寸和数量有限制，存放利用率较低，不适用于大批量元件存放。因此，对于大口径(300mmX300mm以上)光学元件，尤其是镀膜光学元件的存放，需要既有空气净化功能又可控制温湿度的高效率、非接触式存储设施。
【发明内容】
[0005]本实用新型的发明目的在于:针对现有技术存在的问题，提供一种用于存储大口径(300mmX300mm以上)光学元件的具有净化功能的光学元件净化存储系统。
[0006]为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为:
[0007]—种光学元件净化存储系统，包括净化台和净化桌，所述净化台包括台体和顶箱，所述顶箱设置于台体上方并与台体连接，且在台体和顶箱之间形成封闭的净化空腔；所述顶箱的箱体上开设有通风孔，所述净化空腔通过通风孔与外部连通，所述顶箱内从上往下依次设置有初效过滤器、离心风机、静电箱和高效过滤器；所述净化桌设置于净化台的净化空腔内。
[0008]作为本实用新型的优选方案，所述净化桌包括桌架，所述桌架上设置有桌面，所述桌面上设置有桌轨，相邻两条桌轨之间设置有用于放置光学元件的不锈钢槽体。
[0009]作为本实用新型的优选方案，所述桌面包括上层桌面和下层桌面，所述上层桌面和下层桌面层叠设置。
[0010]作为本实用新型的优选方案，所述桌轨上均布有若干通气孔。
[0011]作为本实用新型的优选方案，所述不锈钢槽体的两侧面和底面均铺设有聚四氟乙烯板。
[0012]作为本实用新型的优选方案，所述净化台的内侧壁上设置有用于测量净化空腔内的温度和湿度的温湿度计，所述净化台的外侧壁上设置有操作板，所述操作板与温湿度计电连接。
[0013]综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是:
[0014]1、本实用新型中，将净化桌放置于台体和顶箱组成的净化空腔内，待存储的光学元件放置在净化桌上，空气经顶箱的初效过滤器后由离心风机压入静电箱内，再经过高效过滤器过滤后形成静态百级的洁净气流，洁净气流以一定速度吹到光学元件表面上，流动的气流将清除附着在光学元件表面的灰尘等颗粒物，达到净化光学元件的效果；且通过顶箱的过滤器可过滤空气中的水汽、尘埃、颗粒物，有效避免因空气中的水汽、尘埃、颗粒物造成的光学元件表面质量的下降。
[0015]2、本实用新型中，净化桌的桌面上设置有用于放置光学元件的不锈钢槽体，待存储的光学元件垂直放置于不锈钢槽体内，使绝大部分的光学元件表面暴露在净化空腔内，便于流动的洁净气流清除附着在光学元件表面的灰尘等颗粒物，使光学元件的净化效果较好。
[0016]3、本实用新型中，桌面包括上层桌面和下层桌面，上层桌面和下层桌面层叠设置，因而可在净化桌上上下两层放置光学元件，提高光学元件的存储效率。
[0017]4、本实用新型中，桌轨上均布有若干通气孔，因而经由顶箱进入的洁净气流可通过通气孔进入下层桌面周围，清除附着在下层桌面上的光学元件表面的灰尘等颗粒物，提高洁净气流对下层桌面上的光学元件的净化效果。
[0018]5、本实用新型中，不锈钢槽体的两侧面和底面均铺设有聚四氟乙烯板，通过该聚四氟乙烯板可大幅降低光学元件进出不锈钢槽体时与槽体的摩擦力，从而减少槽体及外部碎肩对光学元件造成损伤。
[0019]6、本实用新型中，净化台的内侧壁上设置有用于测量净化空腔内的温度和湿度的温湿度计，净化台的外侧壁上设置有操作板，操作板与温湿度计电连接，通过该温湿度计可不间断测量净化空腔内的温度和湿度，且通过调节顶箱的离心风机的风速，可以间接调节净化桌上、下区域的温度差和湿度差，实现因上、下两层光学元件的不同提供不同温度、湿度的存储环境，减少因存储环境造成的光学元件的形变。
【附图说明】
[0020]图1为本实用新型的结构示意图；
[0021]图2为本实用新型中顶箱的结构示意图；
[0022]图3为本实用新型中净化桌的结构示意图；
[0023]图4为本实用新型中净化桌桌面的结构示意图；
[0024]其中，附图标记为:1一顶箱、2—台体、3—温湿度计、4一操作板、5—净化桌、6—净化空腔、11 一初效过滤器、12 一静电箱、13 —尚效过滤器、14 一通风孔、15 一尚心风机、51—上层桌面、52—桌架、53 —下层桌面、54 —不锈钢槽体、55 —聚四氟乙稀板、56—通气孔、57—桌轨。
【具体实施方式】
[0025]下面结合附图，对本实用新型作详细的说明。
[0026]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新