锅炉系统锅炉水的水质监测设备的制作方法

1.本技术涉及水质监测设备的领域，尤其涉及锅炉系统锅炉水的水质监测设备。


背景技术：

2.锅炉水监测是对锅炉给水和锅炉中的炉水的水质进行分析监测的过程。现有的锅炉水质监测装置结构包括两个冷却罐，两个冷却罐分别一一对应与给水管路和炉水管路连接，给水管路分别连接至在线式水的硬度测量仪、电导率测量仪一、ph仪、溶解氧测量仪，炉水管路连接至水的电导率测量仪二，两个冷却罐上均布置有冷却水管。
3.上述现有技术通过采用各冷却管道作用于两个冷却罐并分别对锅炉给水和锅炉中的炉水进行冷却，使得降温后的水进入到各水质监测仪器中进行检测，各冷却管道作用于两个冷却罐，两个冷却罐温度降低后再分别对锅炉给水和炉水进行降温，降温效果较差，且难控制管道中热水的温度，造成检测结果不准确的现象。


技术实现要素：

4.本技术提供锅炉系统锅炉水的水质监测设备，便于检测锅炉给水和炉水的温度，有效的提高了锅炉水的水质监测结果的准确性。
5.本技术提供了锅炉系统锅炉水的水质监测设备，包括冷却罐以及与冷却罐连接的制冷系统，冷却罐具有用于盛接锅炉给水的给水腔和用于盛接锅炉内炉水的炉水腔，冷却罐的罐身上布置有连接座，连接座靠近冷却罐的表面布置有第一容水腔和第二容水腔，第一容水腔与给水腔连通，第二容水腔与炉水腔连通，连接座上布置有第一温度传感器和第二温度传感器，第一温度传感器的感应端和第二温度传感器的感应端均分别一一对应穿进第一容水腔和第二容水腔中，冷却罐上布置有给水进管和炉水进管，给水进管与给水腔连通，炉水进管与炉水腔连通，冷却罐上布置有给水出管和炉水出管，给水出管与给水腔连通，炉水出管与炉水腔连通，给水出管与炉水出管远离冷却罐的一端均分别布置有水质监测仪。
6.通过上述设置，布置冷却系统向冷却罐供应冷气，在冷却罐内布置给水腔和炉水腔，实现同时对锅炉给水和锅炉内的炉水进行降温处理的效果，使得锅炉给水和锅炉内的炉水共用一个冷却源，使得整个装置结构更加紧凑，便于组装，布置第一温度传感器和第二温度传感器方便对给水腔内的给水和炉水腔内的炉水进行温度监测，在冷却罐上布置连接座，为第一温度传感器和第二温度传感器提供安装条件，在连接座上布置第一容水腔和第二容水腔，更方便第一温度传感器和第二温度传感器分别与给水和炉水接触，在冷却罐上布置给水进管和炉水进管，方便向给水腔和炉水腔内供料，在冷却罐上布置给水出管和炉水出管，方便冷却好的给水和炉水进入到水质监测仪中，从而能便于检测锅炉给水和炉水的温度，有效的提高了锅炉水的水质监测结果的准确性。
7.进一步地，制冷系统包括布置于冷却罐上的两处冷气进管，两处冷气进管均分别一一对应与给水腔和炉水腔连通，两处冷气进管远离冷却罐的一端布置有制冷机，冷却罐
上还布置有两处排气管，两处排气管均分别一一对应与给水腔和炉水腔连通，两处排气管与制冷机的进气口连通。
8.通过上述设置，布置制冷机为冷却罐提供冷气，制冷机中产生的冷气在两个冷气进管的作用下分别运输到给水腔和炉水腔中，对给水腔和炉水腔内的液态水进行降温换热，在冷气管上布置两处排气管，便于将给水腔和炉水腔内换热后的气体运输到制冷机中，实现冷气循环，且冷气直接作用于给水腔和炉水腔，有效的提高了整个冷却罐的冷却效率。
9.基于本技术的锅炉系统锅炉水的水质监测设备，制冷机向冷却罐供应冷气，在冷却罐内布置给水腔和炉水腔，实现同时对锅炉给水和锅炉内的炉水进行降温处理的效果，使得锅炉给水和锅炉内的炉水共用一个冷却源，使得整个装置结构更加紧凑，便于组装，布置第一温度传感器和第二温度传感器方便对给水腔内的给水和炉水腔内的炉水进行温度监测，在冷却罐上布置连接座，为第一温度传感器和第二温度传感器提供安装条件，在连接座上布置第一容水腔和第二容水腔，更方便第一温度传感器和第二温度传感器分别与给水和炉水接触，在冷却罐上布置给水进管和炉水进管，方便向给水腔和炉水腔内供料，在冷却罐上布置给水出管和炉水出管，方便冷却好的给水和炉水进入到水质监测仪中，从而能便于检测锅炉给水和炉水的温度，有效的提高了锅炉水的水质监测结果的准确性。
附图说明
10.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
11.图1为本技术实施例中的锅炉系统锅炉水的水质监测设备的立体示意图；
12.图2为本技术实施例中的锅炉系统锅炉水的水质监测设备的冷却罐的全剖示意图。
13.附图标记：1、机架；2、冷却罐；201、给水腔；202、炉水腔；3、连接座；4、第一容水腔；5、第二容水腔；6、第一温度传感器；7、第二温度传感器；8、给水进管；9、炉水进管；10、第一电磁阀；12、给水出管；13、炉水出管；14、第二电磁阀；15、第二动力泵；16、水质监测仪；17、冷气进管；18、制冷机；19、三通连接头；20、排气管。
具体实施方式
14.为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
15.请参阅图1至图2，本技术提出锅炉系统锅炉水的水质监测设备，包括机架1，机架1上布置有冷却罐2以及与冷却罐2连接的制冷系统，冷却罐2具有用于盛接锅炉给水的给水腔201和用于盛接锅炉内炉水的炉水腔202。
16.冷却罐2的罐身上固定有连接座3，连接座3靠近冷却罐2的表面布置有第一容水腔4和第二容水腔5，第一容水腔4和第二容水腔5位于同一水平高度。第一容水腔4与给水腔201连通，第二容水腔5与炉水腔202连通，连接座3上布置有第一温度传感器6和第二温度传
感器7。
17.第一温度传感器6的感应端穿进第一容水腔4中，对给水腔201中的锅炉给水进行测温，第二温度传感器7的感应端穿进第二容水腔5，对炉水腔202中的来自锅炉内的炉水进行测温。冷却罐2上布置有给水进管8和炉水进管9，给水进管8与给水腔201连通，炉水进管9与炉水腔202连通，给水进管8和炉水进管9上均分别布置有第一电磁阀10和第一动力泵(图中未示出)。
18.冷却罐2上布置有给水出管12和炉水出管13，给水出管12与给水腔201连通，炉水出管13与炉水腔202连通。给水出管12和炉水出管13均分别布置有第二电磁阀14和第二动力泵15，给水出管12与炉水出管13远离冷却罐2的一端均分别布置有水质监测仪16。
19.通过上述设置，布置冷却系统向冷却罐2供应冷气，在冷却罐2内布置给水腔201和炉水腔202，实现同时对锅炉给水和锅炉内的炉水进行降温处理的效果，锅炉给水和锅炉内的炉水共用一个冷却源，使得整个装置结构更加紧凑，便于组装。布置第一温度传感器6和第二温度传感器7方便对给水腔201内的锅炉给水和炉水腔202内的炉水进行温度监测。在冷却罐2上布置连接座3，为第一温度传感器6和第二温度传感器7提供安装条件。在连接座3上布置第一容水腔4和第二容水腔5，更方便第一温度传感器6和第二温度传感器7分别与给水和炉水接触。在冷却罐2上布置给水进管8和炉水进管9，方便向给水腔201和炉水腔202内供料。在冷却罐2上布置给水出管12和炉水出管13，方便冷却好的给水和炉水进入到水质监测仪16中。从而能便于检测锅炉给水和炉水的温度，有效的提高了锅炉水的水质监测结果的准确性。
20.为实现制冷系统向冷却罐2中运输冷气，制冷系统包括布置于冷却罐2上的两处冷气进管17，两处冷气进管17均分别一一对应与给水腔201和炉水腔202连通，两处冷气进管17远离冷却罐2的一端布置有制冷机18，且两个冷气管与制冷机18的冷气出口通过三通连接头19连接并连通。冷却罐2上还布置有两处排气管20，两处排气管20均分别一一对应与给水腔201和炉水腔202连通，两处排气管20通过三通连接头19与制冷机18的进气口连通。
21.通过上述设置，布置制冷机18为冷却罐2提供冷气，制冷机18中产生的冷气在两个冷气进管17的作用下分别运输到给水腔201和炉水腔202中，对给水腔201和炉水腔202内的液态水进行降温换热，在冷气管上布置两处排气管20，便于将给水腔201和炉水腔202内换热后的气体运输到制冷机18中，实现冷气循环，且冷气直接作用于给水腔201和炉水腔202，有效的提高了整个冷却罐2的冷却效率。
22.综上所述，在对锅炉的水质进行监测时，先将锅炉给水和锅炉的炉内水分别通过给水进管8和炉水进管9运输到给水腔201和冷水腔中。制冷机18向冷却罐2供应冷气，冷气经两个冷气进管17分别运送至给水腔201和炉水腔202中，对锅炉给水和锅炉的炉内水分别进行降温处理。同时第一温度传感器6和第二温度传感器7分别对给水腔201内的锅炉给水和炉水腔202内的炉水进行温度监测，方便确定锅炉给水和炉水的具体温度，达到一定稳定后。将锅炉给水通过给水出管12排向水质监测仪16，将锅炉的炉内水通过炉水出管13排向水质监测仪16。从而能便于检测锅炉给水和炉水的温度，有效的提高了锅炉水的水质监测结果的准确性。
23.本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本技术的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所
示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
24.以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。