强化沉淀内循环厌氧反应器的制作方法

文档序号:12233328阅读:438来源:国知局
强化沉淀内循环厌氧反应器的制作方法与工艺

本实用新型涉及一种强化沉淀内循环厌氧反应器,属于废水厌氧生物处理领域的水处理设备。



背景技术:

内循环厌氧反应器(IC)作为第三代厌氧生物反应器因其诸多优点被广泛研究与应用。内循环厌氧反应器是由两个上下重叠的上向流厌氧反应器(UASB)串联而成,用下面第一反应室产生的沼气作为动力,实现了下部混合液的内循环,使废水获得强化的预处理;上面第二反应室对废水进行后处理。两个反应室内产生的沼气夹带废水通过提升管进入气液分离器,沼气排出收集,废水通过回流管返回反应器实现循环,保证处理效果和反应器内生物量。

内循环厌氧反应器由于高径比较大且有机负荷高,所含颗粒与进水负荷以及产气率呈正相关关系,在进水水力负荷较大的情况下出水悬浮污泥随之增多,影响出水水质,为后续的处理增加负担。而且当反应器启动初期,在未形成沉降性能较好的颗粒污泥前常存在大量悬浮污泥随水流出,不能保证反应器内生物量为启动带来影响。因此常在后续设置沉淀池,这使得基建投资增加。

有专利涉及类似反应器以斜板加强沉淀区,但斜板沉淀效果不及斜管且反应器结构较复杂。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种强化沉淀内循环厌氧反应器,以提高反应器沉淀室的沉淀效率,减少随水流出的悬浮污泥量,保证反应器内生物量,为后续水处理工艺减轻负担。

本实用新型的目的是这样实现的,一种强化沉淀内循环厌氧反应器,其特征是:至少包括反应器罐体以及罐体上方的气液分离器,反应器罐体下部有进水管;气液分离器上部有沼气管,下部有回流管伸入反应器罐体底部;反应器罐体由下至上分别为第一反应室、第二反应室、沉淀室和出水渠;第一反应室上部为第一三相分离器,第二反应室上部为第二三相分离器,每个三相分离器均与气液分离器通过沼气提升管连接;第二三相分离器上敷设斜管。

所述的第一三相分离器沉淀区斜壁呈50°,下部有污泥回流通道。

所述的第二三相分离器上部敷设斜管;相邻两个第二三相分离器上部的斜管呈倒V字形,下端紧密贴合;挨着反应器罐体壁的第二三相分离器上部的斜管与罐体壁紧密贴合。

所述的斜管管长为800~1000mm,水平倾角为60°,断面采用蜂窝六角形,内径采用25~35mm。

所述的斜管上部的沉淀室高度不小于1.0m。

本实用新型的优点是:通过在第二三相分离器斜壁上敷设斜管,使第二反应室处理过的废水全部经过斜管,由于斜管的水力半径更小,因而雷诺数更低,所以废水在斜管内获得更好的沉淀效果。斜管实现模块化,安装更换方便,结构简单。

附图说明

下面结合附图对本实用新型进一步说明。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2A为本实用新型的第一三相分离器;

图2B为第二三相分离器结构示意图。

图3为本实用新型的A-A剖面结构示意图。

图中,1、进水管;2、回流管;3、第一三相分离器;4、沼气提升管;5、第二三相分离器;6、第一反应室;7、第二反应室;8、沉淀室;9、斜管;10、污泥回流通道;11、反应器罐体;12、出水渠;13、气液分离器;14、沼气管。

具体实施方式

如图1、图2A、图2B、图3所示,一种强化沉淀内循环厌氧反应器,至少包括反应器罐体11以及罐体上方的气液分离器13,反应器罐体11下部有进水管1;气液分离器13上部有沼气管14,气液分离器13下部有回流管2伸入反应器罐体11底部;反应器罐体11由下至上分别为第一反应室6、第二反应室7、沉淀室8和出水渠12;第一反应室6上部为第一三相分离器3,第二反应室7上部为第二三相分离器5,每个三相分离器均与气液分离器13通过沼气提升管4连接;第二三相分离器5上敷设斜管9。

如图2A所示,所述的第一三相分离器3沉淀区斜壁呈50°,下部有污泥回流通道10。

如图2B所示,所述的第二三相分离器5上部敷设斜管9。相邻两个第二三相分离器5上部的斜管9呈倒V字形,下端紧密贴合;挨着反应器罐体11壁的第二三相分离器5上部的斜管9与罐体壁紧密贴合。

如图2A、图2B所示,所述的斜管9管长为800~1000mm,水平倾角为60°,断面采用蜂窝六角形,内径采用25~35mm。

所述的斜管9上部的沉淀室8高度不小于1.0m。

本实用新型通过在第二三相分离器斜壁上敷设斜管,使第二反应室处理过的废水全部经过斜管,由于斜管的水力半径更小,因而雷诺数更低,所以废水在斜管内获得更好的沉淀效果。斜管实现模块化,安装更换方便,结构简单。

以上所述,进为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围。

本实施例没有详细叙述的部件和结构属本行业的公知部件和常用结构或常用手段,这里不一一叙述。

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