一种晶圆清洗工艺专用烘干设备的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆烘干技术领域，特别涉及一种晶圆清洗工艺专用烘干设备。


背景技术：

2.半导体晶圆片清洗旨在去除半导体晶圆片制造过程中引入的各种污染物质。半导体晶圆片清洗质量的优劣对晶圆片的成品率以及可靠性有非常大的影响。在清洗的过程中，使用加热后的清洗液在清洗槽中对晶圆片进行清洗，清洗完毕后将放置在烘干箱中进行烘干。
3.现有的烘干箱在晶圆放置时，是将其直接放置在晶圆托盘上进行烘干，晶圆与晶圆托盘的端面接触被遮挡，导致烘干效果较差，为了保证晶圆的烘干效果，需要对晶圆进行翻面处理，比较麻烦，因此，本技术提供了一种晶圆清洗工艺专用烘干设备来满足需求。


技术实现要素：

4.本技术的目的在于提供一种晶圆清洗工艺专用烘干设备，热风机产生的热风从上至下流动，使得竖直设置的晶圆的两端面均可以与流动的热风接触，从而同时对晶圆的两面进行干燥，上下晶圆的错位设置，可避免从上方晶圆上滴落的水滴直接滴落到下方晶圆上，且竖直设置的晶圆有利于其上水滴通过自身重力以及向下的风力作用向下滴落。
5.为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种晶圆清洗工艺专用烘干设备，包括柜体，所述柜体上安装有热风机，所述柜体的顶板内部设置有气腔，且所述气腔与所述热风机的出气管相通，所述柜体的顶部设置有若干个与所述气腔相通的排气管，所述柜体的内腔安装有方便同时对晶圆两端面进行烘干的安装架，所述安装架设置有两个，且呈上下设置，位于所述安装架的下方设置有四棱锥形的接液槽，且所述接液槽的出液端与出液管连接，所述出液管的排液端贯穿所述柜体。
6.优选的，所述安装架包括呈对称安装在所述柜体内腔的两个支撑杆，且两个所述支撑杆上相对应的位置处均倾斜设置有卡槽，所述卡槽的边沿设置有导向弧面，位于下方的两个所述支撑杆上的卡槽与位于上方的两个所述支撑杆上的卡槽错位设置。
7.优选的，还包括用于调节两所述支撑杆之间距离是适应对不同直径晶圆进行支撑限位的调节单元，所述调节单元包括四个呈两两对称设置在所述柜体内壁上的安装块，且四个所述安装块的滑槽内均滑动安装有两个滑块，八个所述滑块分别与相对应的四个所述支撑杆的端部固定连接，位于同侧的两个安装块之间转动设置有螺杆，且所述螺杆的正向螺纹段和反向螺纹段上均螺纹套接有螺纹管，两个所述螺纹管上均转动设置有两个活动杆，且所述活动杆均通过其端部设置的套环套接在所述支撑杆上。
8.优选的，八个所述滑块的上下端均安装有万向滚珠，且所述安装块的滑槽内设置有与所述万向滚珠相适配的滑道。
9.优选的，所述出液管的排液端口下半封闭且倾斜安装有斜管，且所述斜管的下端螺纹连接有接液瓶。
10.综上，本实用新型的技术效果和优点：
11.1、本实用新型结构合理，热风机产生的热风从上至下流动，使得竖直设置的晶圆的两端面均可以与流动的热风接触，从而同时对晶圆的两面进行干燥，上下晶圆的错位设置，可避免从上方晶圆上滴落的水滴直接滴落到下方晶圆上，且竖直设置的晶圆有利于其上水滴通过自身重力以及向下的风力作用向下滴落，有利于提高对晶圆的烘干效率；
12.2、本实用新型中，设置有调节单元，可通过转动螺杆，使得螺杆上的两螺纹管带动活动杆做相对或背向运动，从而改变同一高度的两支撑杆之间的距离，进而改变两支撑杆上相对位置卡槽之间的距离，以实现对不同直径的晶圆的支撑限位，使得本柜体可对不同直径的晶圆进行烘干操作。
附图说明
13.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
14.图1为本实用新型立体结构示意图；
15.图2为本实用新型图1安装架结构示意图；
16.图3为本实用新型图2中支撑杆局部结构示意图；
17.图4为本实用新型图1中安装架上晶圆错位放置图；
18.图5为本实用新型图1中出液管与斜管安装结构图。
19.图中：1、柜体；2、热风机；3、安装架；31、支撑杆；32、卡槽；33、导向弧面；4、调节单元；41、螺杆；42、螺纹管；43、活动杆；44、套环；45、安装块；46、滑块；47、万向滚珠；5、接液槽；6、出液管；7、排气管；8、斜管；9、接液瓶。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
21.实施例：参考图1-4所示的一种晶圆清洗工艺专用烘干设备，包括柜体1，柜体1上安装有热风机2，柜体1的顶板内部设置有气腔，且气腔与热风机2的出气管相通，柜体1的顶部设置有若干个与气腔相通的排气管7，柜体1的内腔安装有方便同时对晶圆两端面进行烘干的安装架3，安装架3设置有两个，且呈上下设置，位于安装架3的下方设置有四棱锥形的接液槽5，且接液槽5的出液端与出液管6连接，出液管6的排液端贯穿柜体1。
22.作为本实施例中的一种优选地实施方式，如图3和图4所示，安装架3包括呈对称安装在柜体1内腔的两个支撑杆31，且两个支撑杆31上相对应的位置处均倾斜设置有卡槽32，卡槽32的边沿设置有导向弧面33，位于下方的两个支撑杆31上的卡槽32与位于上方的两个支撑杆31上的卡槽32错位设置，在对晶圆进行烘干时，可将晶圆竖直插接在两个支撑杆31上相对位置设置有的卡槽32内，通过卡槽32的内壁对晶圆的边沿形成阻挡，从而对晶圆
形成限位支撑，将上下两安装架3上均放置好晶圆后，上方放置的若干个晶圆与下方放置的若干个晶圆呈错位设置，热风机2产生的热风从上至下流动，使得竖直设置的晶圆的两端面均可以与流动的热风接触，从而同时对晶圆的两面进行干燥，上下晶圆的错位设置，可避免从上方晶圆上滴落的水滴直接滴落到下方晶圆上，且竖直设置的晶圆有利于其上水滴通过自身重力以及向下的风力作用向下滴落，从晶圆上滴落的水滴可进入接液槽5中并最终从出液管6排出，其加热产生的湿气也从出液管6排出，其导向弧面33的设置有利于晶圆与卡槽32的导向插接。
23.作为本实施例中的一种优选地实施方式，如图2所示，还包括用于调节两支撑杆31之间距离是适应对不同直径晶圆进行支撑限位的调节单元4，调节单元4包括四个呈两两对称设置在柜体1内壁上的安装块45，且四个安装块45的滑槽内均滑动安装有两个滑块46，八个滑块46分别与相对应的四个支撑杆31的端部固定连接，位于同侧的两个安装块45之间转动设置有螺杆41，且螺杆41的正向螺纹段和反向螺纹段上均螺纹套接有螺纹管42，两个螺纹管42上均转动设置有两个活动杆43，且活动杆43均通过其端部设置的套环44套接在支撑杆31上，可通过转动螺杆41，使得螺杆41上的两螺纹管42带动活动杆43做相对或背向运动，从而改变同一高度的两支撑杆31之间的距离，进而改变两支撑杆31上相对位置卡槽32之间的距离，以实现对不同直径的晶圆的支撑限位，使得本柜体1可对不同直径的晶圆进行烘干操作。
24.在本实施例中，如图3所示，八个滑块46的上下端均安装有万向滚珠47，且安装块45的滑槽内设置有与万向滚珠47相适配的滑道，可减小滑块46与安装块45之间的摩擦力作用，降低人员转动螺杆41时1所克服的阻力。
25.作为本实施例中的一种优选地实施方式，如图5所示，出液管6的排液端口下半封闭且倾斜安装有斜管8，且斜管8的下端螺纹连接有接液瓶9，可通过接液瓶9对滴落下来的水进行收集，其湿气可从排液端口上半部未封闭的开口处排出。
26.本实用工作原理：在对晶圆进行烘干时，可将晶圆竖直插接在两个支撑杆31上相对位置设置有的卡槽32内，通过卡槽32的内壁对晶圆的边沿形成阻挡，从而对晶圆形成限位支撑，将上下两安装架3上均放置好晶圆后，上方放置的若干个晶圆与下方放置的若干个晶圆呈错位设置，热风机2产生的热风从上至下流动，使得竖直设置的晶圆的两端面均可以与流动的热风接触，从而同时对晶圆的两面进行干燥，上下晶圆的错位设置，可避免从上方晶圆上滴落的水滴直接滴落到下方晶圆上，且竖直设置的晶圆有利于其上水滴通过自身重力以及向下的风力作用向下滴落，从晶圆上滴落的水滴可进入接液槽5中并最终从出液管6排出，其加热产生的湿气也从出液管6排出；
27.设置有调节单元4，可通过转动螺杆41，使得螺杆41上的两螺纹管42带动活动杆43做相对或背向运动，从而改变同一高度的两支撑杆31之间的距离，进而改变两支撑杆31上相对位置卡槽32之间的距离，以实现对不同直径的晶圆的支撑限位，使得本柜体1可对不同直径的晶圆进行烘干操作。
28.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均
应包含在本实用新型的保护范围之内。