本发明涉及液晶显示器制造领域,尤其涉及液晶显示器制程中的湿式设备。
背景技术:
在显示器件的制程中,湿式设备(wet设备)的应用非常普遍,如用于玻璃基板涂布前去除基板表面杂质(particle)和有机物等脏污的清洗机(cleaner),或用于玻璃基板涂布曝光后光阻剥离以形成所需图案(pattern)的显影机(develop)等。湿式设备的水箱是作为存储清洗液,或清洗用水缓冲的重要部件,水箱设计的优良直接影响到该湿式设备的性能和产品良率。
湿式设备的水箱部件,一般设置于该湿式设备的下侧,由腔体、进水管、出水管等构成,具有结构简单、密封性能高等特点。对于密封性的要求,还可以避免水箱外部的脏污污染以及水箱内部的漏液等瑕疵。
但是,而经过长时间使用的封闭水箱,大多会沉积脏污、水垢或水质易生菌,需定期对水箱内部进行清洁。由于大多数湿式设备的水箱的位置问题,每次拆开水箱并清洁内壁的过程比较麻烦,且水箱盖板的拆卸和复位的步骤较复杂,对操作者的要求也较高,稍微不注意容易导致水箱漏液。另一方面,擦拭或冲洗等清洁方式都难以保证水箱的清洁程度达到使用要求。
技术实现要素:
本发明的目的在于提供一种不用拆卸水箱盖板即可实现其内部清洁的清洗装置,提供如下技术方案:
一种水箱清洗装置,包括依次连接的压力调节器、入水管、喷刀、堵水管和扳手;所述压力调节器一端连接清洗液供给管道,另一端连接所述入水管;所述入水管、所述喷刀和所述堵水管之间密封连接,形成本清洗装置的清洗液流通路径;所述水箱的第一侧壁上设与所述入水管配合的第一通孔,用于穿过所述入水管;所述水箱的第二侧壁与所述第一侧壁相对,所述第二侧壁上设与所述堵水管配合的第二通孔,用于穿过所述堵水管;所述入水管与所述堵水管位于同一轴线上,所述堵水管一端封闭;所述扳手与所述堵水管封闭的一端固连,所述扳手用于转动密封连接的所述堵水管和所述喷刀;所述喷刀内部为中空通道,所述喷刀沿所述流通路径方向上设有细缝,所述细隙使所述喷刀内部中空通道与外部连通,所述清洗液在压力作用下通过所述细缝向外喷出形成压力水帘,用以清洗所述水箱内部。
其中,所述入水管与所述第一侧壁固定连接,所述入水管与所述喷刀之间设有旋转密封接头,所述旋转密封接头的固定端与所述入水管连接,活动端与所述喷刀连接,所述旋转密封接头用于密封所述流通路径并随所述喷刀和所述堵水管一起旋转。
其中,所述细缝含朝向所述第一侧壁的第一段和朝向所述第二侧壁的第二段,所述第一段细缝喷出的所述压力水帘作用于所述第一侧壁,所述第二段细缝喷出的所述压力水帘作用于所述第二侧壁。
其中,所述第一段细缝在所述第一侧壁上的投影穿过所述第一通孔的中心;所述第二段细缝在所述第二侧壁上的投影穿过所述第二通孔的中心。
其中,所述第一段细缝的尾部和所述第二段细缝的头部之间含第三段细缝,所述第三段细缝喷出的压力水帘作用于所述水箱除所述第一侧壁和所述第二侧壁以外的其余内壁表面。
其中,所述第一段细缝、所述第二段细缝和所述第三段细缝连通,形成从所述第一段细缝头部一直连续到所述第二段细缝尾部的长细缝。
其中,所述细缝不连通,沿所述喷刀的外壁分为两段或两段以上的不连续细缝,所述各段不连续细缝在所述流通路径上的投影叠加在一起不间断。
其中,所述流通路径内部设有衬管,所述清洗液在所述衬管内流通,所述衬管用于在所述喷刀内沿所述流通路径伸缩。
其中,所述堵水管上设有与所述流通路径串联的减压阀,所述减压阀上预设有最大承压值,当所述减压阀处的清洗液压力值超过所述最大承压值时,所述减压阀打开阀门以调节压力。
其中,所述堵水管上设与所述流通路径串联的压力传感器,所述压力传感器用于将所述流通路径尾端的压力值传给所述压力调节器,所述压力调节器根据所述压力值调节所述入水管处的水压。
本发明水箱清洗装置,通过在所述水箱内部设置喷刀,利用压力调节器向入水管注入清洗液,并使清洗液流入喷刀内部,同时利用堵水口保持喷刀内部的液体压力,最终使得具备一定压力的清洗液从设置于喷刀上的细缝由内朝外喷出,并形成压力水帘以冲刷水箱的内壁。再辅以与堵水口固连的扳手同时转动共轴线的出水口和堵水口,最终实现水箱内部的全方位清洗。在压力足够大的情况下,压力水帘在水箱内壁的清洁效果远远超过人工擦拭或简单冲洗的效果,而且避免了对水箱盖板的反复拆卸和安装过程,既简化了清洁程序,又提高了清洁质量。
附图说明
图1是本发明水箱清洗装置的示意图;
图2是本发明水箱清洗装置喷刀的截面示意图;
图3是本发明水箱清洗装置旋转密封接头的示意图;
图4是本发明水箱清洗装置第一侧壁上投影的示意图;
图5是本发明水箱清洗装置喷刀采用不连续细缝的平面展开示意图;
图6是本发明水箱清洗装置喷刀内设衬管的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1的水箱清洗装置,压力调节器1、入水管2、喷刀3、堵水管4和扳手5依次连接,所述压力调节器1一端连接清洗液供给管道,另一端连接所述入水管2,所述入水管2、所述喷刀3和所述堵水管4之间密封连接,所述入水管2和所述喷刀3内部均为中空,所述堵水管4与所述喷刀3连接的一端为中空,另一端封闭。所述水管2、所述喷刀3和所述堵水管4形成本清洗装置的清洗液流通路径02。其中所述入水管2穿过所述水箱01的第一侧壁011,所述堵水管4穿过所述水箱01的第二侧壁012,所述第二侧壁012为所述水箱01内与所述第一侧壁011相对的内壁。所述入水管2与所述第一侧壁011上的第一通孔013配合,且密封设置;所述堵水管4与所述第二侧壁012上的第二通孔014配合,也为密封设置。所述入水管2与所述堵水管4共轴线001,即所述第一通孔013与所述第二通孔014的位置相对应,通过转动与所述堵水管4固连的所述扳手5,可以转动所述堵水管4和所述喷刀3在所述水箱01内做360度转动。所述喷刀3在沿所述流通路径方向上设有细缝31,所述细缝31将所述喷刀3的内部中空通道301与外部连通(见图2),所述清洗液在内部液体压力的作用下通过所述细缝32向外喷出形成压力水帘6,所述压力水帘6冲打在所述水箱01内壁上对水箱01进行清洗。
在所述喷刀3形成所述压力水帘6的过程中,还可以在所述细缝31的出口处设置导引面310,以使喷射出的所述压力水帘6形状更加集中,冲击效果更好。对于清洁液,可以是水,也可以是加了某些清洁剂的配方溶剂,或液晶制造行业常用的去离子水。
本装置在清洗过程中,所述压力调节器1向所述入水管2注入含一定压力的清洁液,所述清洁液随所述流通路径02先后穿过所述入水管2和所述喷刀3,最后注入所述堵水口4内。此时所述流通路径02中注满含压力清洁液,由于所述喷刀3上的所述细缝31将所述中空通道301与外界实现连通,所述流通路径02上的清洁液在压力的作用下挤过所述细缝31向外喷出,形成一定压力的压力水帘6冲刷在所述水箱01的内壁上,用以清洗所述水箱01的内壁。此时所述压力水帘6在所述水箱01内壁的作用面积只为一条窄面,在所述手柄5的驱动下,所述喷刀3绕所述轴线001做圆周运动,所述压力水帘6在所述水箱01内360度旋转,作用面积可以覆盖所述水箱01的绝大部分面积。
一些实施例中,为了保证所述入水管2与所述第一通孔013之间的密封,在所述入水管2与所述喷刀3的接触位置还设置了旋转密封接头21,所述旋转密封接头分固定端211和旋转端212,中间由一组密封圈213与所述固定端211和所述旋转端212配合以形成内部水道的密封。图3展示了一种所述旋转密封接头21的内部结构形式,使用者可以根据需要对其内部结构做调整,也可以直接采购市面上现有的能实现本效果的水路接头。所述旋转端212可绕所述固定端211作360度旋转并保持内部通道的密封。所述旋转密封接头21的所述固定端211与所述入水管2连接,所述活动端212与所述喷刀3连接,所述喷刀3在旋转清洗的过程中,所述入水管2不跟随转动,将之前的动密封改为了静密封,更利于密封手段的实施,密封效果也更好。
利用本发明清洗装置,可以较轻松的实现所述水箱01内部除所述第一侧壁011和所述第二侧壁012以外的其余表面的清洁,为了对所述水箱01进行比较彻底的清洗,在一些实施例中,所述细缝31专门设置了朝向所述第一侧壁011的第一段32和朝向所述第二侧壁012的第二段33,所述第一段细缝32喷出的所述压力水帘6作用于所述第一侧壁011,所述第二段细缝33喷出的所述压力水帘6作用于所述第二侧壁012。
要想使得所述第一段细缝32和所述第二段细缝33在随所述喷刀3旋转一周后能清洗到第一侧壁011和所述第二侧壁012全部的面积,所述第一段细缝32在所述第一侧壁011上的投影为第一投影015,需要穿过所述第一通孔013的中心(见图4)。同理的,所述第二段细缝33在所述第二侧壁012上的投影需要穿过所述第二通孔014的中心。
一些实施例中,所述喷刀3被设计为u形(见图1),则所述第一段细缝32和所述第二段细缝33分别设置在u形的两个相互对立面上设,且所述第一段细缝32与所述第二段细缝33相互背离。
在另一些实施例中,所述喷刀3可以为直线外形,则所述第一段细缝32与所述第二段细缝33的设置如图5所示,也可以达到全面清洁所述第一侧壁011和所述第二侧壁012的效果。
定义所述流通路径02的头部为所述入水管2的入水位置,所述流通路径02的尾部在所述堵水口4的密封位置,组成所述流通路径02的所有组件均以相同的方向区分自身头部和尾部。所述第一段细缝32的尾部和所述第二段细缝33的头部之间含第三段细缝34,对于所述水箱01内部除所述第一侧壁011和所述第二侧壁012以外的其余表面的清洁,由所述第三段细缝34喷出的所述压力水帘6完成。这里需要提出的是,因为所述第一侧壁011和所述第二侧壁012的形状通常不为圆形,因此在随所述喷刀3旋转的过程中,随着所述压力水帘6在所述第一侧壁011、所述第二侧壁012的作用长度变化,所述第一段细缝32,所述第二段细缝33和所述第三段细缝34之间位置的划分也一直在变化,各段所述细缝的划分,都是针对所述喷刀3在那一刻的特定位置时所作的划分,所述喷刀3在转动到下一位置时,各段所述细缝的划分也随之改变。当然,可以定义所述喷刀在竖直向上位置或竖直向下的位置为所述第一段细缝32,所述第二段细缝33和所述第三段细缝34的定义位置,其后的旋转过程中所述第一细缝32和所述第二细缝33中的某一段也可能没有作用于所述第一侧壁011和所述第二侧壁012上,但并不影响本发明清洗装置的功能实施,划分的方法和定义位置更多属于逻辑划分,其目的在于本说明书对于方案实施方式中的解释。
一些实施例中,所述第一段细缝32、所述第二段细缝33和所述第三段细缝34相互连通,形成从所述第一段细缝32头部一直连续到所述第二段细缝33尾部的长细缝形状。这样的设置便于加工,但过长的连续细缝形状刚度较差,在长期使用后可能存在所述细缝31的开口被撑大,所述压力水帘6的压力下降,导致清洗效果下降的不良影响。
另一些实施例中,所述细缝31不连通,沿所述喷刀3的外壁分为两段或两段以上的不连续细缝311(见图5),只要各段所述不连续细缝311在所述流通路径上的投影叠加在一起不间断,就可以保证在所述喷刀3旋转一周的时候所述水箱01内部能够全部都清洗到。相比于长细缝来说,所述不连续细缝311的刚度得到了加强,有利于提升所述喷刀3的使用寿命。
在所述细缝31喷射所述压力水帘6的过程中,水压随所述流通路径02的延伸方向会越来越小,导致所述第二段细缝33处的所述压力水帘6的压力一直小于所述第一段细缝32处的所述压力水帘6的压力,即对于所述第二侧面012的清洗效果始终最差。为了解决这一问题,可以在所述流通路径02内部设置衬管021,清洗液在所述衬管021内流通,同时操作者可以从外部控制所述衬管021的端部在所述喷刀3内沿所述流通路径02的方向从头部到尾部自由运动。所述衬管021为密封的中空管状结构,清洗液在所述衬管021内流动时不会从所述细缝31中喷射出去,因此所述衬管021的端部运动到所述喷刀3的某一位置时,所述压力水帘6才从所述衬管021的端部位置开始向外喷射。这样的设置可以控制液体的压力不从所述喷刀3的头部就开始被释放,可以将压力保持到所述喷刀3的中部甚至尾部才开始释放,有助于提升所述细缝31在尾部附近锁形成的所述压力水帘6的压力,提高清洁效果。
当然,所述衬管021和所述中空通道301之间可以存在间隙302(见图6),所述间隙302内也可以有清洁液流通,这样所述喷刀3的所述细缝31全程都会有所述压力水帘6喷出,所述衬管021此时的作用在于将其内部的水压保持住,当此部分清洁液通过所述衬管021的端面之后,与所述间隙302内的清洁液交汇,达到增加所述细缝31的尾段形成的所述压力水帘6的压力的效果。
所述衬管021在所述中空通道301内的伸缩动作,可以通过在所述入水管2的外部设置柔性推杆来实现,也可以通过在所述堵水口4的外部设置柔性拉杆来设置,所述柔性推杆或所述柔性拉杆的设置需要同时注意密封性问题。
由于整个所述流通路径02上都具有一定压力的液体,当压力过大时难免对本发明清洗装置的某一处或几处刚度薄弱环节造成损坏。因此,为了控制压力,可以在所述堵水管4上设置与所述流通路径02串联的减压阀41,所述减压阀41上预设有最大承压值,当所述减压阀41处的液体压力超过既定的最大承压值时,所述减压阀41打开阀门放出所述流通路径02上的部分清洗液以调节压力。
一些实施例中,所述堵水管4上设有与所述流通路径02串联的压力传感器42,所述压力传感器42用于将所述流通路径02尾端的压力值传给所述压力调节器1,所述压力调节器1可以根据接收到的所述压力值来调节所述入水管处2的水压。
本发明清洗装置,通过在所述水箱01的内部设置所述喷刀,并对所述喷刀首尾分别连接的所述入水管和所述堵水口进行密封设置,实现了由所述入水管、所述喷刀和所述堵水口组成的所述流通路径内清洗液的自由流通,并通过所述喷刀上的所述细缝的作用将清洗液以一定压力喷出,形成具备较强清洁能力的所述压力水帘。再通过所述手柄5的转动,所述压力水帘对所述水箱内壁可以进行较全面的清洗。当所述细缝按本方案的一些要求设置时,可以实现所述压力水帘对所述水箱内壁全方位的清洗。再通过对液体压力的一系列控制措施,保证压力值的适当且均匀分布,可以实现较好的清洗效果,相较于现有的拆卸所述水箱的盖板擦拭或冲洗等清洗方式,提高了清洗的效果,也简化了清洗流程。
以上所述的实施方式,并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在该技术方案的保护范围之内。