一种扩散氧化炉的载片装置的制作方法

文档序号:28189820发布日期:2021-12-25 01:50阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:包括两个端板(1)、两个上支撑杆(2)和两个下支撑杆(3),两个上支撑杆(2)和两个下支撑杆(3)连接于两个端板(1)之间围城一个方框结构,两个上支撑杆(2)之间设于多个沿上支撑杆(2)长度方向间隔布置的上支撑棒(4),两个下支撑杆(3)之间设有多个沿下支撑杆(3)长度方向间隔布置的下支撑棒(5),相邻两个上支撑棒(4)下方对应两个下支撑棒(5)且四者围成载片存放区(6),在载片存放区(6)内,两个上支撑棒(4)之间的间距大于两个下支撑棒(5)之间的间距。2.根据权利要求1所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述载片装置还包括至少一个中间加强板(7),所述中间加强板(7)设于两个端板(1)之间,各上支撑杆(2)和各下支撑杆(3)支撑在中间加强板(7)上。3.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述中间加强板(7)设有透气孔(71)或透气槽。4.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述端板(1)和中间加强板(7)的底部设有用于上料装置通过的上料避让槽(11)。5.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述端板(1)和中间加强板(7)的底部均设有两个支撑角(12),两个支撑角(12)之间具有间隙以形成供上料装置通过的上料避让槽(11)。6.根据权利要求1至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述端板(1)的外侧上设有抓耳(8)。7.根据权利要求1至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述上支撑棒(4)上设有多个用于卡放硅片(9)的上卡槽(41),所述下支撑棒(5)上设有多个用于卡放硅片(9)的下卡槽(51)。8.根据权利要求7所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述上卡槽(41)和下卡槽(51)均倾斜设置。9.根据权利要求2至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述端板(1)与上支撑杆(2)、下支撑杆(3)之间为焊接连接,所述中间加强板(7)与上支撑杆(2)、下支撑杆(3)之间为焊接连接,所述上支撑棒(4)和上支撑杆(2)之间为焊接连接,所述下支撑棒(5)与下支撑杆(3)之间为焊接连接。10.根据权利要求1所述的扩散氧化炉的载片装置,其特征在于:所述方框结构设置多个,多个方框结构依次拼接成一个整体,相邻两个方框结构通过前后两个端板(1)固定连接。

技术总结
本实用新型公开了一种扩散氧化炉的载片装置,包括两个端板、两个上支撑杆和两个下支撑杆,两个上支撑杆和两个下支撑杆连接于两个端板之间围城一个方框结构,两个上支撑杆之间设有多个沿上支撑杆长度方向间隔布置的上支撑棒,两个下支撑杆之间设有多个沿下支撑杆长度方向间隔布置的下支撑棒,相邻两个上支撑棒下方对应两个下支撑棒且四者围成载片存放区,在载片存放区内,两个上支撑棒之间的间距大于两个下支撑棒之间的间距。本实用新型解决了在相同的工艺时间内产能受到限制的问题,提高了工艺效果和工艺质量。工艺效果和工艺质量。工艺效果和工艺质量。


技术研发人员:吴志明 赵志然 龙辉
受保护的技术使用者:湖南红太阳光电科技有限公司
技术研发日:2021.07.13
技术公布日:2021/12/24
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