一种高氮印染废水处理设备的制作方法

文档序号:13441780阅读:340来源:国知局
一种高氮印染废水处理设备的制作方法

本实用新型属于废水处理技术领域,尤其涉及一种高氮印染废水处理设备。



背景技术:

印染企业是工业废水排放大户,其具有水量大、有机污染物含量高、色度深、水质变化大等特点,属难处理的工业废水。目前国内常用的印染废水处理工艺主要分为两大类:一是物化法,即加入絮凝剂进行沉淀或气浮,去除废水中的污染物。由于加药费用高、去除污染物不彻底、污泥量大并难以进一步处理,会产生一定的二次污染,一般不单独使用;二是生化法,即利用微生物的作用,使污水中有机物降解、吸附而去除。由于近年来,大量难生化降解有机物如PVA浆料、人造丝碱解物(主要是邻苯二甲酸类物质)、新型助剂等进入印染废水。同时,尿素在前处理的退浆、氧漂、丝光;染色工艺中的活性染料染色、缩聚染料染色、普通硫化黑染色、印地科素染料染色;及印花和整理等印染工艺中得到广泛应用,使氮的含量在印染废水中急剧升高。传统的生物处理工艺已受到严重挑战。

因此,为解决上述技术问题,确有必要提供一种创新的高氮印染废水处理设备,以克服现有技术中的所述缺陷。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种结构简单、有效去除有机物和脱氮脱色的高氮印染废水处理设备。为此,本实用新型采用以下技术方案:

一种高氮印染废水处理设备,所述设备包括以管路相连的调节池、氧化反应池、初沉池、氧化沟、二沉池、气浮池和臭氧接触池,所述初沉池和二沉池的底部均设有排泥管道,排泥管道均连接一污泥浓缩池;所述氧化沟为廊道式环形氧化沟,各廊道间设有回旋挡板以形成废水回流。氧化沟的廊道间回旋挡板的设置可使得氧化沟内形成内回流,使废水从中心区域流至外沟区域,在缺氧条件下完成反硝化过程。

在采用上述技术方案的基础上,本实用新型还可采用以下进一步的技术方案:

所述氧化沟的进水端设有厌氧区。

所述二沉池设有回流机构,所述印染废水通过该回流机构回流至氧化沟的厌氧区进行反硝化作用,从而实现脱氮的目的。

所述初沉池的池底设有第一排泥管道,二沉池的池底设有第二排泥管道,所述第一排泥管道和第二排泥管道通过一三通选择接头与污泥浓缩池的进口相连。

所述三通选择接头包括与第一排泥管道相连的第一接头、与第二排泥管道相连的第二接头和与污泥浓缩池进口相连的第三接头,所述第一接头和第三接头为直接头,所述第二接头为弯接头且弯折度为30°。

所述第一接头和第二接头的管径相同且为第三接头管径的一半。

第一接头和第二接头为第三接头管径一半的设置不易发生倒流现象,且第三接头的管径设置能够在两个排泥管道同时排放的时候顺利排出不堵塞。

所述第一接头和第二接头的管口均设有单向阻挡机构,该单向阻挡机构包括与接头的管口上内壁可活动连接的挡片、设于接头的管口下内壁的限位台,所述挡片处于垂直状态时,该挡片的下部一侧与限位台抵顶。

单向阻挡机构的设置可在保证污泥能够顺利通过接头进入,从出泥管道排出,同时可避免出泥管道堵塞时污泥发生倒流现象。而第二接头弯折的设计是结合了弯折这一角度能在污泥顺利排出的前提下,将三通选择接头设置在合理位置,减少三排泥管道的长度以节约成本。

所述挡片由铁材料制成,所述限位台由吸铁石材料制成;所述挡片的外周沿连接有环形弹性件。在不排污泥时,由于挡片及限位台的联合作用,能将管口进行封闭,不仅可以防止污泥倒流,而且可以稳定四通接头内外的气体压强。

所述限位台为“凸”字形结构,该限位台的两边台阶处设有圆弧形倒角。限位台的结构设置可在横向及纵向对挡片进行更好地吸附固定,同时两台阶及圆弧形倒角的设置可在保证吸附稳定性的前提下节省生产材料的成本。

所述第二接头的弯折方向为靠近第一接头方向,以减少第二排泥管道的长度。

本实用新型的优点是:利用二氧化氯代替氯气完成折点加氯,利用二氧化氯的强氧化性脱色及改善可生化性,来提升出水水质。同时,结合氧化沟的回流设置,能有效地去除高尿素印染废水中氮的含量,拥有很强的处理效果。

附图说明:

图1为本实用新型一种高氮印染废水处理设备的系统结构示意图。

图2为本实用新型一种高氮印染废水处理设备的三通选择接头结构示意图。

图3为本实用新型一种高氮印染废水处理设备的三通选择接头的第一接头剖视图。

图4为本实用新型一种高氮印染废水处理设备的三通选择接头的第一接头内部示意图。

其中,调节池1,氧化反应池2,初沉池3,第一排泥管道31,第一接头32,挡片321,限位台322,环形弹性件323,圆弧形倒角324,氧化沟4,二沉池5,第二排泥管道51,第二接头52,气浮池6,臭氧接触池7,进口81,第三接头82,三通选择接头9。

具体实施方式

结合附图,对本实用新型提供的一种高氮印染废水处理设备作进一步说明。

如图1所示,一种高氮印染废水处理设备,包括调节池1、氧化反应池2、初沉池3、氧化沟4、二沉池5、气浮池6和臭氧接触池7。

其中,所述调节池1、氧化反应池2、初沉池3、氧化沟4、二沉池5、气浮池6及臭氧接触池7依次连接并形成一集成式处理设备。

进一步地,初沉池3和二沉池6的底部均设有一污泥排出管,污泥排出管连接至污泥浓缩池。氧化沟5为廊道式环形氧化沟,其廊道间设有内回流,该内回流可使出水回流至氧化沟4进水处。

初沉池3的池底设有第一排泥管道31,二沉池5的池底设有第二排泥管道51,第一排泥管道31和第二排泥管道51通过一三通选择接头9与污泥浓缩池的进口81相连。

三通选择接头9包括与第一排泥管道31相连的第一接头32、与第二排泥管道51相连的第二接头52和与污泥浓缩池进口相连的第三接头82,第一接头32和第三接头82为直接头,第二接头52为弯接头且弯折度为30°,第二接头52的弯折方向为靠近第一接头32方向,以减少第二排泥管道51的长度。

进一步地,第一接头32和第二接头52的管径相同且为第三接头82管径的一半。

第一接头32和第二接头52的管口均设有单向阻挡机构,该单向阻挡机构包括与接头的管口上内壁可活动连接的挡片321、设于接头的管口下内壁的限位台322,挡片321处于垂直状态时,该挡片321的下部一侧与限位台322抵顶。

挡片321由铁材料制成,限位台322由吸铁石材料制成,挡片321的外周沿连接有环形弹性件323。

限位台322为“凸”字形结构,该限位台322的两边台阶处设有圆弧形倒角324。

实施例一,具体实施本实用新型的高氮印染废水处理设备。

1)将高氮印染废水排放至调节池1,并在调节池1内停留时间为10小时。

2)之后将废水排入氧化反应池2,并在氧化反应池2内加入二氧化氯作为氧化剂;其中,反应pH为6-9之间,反应时间为1.5小时。

3)氧化反应池2的出水投加FeSO4和液碱混凝反应后排入初沉池3;所述FeSO4和液碱的投加量分别为500mg/L和60mg/L。

4)将初沉池的出水进入氧化沟处理,在氧化沟的停留时间为37小时,氧化沟控制第一和第四廊道DO0.5mg/L,第二和第三廊道DO3mg/L。

5)氧化沟的出水进入二沉池进行泥水分离后,上清液进入气浮池,投加聚铁和PAM,气浮池停留时间10分钟。

6)气浮池出水,进入臭氧接触池,投加双氧水做催化剂,停留时间30分钟,经强氧化后纳管排放。

印染废水进入调节池1处理,其水质指标如下:CODCr:2080mg/L;总氮:480mg/L,色度3000倍。

经氧化反应池2及初沉池3处理后,水质指标如下:CODCr:1240mg/L;总氮:204mg/L,色度360倍。

通过氧化沟4后,出水经过二沉池5,水质指标如下:CODCr:132 mg/L;总氮:22mg/L,色度38倍。

通过气浮池6处理,水质指标如下:CODCr:90mg/L;总氮:18mg/L,色度24倍。

通过臭氧接触池7处理,水质指标如下:CODCr:76mg/L;总氮:14mg/L,色度12倍。

因此,从上述数据可以看出:印染废水处理经过上述工艺处理,可以得出以下结论:通过该方法可以降低出水的COD、色度以及氮含量。

上述实用新型实施例的示例在附图中示明,其中从头到尾相同或类似的元件,或具体由相同或类似功能的元件,通过参考附图描述的实施例仅作为示例性质,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

在实用新型的描述当中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1