一种遮光罩成型模具的制作方法

文档序号:12790478阅读:291来源:国知局
一种遮光罩成型模具的制作方法与工艺

本实用新型涉及成型模具技术领域,尤其是涉及了一种遮光罩成型模具。



背景技术:

遮光罩的作用是防止杂光进入镜头从而起到保护作用,目前市面上的遮光罩一般为一体成型结构,且遮光罩上设置有扣位用于扣接镜头,在遮光罩脱模时,特别是对于遮光罩的扣位一般采用强制脱离的方式,因此就需要在遮光罩的扣位处设置有倒角进行过渡,而且在利用行位组件进行侧向抽芯或侧向分型时,穿过顶针板的行位机构在动作时会与顶针发生相对位移,从而在行位机构复位时,顶针会刮擦行位机构的分型面,会直接影响模具的成型精度。

因此,为了解决上述存在的问题,本实用新型特提供了一种新的技术方案。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供了一种遮光罩成型模具,能够解决现有技术存在的上述问题。

本实用新型针对上述技术缺陷所采用的技术方案是:

一种遮光罩成型模具,包括模胚,以及通过模胚配件安装在模胚上的上模座、前模板、后模板和下固定板,所述上模座上安装有导柱,所述后模板上安装有与导柱相适配的导套,所述后模板和下固定板之间上下间隔安装有推板和推杆固定板,所述推杆固定板上安装有推杆,所述下固定板上安装有推杆导柱,所述推板上安装有与推杆导柱相适配的推杆导套,所述下固定板上还安装有拉杆组件,所述前模板和后模板通过侧精定位组件辅助合模和开模操作,所述上模座和前模板之间对称设置有行位组件Ⅰ和行位组件Ⅱ,所述行位组件Ⅰ和行位组件Ⅱ包括撑板以及设置在撑板两面的限位机构和导向机构,其中导向机构包括斜压块和斜导柱,斜压块上设置有多个孔道,且斜压块的分型面上设置有让位槽。

进一步地,所述后模板上的后模仁的对边设置有一组浮动凸包。

进一步地,所述后模板上的后模仁在与产品扣位相对应的位置上设置有止挡件。

本实用新型的有益效果是:本实用新型在模仁上增设浮动凸包,能够减少物料堆叠的情况,而且在行位组件的分型面上设置有让位槽,用于在行位组件复位时避免划伤分型面的情况,有效的保证成型精度,降低成本投入,提高企业经济效益。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的另一结构示意图。

图3为本实用新型所述行位组件Ⅰ包含的导向机构的结构示意图。

图4为本实用新型所述后模板上的后模仁的剖面示意图。

其中: 1、模胚,2、上模座,3、前模板,4、后模板,5、下固定板,6、导柱,7、导套,8、推板,9、推杆固定板,10、推杆,11、推杆导柱,12、推杆导套,13、拉杆组件,14、侧精定位组件,15、行位组件Ⅰ,16、行位组件Ⅱ,17、撑板,18、限位机构,19、导向机构,20、斜压块,21、斜导柱,22、孔道,23、让位槽,24、后模仁,25、浮动凸包,26、止挡件。

具体实施方式

为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的保护范围的限定。

如图1至图4所示的一种遮光罩成型模具,包括模胚1,以及通过模胚配件安装在模胚上的上模座2、前模板3、后模板4和下固定板5,上模座2上安装有导柱6,后模板4上安装有与导柱6相适配的导套7,后模板4和下固定板5之间上下间隔安装有推板8和推杆固定板9,推杆固定板9上安装有推杆10,下固定板5上安装有推杆导柱11,推板8上安装有与推杆导柱11相适配的推杆导套12,下固定板5上还安装有拉杆组件13,前模板3和后模板4通过侧精定位组件14辅助合模和开模操作,上模座2和前模板3之间对称设置有行位组件Ⅰ15和行位组件Ⅱ16,行位组件Ⅰ15和行位组件Ⅱ16包括撑板17以及设置在撑板17两面的限位机构18和导向机构19,其中导向机构19包括斜压块20和斜导柱21,斜压块20上设置有多个孔道22,且斜压块20的分型面上设置有让位槽23。

在本实施例中,后模板4上的后模仁24的对边设置有一组浮动凸包25,用以减少产品在成型过程中出现物料堆叠的现象。

在本实施例中,后模板4上的后模仁24在与产品扣位相对应的位置上设置有止挡件26,用于遮光罩的扣位处在设置倒角时具有止挡作用,便于遮光罩的脱模操作。

本实用新型的有益效果是:本实用新型能够减少物料堆叠的情况,而且在行位组件的分型面上设置有让位槽,用于在行位组件复位时避免划伤分型面的情况,有效的保证成型精度,降低成本投入,提高企业经济效益。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。故凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型之形状、构造及原理所作的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围内。

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