技术特征：
1.一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：（1）分别按以下重量组分配制反射材料和遮光材料：反射材料包括：树脂60～90份、无机填料13.3～43.3份、阻燃剂3～6份，抗氧化剂1～3.0份和抗静电剂2～5份，遮光材料包括：树脂60～90份、黑色母料0.3～1份、阻燃剂3～6份，抗氧化剂1～3.0份和抗静电剂2～5份；（2）将均质后的反射材料和遮光材料分别送入挤出机中，经多层共挤制得膜片；（3）将膜片拉伸、定型后，即得厚度为0.05～0.25mm的薄型遮光反射片。2.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述反射材料和遮光材料中的树脂相同或不同，所述树脂选自聚丙烯树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的至少一种。3.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述无机填料选自碳酸钙、碳酸镁、碳酸锌、氧化钛、氧化锌、氧化铈、氧化镁、硫酸钡、硫化锌、磷酸钙、二氧化硅、氧化铝、云母、云母钛、滑石、粘土、高岭土、氟化锂、氟化钙中的至少一种。4.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述反射材料和遮光材料中的阻燃剂相同或不同，所述阻燃剂选自含有机磷系阻燃剂、含硅系阻燃剂中的至少一种。5.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述反射材料和遮光材料中的抗氧化剂相同或不同，所述抗氧化剂为受阻酚系热稳定剂。6.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述反射材料和遮光材料中的抗静电剂相同或不同，所述抗静电剂选自硬脂基三甲基季铵盐酸盐、硬脂酰胺丙基羟乙基季胺硝酸盐、对壬基苯氧基丙基磺酸钠中的至少一种。7.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述拉伸包括对共挤得到的膜片先纵向拉伸1.5～2倍后，再横向拉伸1.5～2倍。8.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述薄型遮光反射片具有双面结构其一面为反射材料形成的反射面，另一面为遮光材料形成的遮光面。9.根据权利要求8所述的制备工艺，其特征在于：所述反射面和/或遮光面为多层结构。
技术总结
本发明公开了一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工艺，包括以下步骤：分别按以下重量组分配制反射材料：树脂60～90份、无机填料13.3～43.3份、阻燃剂3～6份，抗氧化剂1～3.0份和抗静电剂2～5份，和遮光材料：树脂60～90份、黑色母料0.3～1份、阻燃剂3～6份，抗氧化剂1～3.0份和抗静电剂2～5份；将反射材料均质后与遮光材料共挤制得膜片；将膜片拉伸、定型后，即得厚度为0.05～0.25mm的薄型遮光反射片。本发明利用分别配置的反射材料和遮光材料，采用共挤的方式挤出制得薄型遮光反射片，可用于解决现有制备遮光反射片时存在的加工过程复杂，加工时间长以及材料成本高的问题。加工时间长以及材料成本高的问题。加工时间长以及材料成本高的问题。
技术研发人员：刁锐敏 赖新益 范家榕 朱邦峯 龙涛 李佳霖
受保护的技术使用者：四川龙华光电薄膜股份有限公司
技术研发日：2022.06.02
技术公布日：2022/8/19