1.本技术属于光学膜制造技术领域,具体涉及一种光学膜及其制造方法、光学器件。
背景技术:2.光学膜常采用薄膜堆叠工艺制造而成,其可改变光波的传递特性,包括光的投射、反射、吸收、散射、偏振及相位等。
3.常规的光学膜的制造方法为:在基材上涂布单层药液,形成功能层,之后将由上述步骤形成的多层功能层进行堆叠,从而形成光学膜。由于每层功能层包括基材和药液层两部分,并且基材层一般不具备粘性,所以在多层功能层进行堆叠的过程中,相邻两层功能层需要通过粘连层相连。但随着功能层的增多,累积的粘连层和中间无用的基材会增加,这会导致光学膜的厚度增加、柔韧性变差,而且会降低光学膜的光学性能。
技术实现要素:4.本技术实施例的目的是提供一种光学膜及其制造方法、光学器件,能够解决目前光学膜的厚度大、柔韧性差和光学性能差的问题。
5.为了解决上述技术问题,本技术是这样实现的:
6.本技术实施例提供了一种光学膜的制造方法,包括:
7.配置第一功能材料溶液和第二功能材料溶液;
8.在基材上涂布第一功能材料溶液,形成第一功能层;
9.对第一功能层进行第一电离处理,以使第一功能层的表面产生极性部位;
10.在第一功能层的表面上涂布第二功能材料溶液,形成第二功能层。
11.本技术实施例提供了一种光学膜,采用上述的制造方法制造而成,光学膜包括第一功能层和第二功能层,第二功能层叠置于第一功能层的表面。
12.本技术实施例提供了一种光学器件,包括上述的光学膜。
13.本技术实施例中,对第一功能层进行了第一电离处理,如此可使第一功能层的表面产生极性部位,有利于附着外物,因此可直接在第一功能层的表面涂布第二功能材料溶液,以形成第二功能层。由此可见,由本技术实施例的制造方法制造而成的光学膜的第一功能层和第二功能层之间未通过粘连层相连,且第二功能层可直接涂布于第一功能层,而无需涂布于单独的基材上,因此该光学膜的厚度较小、体积轻薄、柔韧性较好,且光学性能较好。此外,省略了粘连层后,无需在第一功能层和第二功能层之间进行粘连工艺,如此可避免由于粘连工艺导致膜层损坏的问题。
附图说明
14.图1为本技术实施例公开的光学膜的制造方法的流程图;
15.图2为本技术实施例公开的光学膜的结构示意图。
具体实施方式
16.下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
17.本技术的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便本技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施,且“第一”、“第二”等所区分的对象通常为一类,并不限定对象的个数,例如第一对象可以是一个,也可以是多个。此外,说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一,字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
18.下面结合附图,通过具体的实施例及其应用场景对本技术实施例提供的光学膜及其制造方法、光学器件进行详细地说明。
19.如图1所示,本技术实施例公开了一种光学膜的制造方法,包括:
20.s100、配置第一功能材料溶液和第二功能材料溶液;
21.该步骤可将第一功能材料与溶剂混合,得到第一功能材料溶液,将第二功能材料与溶剂混合,得到第二功能材料溶液。
22.s200、在基材上涂布第一功能材料溶液,形成第一功能层;
23.这里的基材可由pet(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、tac(三醋酸纤维薄膜)、玻璃等材料制成。可选地,基材的厚度为1~5000μm。若基材的厚度小于1μm,在涂布第一功能材料溶液过程中,基材容易变形,这将导致形成的第一功能层和第二功能层不均一。在一些使用场合下,如对光学膜的厚度要求不高的情况下,光学膜可保留基材,此时若基材的厚度大于5000μm,则会降低形成的光学膜的光学性能。
24.s300、对第一功能层进行第一电离处理,以使第一功能层的表面产生极性部位;
25.可选地,第一电离处理为等离子处理、电晕处理、x射线照射处理、y射线照射处理、激光照射处理和冲击波处理中的任意一种。
26.s400、在第一功能层的表面上涂布第二功能材料溶液,形成第二功能层。
27.这里的第一功能层的表面是指第一功能层远离基材一侧的表面。可选地,第一功能层和第二功能层的厚度均为1~1000μm。
28.本技术实施例中,对第一功能层进行了第一电离处理,如此可使第一功能层的表面产生极性部位,有利于附着外物,因此可直接在第一功能层的表面涂布第二功能材料溶液,以形成第二功能层。由此可见,由本技术实施例的制造方法制造而成的光学膜的第一功能层和第二功能层之间未通过粘连层相连,且第二功能层可直接涂布于第一功能层,而无需涂布于单独的基材上,因此该光学膜的厚度较小、体积轻薄、柔韧性较好,且光学性能较好。此外,省略了粘连层后,无需在第一功能层和第二功能层之间进行粘连工艺,如此可避免由于粘连工艺导致的膜层损坏的问题。
29.需要说明的是,这里的第一功能层和第二功能层是两种不同的功能层,但可以参照本技术实施例的制造方法,采用多个子功能层堆叠成为第一功能层和/或第二功能层。第一功能层和第二功能层中的至少一者为保护层、防眩层、防反射层、抗静电层和硬涂层中的
任意一种。保护层可减小其他功能层或者电子设备损伤的风险;防眩层可减轻用户的眼睛疲劳;防反射层可减少光学膜对光的反射;抗静电层可防止灰尘和杂质被吸附于光学膜;硬涂层可使光学膜基体保持良好韧性、高耐磨性和较高强度。
30.在一种可选的实施例中,光学膜的制造方法还包括:
31.循环进行s500逐层涂布步骤n次,n大于或等于1;
32.s500包括:
33.s510、配置第n+2功能材料溶液;
34.s520、对第n+1功能层进行第n+1电离处理,以使第n+1功能层的表面产生极性部位;
35.s530、在第n+1功能层的表面上涂布第n+2功能材料溶液,形成第n+2功能层;
36.其中,相邻两个功能层的材料互不相同。
37.具体来讲,若总循环次数n等于2,这里的s500则为:
38.第一次循环涂布步骤:配置第三功能材料溶液;对第二功能层进行第二电离处理,以使第二功能层的表面产生极性部位;在第二功能层的表面上涂布第三功能材料溶液,形成第三功能层。此时,光学膜包括第一功能层、第二功能层和第三功能层,相较于常规技术,可减少两层粘连层,光学膜的总厚度可减少20μm~50μm。
39.第二次循环涂布步骤:配置第四功能材料溶液;对第三功能层进行第三电离处理,以使第三功能层的表面产生极性部位;在第三功能层的表面上涂布第四功能材料溶液,形成第四功能层。此时,光学膜包括第一功能层、第二功能层、第三功能层和第四功能层。
40.可选地,可直接在基材的表面上涂布第一功能材料溶液。但一般基材的水滴角较大,第一功能材料溶液不能很好地贴合在基材上,如此易使第一功能材料溶液在基材上涂布不均一。在一种可选的实施例中,在基材上涂布第一功能材料溶液的步骤之前,还包括:
41.s600、对基材的表面进行电离处理,以使基材的表面产生极性部位。
42.本实施例可使基材的表面产生极性部位,减小基材的水滴角,更有利于附着第一功能材料溶液,使第一功能材料溶液更好地贴合在基材上,减小第一功能材料在基材上涂布不均一的风险,从而提高光学膜的光学性能。
43.涂布于基材上的第一功能材料溶液含有溶剂,可以通过自然干燥的方式使溶剂挥发,从而得到所需的第一功能层;同理,涂布于第一功能层上的第二功能材料溶液中的溶剂也可通过自然干燥的方式使溶剂挥发,从而得到所需的第二功能层。然而,自然干燥的干燥效率较低。在一些实施例中,可直接对涂布后的第一功能材料溶液进行干燥处理,如此可提高干燥效率,但由于干燥处理的处理温度较高,在对第一功能材料溶液进行干燥的过程中,第一功能材料溶液会大面积沸腾,如此将会使得第一功能材料溶液在基材上分布不均;同理,也可对第二功能材料溶液直接进行干燥处理。
44.在一种可选的实施例中,s200中的形成第一功能层的步骤具体为:
45.s210、对涂布后的第一功能材料溶液进行预干燥处理;
46.s220、对预干燥处理后的第一功能材料溶液进行干燥处理;
47.s230、对干燥处理后的第一功能材料溶液进行固化处理;
48.其中,预干燥处理的处理温度小于干燥处理的处理温度。
49.本实施例通过预干燥处理先蒸发掉第一功能材料溶液中的部分溶剂后,再对第一
功能材料溶液进行干燥处理,可使溶剂完全蒸发,从而提高光学膜的生产效率。另外,本实施例的预干燥处理的处理温度小于干燥处理的处理温度,如此可防止在预干燥处理时,温度过高而造成大面积的溶剂沸腾的问题,从而减小第一功能材料溶液在基材上分布不均的风险。
50.s400中的形成第二功能层的步骤具体为:
51.s410、对涂布后的第二功能材料溶液进行预干燥处理;
52.s420、对预干燥处理后的第二功能材料溶液进行干燥处理;
53.s430、对干燥处理后的第二功能材料溶液进行固化处理;
54.其中,预干燥处理的处理温度小于干燥处理的处理温度。
55.本实施例通过预干燥处理先蒸发掉第二功能材料溶液中的部分溶剂后,再对第二功能材料溶液进行干燥处理,可使溶剂完全蒸发,从而提高光学膜的生产效率。另外,本实施例的预干燥处理的处理温度小于干燥处理的处理温度,如此可防止在预干燥处理时,温度过高而造成大面积的溶剂沸腾的问题,从而减小第二功能材料溶液在第一功能层上分布不均的风险。
56.在步骤s210和步骤s410中,预干燥处理的处理温度可灵活选择,但当处理温度较小时,干燥效率不够高,处理温度较大时,则容易使第一功能材料溶液或第二功能材料溶液大面积沸腾;在步骤s220和步骤s420中,干燥处理的处理温度可灵活选择,但当处理温度较小时,干燥效率不够高,处理温度较大时,则容易损伤第一功能材料或第二功能材料。在一种可选的实施例中,预干燥处理的处理温度为40~70℃,干燥处理的处理温度为100~150℃。在步骤s210和步骤s410中,预干燥处理的处理温度为40~70℃,从而在提升干燥效率的同时,防止第一功能材料溶液和第二功能材料溶液大面积沸腾;在步骤s220和步骤s420中,干燥处理的处理温度为100~150℃,从而在提升干燥效率的同时,防止损伤第一功能材料和第二功能材料。
57.在一种可选的实施例中,光学膜的制造方法还包括:
58.s600、去除基材,以形成光学膜。本实施例适用于对光学膜的厚度要求较高的设备,可通过去除基材使得光学膜更薄,从而满足光学膜的厚度要求。
59.如图2所示,本技术实施例还公开了一种光学膜,采用上述任一实施例所述的制造方法制造而成,光学膜包括第一功能层和第二功能层,第二功能层叠置于第一功能层的表面。需要说明的是,光学膜可包括基材,也可不包括基材。
60.可选地,光学膜为反射膜、滤光片、偏光片、配向膜、扩散膜、聚光片和遮光膜中的任意一种。
61.本实施例的光学膜的第一功能层和第二功能层之间未通过粘连层相连,且第二功能层直接设于第一功能层,而无需通过单独的基材间接地设于第一功能层上,因此该光学膜的厚度较小、体积轻薄、柔韧性较好,且光学性能较好。此外,省略了粘连层后,无需在第一功能层和第二功能层之间进行粘连工艺,如此可避免由于粘连工艺导致的膜层损坏的问题。
62.本技术实施例还公开了一种光学器件,包括上述的光学膜。可选地,光学器件还包括发光源。本实施例的光学膜的第一功能层和第二功能层之间未通过粘连层相连,且第二功能层直接设于第一功能层,而无需通过单独的基材间接地设于第一功能层上,因此该光
学膜的厚度较小、体积轻薄、柔韧性较好,且光学性能较好。此外,省略了粘连层后,无需在第一功能层和第二功能层之间进行粘连工艺,如此可避免由于粘连工艺导致的膜层损坏的问题。
63.本技术上文实施例中重点描述的是各个实施例之间的不同,各个实施例之间不同的优化特征只要不矛盾,均可以组合形成更优的实施例,考虑到行文简洁,在此则不再赘述。上面结合附图对本技术的实施例进行了描述,但是本技术并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本技术的启示下,在不脱离本技术宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,均属于本技术的保护之内。