一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具的制作方法

本实用新型涉及模具技术领域，尤其涉及一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具。

背景技术：

硅胶在雕塑中应用非常遍及，在制作艺术雕塑的过程中通常需要先制作一个硅胶模型，然后在硅胶模型中注入流体硅胶混合原料，待硅胶混合原料固化后，然后将其从硅胶模型中取出；然而，传统的制作硅胶模型的方法是先在模芯的表面刷上一层脱模剂，然后在模芯的表面涂覆多层制作硅胶模型原料，待原料固化再对其进行脱模操作，这个过程需要完全依靠手工操作，且需要耗费大量的时间，极大了限制硅胶模型的制作效率。

为此，我们提出一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具来解决上述问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具，包括下模座，所述下模座通过两块竖直设置的侧板连接有顶板，所述下模座上还设有一个下模和两个侧模，两块侧模在下模的两侧呈对称设置，且两个侧模分别连接在两个第一气缸的活塞杆上；所述下模座的上方水平设有一块安装板，且安装板通过两根竖杆连接在顶板的底面上，所述安装板的中部设有圆孔，所述圆孔的侧壁上均布有若干个喷头，所述顶板的底面上还安装有第二气缸，所述第二气缸的活塞杆竖直朝下并连接有模芯，所述模芯与圆孔同轴设置，所述安装板上安装有脱模剂储存罐和硅胶储存罐，所述脱模剂储存罐的出料端通过若干根支管与多个喷头一一对应连接；所述硅胶储存罐的出料端通过导管与侧模、模芯和下模形成的模腔连通。

优选的，所述侧模的下端设有滑块，且在下模座上设有与滑块匹配的滑槽。

优选的，所述脱模剂储存罐的出料端连接有第一电磁阀。

优选的，所述硅胶储存罐的出料端连接有第二电磁阀。

优选的，所述两块侧模均通过螺栓与第一气缸的活塞杆螺纹固定，所述模芯通过螺栓与第二气缸的活塞杆螺纹固定。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：通过将模芯连接在气缸上，其外侧的硅胶固化后，可将其与下模分离，便于进行脱模操作；此外，通过将模芯与安装板上的圆孔同轴设置，在制作模具前先对模芯的表面喷洒脱模剂，避免硅胶与模芯粘附牢固，进一步方便了脱模作业，有效的提高了脱模的效率。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具中安装板及其上侧结构的示意图。

图中：1下模座、2侧板、3顶板、4侧模、5第一气缸、6安装板、7圆孔、8喷头、9第二气缸、10模芯、11脱模剂储存罐、12硅胶储存罐、13下模、14竖杆、15注料管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照图1-2，一种用于艺术雕塑的硅胶制作模具，包括下模座1，其特征在于，下模座1通过两块竖直设置的侧板2连接有顶板3，下模座1上还设有一个下模13和两个侧模4，两块侧模4在下模13的两侧呈对称设置，且两个侧模4分别连接在两个第一气缸5的活塞杆上；需要说明的是，侧模4的下端设有滑块，且在下模座1上设有与滑块匹配的滑槽，侧模4可滑槽滑动，方便开模后取出硅胶模型。

下模座1的上方水平设有一块安装板6，且安装板6通过两根竖杆14连接在顶板3的底面上，安装板6的中部设有圆孔7，圆孔7的侧壁上均布有若干个喷头8，顶板3的底面上还安装有第二气缸9，第二气缸9的活塞杆竖直朝下并连接有模芯10，模芯10与圆孔7同轴设置；且在本实施例中，两块侧模4均通过螺栓与第一气缸5的活塞杆螺纹固定，模芯10通过螺栓与第二气缸9的活塞杆螺纹固定，用户可根据具体制作的硅胶模型更换合适的侧模4和模芯10，扩大了模具的适用范围。

安装板6上安装有脱模剂储存罐11和硅胶储存罐12，脱模剂储存罐11的出料端通过若干根支管与多个喷头8一一对应连接；硅胶储存罐12的出料端通过注料管15与侧模4、模芯10和下模13形成的模腔连通，且需要说明的是，脱模剂储存罐11的出料端连接有第一电磁阀，硅胶储存罐12的出料端连接有第二电磁阀，第一电磁阀和第二电磁阀与控制器的信号输出端电连接，同时控制器可控制电磁阀启闭的时间，以代替人工操作，提高硅胶模型的制作效率。

本实用新型在制作硅胶模型前先通过第二气缸9带动模芯10上移，并在其上移的过程中通过设置在圆孔7周向的多个喷头8对模芯10的表面喷洒脱模剂，方便硅胶固化后的脱出，以提高硅胶模型的制作效率。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。