一种PTFE管的连续蚀刻系统的制作方法

一种ptfe管的连续蚀刻系统
技术领域
1.本技术涉及ptfe管蚀刻技术领域，尤其涉及一种ptfe管的连续蚀刻系统。


背景技术：

2.ptfe(poly tetra fluoroethylene，聚四氟乙烯)，是一种以四氟乙烯作为单体聚合制得的高分子聚合物。由于ptfe的表面能极低，无法与其他材料进行粘接，因此为了拓展ptfe的使用范围，使ptfe制品能够与其他材料进行粘接，提高ptfe的表面能至关重要。
3.ptfe管为一种ptfe制品，为了提高ptfe管的表面能，对ptfe管表面进行改性处理。对ptfe管表面进行改性处理主要包括物理改性和化学改性两种方式。物理改性通常是将ptfe管经过等离子体处理器处理、高能辐射处理或类似原理性质的方法进行处理。化学改性通常是将ptfe管浸泡于蚀刻液中进行蚀刻，经过一定时间的浸泡，而后取出进行清洗晾干，其中，蚀刻液包括萘钠的四氢呋喃溶液或氨钠溶液。由于物理改性后的ptfe管的表面能小于化学改性后的ptfe管的表面能，且物理改性后的ptfe管表面能会在一段时间后恢复到未处理前。因此，现有技术多采用化学改性的方式提高ptfe管的表面能。
4.由于使用的蚀刻液遇水或遇空气时，蚀刻液的蚀刻效果会显著降低。因此为了尽量保障蚀刻液的活性，蚀刻液对于制品的蚀刻是在密闭的条件下进行，这使得目前ptfe管的蚀刻生产工艺基本上都是处于间歇状态或试验室阶段，同时由于化学改性过程中人为操作对于产品质量的影响程度较高，这使得ptfe蚀刻管的质量稳定性无法得到保障，ptfe蚀刻管无法连续性生产，也限制了ptfe蚀刻管的生产产量。


技术实现要素：

5.本技术提供了一种ptfe管的连续蚀刻系统，以解决人为操作对于产品质量的影响，ptfe蚀刻管无法连续性生产，限制了ptfe蚀刻管的生产产量的技术问题。
6.为了解决上述技术问题，本技术实施例公开了如下技术方案：
7.第一方面，本技术实施例公开了一种ptfe管的连续蚀刻系统，包括放卷辊、滑轮、化学试剂超声清洗槽、处理器、蚀刻槽、去离子水超声清洗槽、乙酸清洗槽、收卷辊、晾干装置和ptfe基管，其中，
8.化学试剂超声清洗槽一侧设置有放卷辊，化学试剂超声清洗槽另一侧设置有处理器；
9.蚀刻槽靠近化学试剂超声清洗槽一侧设置有处理器，蚀刻槽远离化学试剂超声清洗槽一侧设置有去离子水超声清洗槽；
10.乙酸清洗槽靠近蚀刻槽一侧设置有去离子水超声清洗槽，乙酸清洗槽远离蚀刻槽一侧设置有收卷辊，收卷辊远离乙酸清洗槽一侧设置有晾干装置；
11.放卷辊的周向方向外设有ptfe基管，ptfe基管一端与放卷辊固定，通过放卷辊放卷，ptfe基管通过若干个滑轮依次穿过化学试剂超声清洗槽、处理器、蚀刻槽、去离子水超声清洗槽、乙酸清洗槽和收卷辊，最后悬挂于晾干装置上。
12.可选的，放卷辊和收卷辊的两侧均与圆形护板固定连接，圆形护板与放卷辊和收卷辊的圆心相同。
13.可选的，放卷辊的圆形护板上部和下部对称设置有卡口，卡口的长度和宽度均与ptfe基管的直径相匹配。
14.可选的，ptfe基管穿过卡口，通过管材卡口装置与放卷辊的任意一个圆形护板固定连接。
15.可选的，管材卡口装置包括底板、连接轴、下压杆和下压杆固定装置，底板上设置有连接轴和下压杆固定装置，连接轴设置于底板一端的中部，下压杆固定装置与连接轴的距离与下压杆的长度相匹配，下压杆通过连接轴与底板相连接。
16.可选的，滑轮包括第一组滑轮，第一组滑轮设置于放卷辊、化学试剂超声清洗槽、处理器、蚀刻槽、去离子水超声清洗槽、乙酸清洗槽、收卷辊和晾干装置外，处理器为在线式等离子体处理器和电晕处理器中任意一种。
17.可选的，滑轮还包括第二组滑轮，第二组滑轮包括第一滑轮和第二滑轮，化学试剂超声清洗槽内设置有第一滑轮和第二滑轮，去离子水超声清洗槽内设置有第三滑轮和第四滑轮，第一滑轮与第二滑轮、第三滑轮与第四滑轮位置对称，化学试剂超声清洗槽底部中心设置有第一排污管口，去离子水超声清洗槽底部中心设置有第二排污管口。
18.可选的，第二组滑轮还包括第五滑轮和第六滑轮，蚀刻槽内设置有第五滑轮和第六滑轮，第五滑轮与第六滑轮位置对称，蚀刻槽侧面设置有第一观察窗口，数显温度计底部的感温探头伸入蚀刻槽内，数显温度计底部的感温探头用于满足对蚀刻槽内蚀刻液温度测量的需求，蚀刻槽外部设有夹套，夹套外部设有温控系统，夹套与温控系统相连接；
19.蚀刻槽底部与第三排污管相连通，第三排污管下部设置有排污开关，第三排污管包括第三排污管口和两个对称设置的鼓泡装置通孔，鼓泡装置通孔与鼓泡装置相连接，鼓泡装置通孔的直径与鼓泡装置的直径相匹配；
20.蚀刻槽上部设置有蚀刻槽盖板，蚀刻槽盖板两端均对称设置有半圆形第一ptfe基管缺口，蚀刻槽盖板四角均设置有蚀刻槽卡扣，蚀刻槽盖板上设置有蚀刻槽盖板把手，蚀刻槽盖板上设置有多个接气通孔。
21.可选的，第二组滑轮还包括第七滑轮、第八滑轮、第九滑轮和第十滑轮，乙酸清洗槽内设置有第七滑轮、第八滑轮、第九滑轮和第十滑轮，第七滑轮与第八滑轮位置对称，第九滑轮与第十滑轮位置对称，乙酸清洗槽底部中心设置有第四排污管口，乙酸清洗槽侧面设置有第二观察窗口；
22.乙酸清洗槽上部设置有乙酸清洗槽盖板，乙酸清洗槽盖板两端均对称设置有半圆形第二ptfe基管缺口，乙酸清洗槽盖板上对称设置有两个乙酸清洗槽盖板把手。
23.可选的，晾干装置包括晾干支架，晾干支架上部设置有多个晾干环，晾干支架底部设置有万向轮，晾干环上设置有晾干环配套卡口。
24.本技术的有益效果为：
25.本技术实施例提供的一种ptfe管的连续蚀刻系统，放卷辊的周向方向外设有ptfe基管，ptfe基管一端与放卷辊固定，通过放卷辊放卷，ptfe基管通过若干个滑轮依次穿过化学试剂超声清洗槽、处理器、蚀刻槽、去离子水超声清洗槽、乙酸清洗槽和收卷辊，最后悬挂于晾干装置上，实现了ptfe蚀刻管的连续性生产，提高了ptfe蚀刻管的生产产量，且减少了
人为操作，降低了人为操作对于产品质量的影响，进而提升了ptfe蚀刻管的质量。
26.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
28.图1为本技术实施例提供的一种ptfe管的连续蚀刻系统的结构示意图；
29.图2为本技术实施例提供的放卷辊的结构示意图；
30.图3a为本技术实施例提供的化学试剂超声清洗槽的结构示意图；
31.图3b为本技术实施例提供的去离子水超声清洗槽的结构示意图；
32.图4为本技术实施例提供的蚀刻槽的结构示意图；
33.图5为本技术实施例提供的乙酸清洗槽的结构示意图；
34.图6为本技术实施例提供的晾干装置的结构示意图；
35.其中：
36.1-放卷辊、11-圆形护板、111-卡口、12-管材卡口装置、121-底板、122-连接轴、123-下压杆、124-下压杆固定装置、2-滑轮、21-第一组滑轮、22-第二组滑轮、3-化学试剂超声清洗槽、31-第一滑轮、32-第二滑轮、33-第一排污管口、4-处理器、5-蚀刻槽、51-第五滑轮、52-第六滑轮、53-第三排污管、531-第三排污管口、532-鼓泡装置通孔、54-鼓泡装置、55-排污开关、56-第一观察窗口、57-夹套、58-数显温度计、59-蚀刻槽盖板、591-第一ptfe基管缺口、592-蚀刻槽盖板把手、593-接气通孔、594-蚀刻槽卡扣、6-去离子水超声清洗槽、61-第三滑轮、62-第四滑轮、63-第二排污管口、7-乙酸清洗槽、71-第七滑轮、72-第八滑轮、73-第九滑轮、74-第十滑轮、75-第四排污管口、76-第二观察窗口、77-乙酸清洗槽盖板、771-第二ptfe基管缺口、772-乙酸清洗槽盖板把手、8-收卷辊、9-晾干装置、91-晾干支架、92-晾干环、93-万向轮、10-ptfe基管。
具体实施方式
37.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
38.参见图1，本技术实施例公开了一种ptfe管的连续蚀刻系统，包括放卷辊1、滑轮2、化学试剂超声清洗槽3、处理器4、蚀刻槽5、去离子水超声清洗槽6、乙酸清洗槽7、收卷辊8、晾干装置9和ptfe基管10，化学试剂超声清洗槽3一侧设置有放卷辊1，化学试剂超声清洗槽3另一侧设置有处理器4；蚀刻槽5靠近化学试剂超声清洗槽3一侧设置有处理器4，蚀刻槽5远离化学试剂超声清洗槽3一侧设置有去离子水超声清洗槽6；乙酸清洗槽7靠近蚀刻槽5一侧设置有去离子水超声清洗槽6，乙酸清洗槽7远离蚀刻槽5一侧设置有收卷辊8，收卷辊8远
离乙酸清洗槽7一侧设置有晾干装置9；放卷辊1的周向方向外设有ptfe基管10，ptfe基管10一端与放卷辊1固定，通过放卷辊1放卷，ptfe基管10通过若干个滑轮2依次穿过化学试剂超声清洗槽3、处理器4、蚀刻槽5、去离子水超声清洗槽6、乙酸清洗槽7和收卷辊8，最后悬挂于晾干装置9上。实现了ptfe蚀刻管的连续性生产，提高了ptfe蚀刻管的生产产量，且减少了人为操作，降低了人为操作对于产品质量的影响，进而提升了ptfe蚀刻管的质量。
39.在一些实施例中，ptfe基管10通过若干个滑轮2穿过收卷辊8后，经人工悬挂于晾干装置9上。
40.在一些实施例中，放卷辊1和收卷辊8的两侧均与圆形护板11固定连接，圆形护板11与放卷辊1和收卷辊8的圆心相同。
41.在一些实施例中，如图2所示，放卷辊1的圆形护板11上部和下部对称设置有卡口111，卡口111的长度和宽度均与ptfe基管10的直径相匹配，使得ptfe基管10一端可通过邻近ptfe基管10一端的卡口111穿出，且卡口111的长度和宽度均大于ptfe基管10的直径，使得ptfe基管10与卡口111接触的位置卡接于卡口111，便于ptfe基管10一端的固定。
42.在一些实施例中，如图2所示，ptfe基管10穿过卡口111，通过管材卡口装置12与放卷辊1的任意一个圆形护板11固定连接。
43.在一些实施例中，放卷辊1和收卷辊8的辊面直径均为400毫米，放卷辊1和收卷辊8的辊面宽度均为200毫米，圆形护板11的直径为600毫米。
44.在一些实施例中，放卷辊1和收卷辊8均可用于放卷和收卷功能，放卷辊1和收卷辊8可选为通过同一plc控制器控制，plc控制器控制可选为控制放卷辊1和收卷辊8的速度为每分钟0-20米，放卷辊1和收卷辊8根据接收的信息进行放卷或收卷，接收的信息包括表明放卷的信息和表明收卷的信息。
45.在一些实施例中，放卷辊1和收卷辊8的棍面材质可选为塑料或纸，避免了放卷辊1和收卷辊8的辊面划伤ptfe基管10，进而提升了ptfe蚀刻管的质量。
46.在一些实施例中，如图2所示，管材卡口装置12包括底板121、连接轴122、下压杆123和下压杆固定装置124，底板121上设置有连接轴122和下压杆固定装置124，连接轴122设置于底板121一端的中部，下压杆固定装置124与连接轴122的距离与下压杆123的长度相匹配，下压杆123通过连接轴122与底板121相连接。
47.在一些实施例中，如图1所示，滑轮2包括第一组滑轮21，第一组滑轮21设置于放卷辊1、化学试剂超声清洗槽3、处理器4、蚀刻槽5、去离子水超声清洗槽6、乙酸清洗槽7、收卷辊8和晾干装置9外，处理器4为在线式等离子体处理器和电晕处理器中任意一种。
48.在一些实施例中，如图3a和图3b所示，滑轮2还包括第二组滑轮22，第二组滑轮22包括第一滑轮31和第二滑轮32，化学试剂超声清洗槽3内设置有第一滑轮31和第二滑轮32，去离子水超声清洗槽6内设置有第三滑轮61和第四滑轮62，第一滑轮31与第二滑轮32、第三滑轮61与第四滑轮62位置对称，化学试剂超声清洗槽3底部中心设置有第一排污管口33，去离子水超声清洗槽6底部中心设置有第二排污管口63。
49.在一些实施例中，化学试剂超声清洗槽3和去离子水超声清洗槽6的材质均可选为不锈钢材质，化学试剂超声清洗槽3内第一滑轮31和第二滑轮32的位置与去离子水超声清洗槽6内第三滑轮61和第四滑轮62的位置均可选为可调节。
50.化学试剂超声清洗槽3内的化学试剂的高度高于第一滑轮31和第二滑轮32上方的
ptfe基管10上表面的高度；去离子水超声清洗槽6内的去离子水的高度高于第三滑轮61和第四滑轮62上方的ptfe基管10上表面的高度，以使化学试剂和去离子水均可浸没ptfe基管10。
51.在一些实施例中，化学试剂超声清洗槽3的超声波频率可选为20-20000赫兹。
52.在一些实施例中，处理器4的改性气体可选为氮气、氩气、氧气或空气。从成本的角度考虑，处理器4的改性气体可选为空气，此外，处理器4使用在线式电晕处理器时也可以达到使用在线式等离子体处理器类似的效果。
53.处理器4的压力可选为大气压，处理器4的射频功率可选为0～1000w，其中，处理器4的射频功率可选为可调，处理器4为在线式等离子体处理器时，处理器4的等离子体处理器探头可选为对ptfe基管10进行360
°
处理。
54.在一些实施例中，如图4所示，第二组滑轮22还包括第五滑轮51和第六滑轮52，蚀刻槽5内设置有第五滑轮51和第六滑轮52，第五滑轮51与第六滑轮52位置对称，蚀刻槽5侧面设置有第一观察窗口56，数显温度计58上部与蚀刻槽5内部一角抵接，数显温度计58底部的感温探头伸入蚀刻槽5内，数显温度计58底部的感温探头用于满足对蚀刻槽5内蚀刻液温度测量的需求，蚀刻槽5外部设有夹套57，夹套57外部设有温控系统，夹套57与温控系统相连接，可通过控温系统改变夹套57内部的温度，进而改变蚀刻槽5的温度。
55.在一些实施例中，蚀刻槽5周向方向外设有夹套57。
56.蚀刻槽5底部与第三排污管53相连通，第三排污管53下部设置有排污开关55，第三排污管53包括第三排污管口531和两个对称设置的鼓泡装置通孔532，鼓泡装置通孔532与鼓泡装置54相连接，鼓泡装置通孔532的直径与鼓泡装置54的直径相匹配；
57.蚀刻槽5上部设置有蚀刻槽盖板59，蚀刻槽盖板59两端均对称设置有半圆形第一ptfe基管缺口591，以使在ptfe基管10不易被蚀刻槽盖板59划伤的前提下通过第一ptfe基管缺口591。蚀刻槽盖板59可选为与蚀刻槽5紧密连接，蚀刻槽盖板59可选为可拆卸蚀刻槽盖板59。蚀刻槽盖板59四角均设置有蚀刻槽卡扣594，蚀刻槽盖板59上设置有蚀刻槽盖板把手592，蚀刻槽盖板59上设置有多个接气通孔593用于氮封。
58.在一些实施例中，蚀刻槽5的材质均可选为不锈钢材质，蚀刻槽5内的蚀刻液的高度高于第五滑轮51和第六滑轮52上方的ptfe基管10上表面的高度，以使蚀刻液可浸没ptfe基管10。
59.在一些实施例中，鼓泡装置54与气接头相连通，便于氮气进入以进行鼓泡，接气通孔593可选为6个，接气通孔593的直径可选为6毫米，接气通孔593可选为与气接头相连接，便于通入氮气，以进行氮封。
60.在一些实施例中，蚀刻的温度范围可选为-20℃～60℃，蚀刻槽5侧边与底部可选为采用弧度的连接形式，避免清洗废液的残留。蚀刻槽5的长度可选为200毫米、蚀刻槽5的宽度可选为200毫米、蚀刻槽5的深度可选为200毫米。
61.在一些实施例中，如图5所示，第二组滑轮22还包括第七滑轮71、第八滑轮72、第九滑轮73和第十滑轮74，乙酸清洗槽7内设置有第七滑轮71、第八滑轮72、第九滑轮73和第十滑轮74，第七滑轮71与第八滑轮72位置对称，第九滑轮73与第十滑轮74位置对称，乙酸清洗槽7底部中心设置有第四排污管口75，乙酸清洗槽7侧面设置有第二观察窗口76；乙酸清洗槽7上部设置有乙酸清洗槽盖板77，乙酸清洗槽盖板77两端均对称设置有半圆形第二ptfe
基管缺口771，以使在ptfe基管10不易被乙酸清洗槽盖板77划伤的前提下通过第二ptfe基管缺口771，乙酸清洗槽盖板77上对称设置有两个乙酸清洗槽盖板把手772。
62.在一些实施例中，乙酸清洗槽7和乙酸清洗槽盖板77的材质均可选为不锈钢材质，乙酸清洗槽盖板77可选为与乙酸清洗槽7紧密连接，乙酸清洗槽盖板77可选为可拆卸乙酸清洗槽盖板77。
63.乙酸清洗槽7的长度可选为500毫米，乙酸清洗槽7的宽度可选为200毫米，乙酸清洗槽7的深度可选为200毫米。
64.第七滑轮71、第八滑轮72与第九滑轮73、第十滑轮74可选为分布在两层，即第七滑轮71和第八滑轮72上方设置有第九滑轮73和第十滑轮74。
65.在一些实施例中，乙酸清洗槽7内的乙酸溶液的高度高于第九滑轮73和第十滑轮74上方的ptfe基管10上表面的高度，以使乙酸溶液可浸没ptfe基管10。
66.在一些实施例中，如图6所示，晾干装置9包括晾干支架91，晾干支架91上部设置有多个晾干环92，晾干支架91底部设置有万向轮93，晾干环92上设置有晾干环配套卡口，其中，晾干环配套卡口用于将ptfe基管10卡接于晾干环92上，万向轮93便于晾干装置9的移动。
67.在一些实施例中，根据ptfe蚀刻管的生产需要，化学试剂超声清洗槽3、蚀刻槽5、去离子水超声清洗槽6和乙酸清洗槽7均可选为可拆卸。
68.在一些实施例中，本技术实施例提供的ptfe管的连续蚀刻系统的所处空间内还包括用于送新风的空调和用于排出旧风的抽风机，空调的进风量与抽风机的抽风量相同，抽风机通过伸缩式抽风管与抽风罩相连接，抽风罩设置于蚀刻槽5的正上方，提升了本技术实施例提供的ptfe管的连续蚀刻系统的安全性。
69.此外，关于化学试剂超声清洗槽3、蚀刻槽5、去离子水超声清洗槽6和乙酸清洗槽7的液位控制，蚀刻槽5内蚀刻液温度的控制，蚀刻槽5内鼓泡氮封压力的控制，ptfe基管10张力的控制，ptfe管连续蚀刻系统所处空间的风压、温度、湿度控制均可以引入自动控制系统进行调节，以进一步提高ptfe管连续蚀刻系统的自动化与智能化程度。
70.由于以上实施方式均是在其他方式之上引用结合进行说明，不同实施例之间均具有相同的部分，本说明书中各个实施例之间相同、相似的部分互相参见即可。在此不再详细阐述。
71.需要说明的是，在本说明书中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的电路结构、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种电路结构、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，有语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的电路结构、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
72.本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的公开后，将容易想到本技术的其他实施方案。本技术旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本技术的一般性原理并包括本技术未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本技术的真正范围和精神由权利要
求的内容指出。
73.以上所述的本技术实施方式并不构成对本技术保护范围的限定。