1.一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，包括支架(1)、设置于所述支架(1)上的超声水槽(2)以及设置于所述超声水槽(2)一侧的超纯水进口(3)，其特征在于，还包括：
超声波清洗组件(4)，所述超声波清洗组件(4)包括设置于所述超声水槽(2)内的超声振板件(41)及控制该超声振板件(41)的超声波发生器(42)，所述超声振板件(41)设置于所述超声水槽(2)的内壁侧面上；以及
硅片承托架(5)，所述硅片承托架(5)包括承托支架(51)、放置于所述承托支架(51)上的硅片黏胶架(52)以及设置于所述硅片黏胶架(52)正下方的成品承接架(53)。
2.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超声振板件(41)包括两个分别对称设置于所述超声水槽(2)宽度方向内壁上的超声振板(411)。
3.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超声水槽(2)包括：
超声波振荡部(21)，所述硅片承托架(5)放置于该超声波振荡部(21)内；
滤网(22)，所述滤网(22)设置于所述超声波振荡部(21)下方且用于放置硅片承托架(5)；
排污部(23)，所述排污部(23)设置于所述滤网(22)下方，该排污部(23)底部中心位置上开设有排污出口(231)。
4.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超声水槽(2)环壁的上表面上还开设有溢流槽(24)。
5.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超纯水进口(3)上设置有溢流阀(31)。
6.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超声波发生器(42)与所述超声振板件(41)之间通过电信号控制且两者之间设置有时间继电器。
7.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述承托支架(51)上还设置有沿长度方向对称设置且可转动的手柄件(511)以及沿长度方向对称设置且用于放置硅片黏胶架(52)的放置槽(512)。
8.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述硅片黏胶架(52)包括：
基块(521)；
黏胶(522)，所述黏胶(522)涂抹于所述基块(521)下表面上；
晶锭(523)，所述晶锭(523)黏贴于所述黏胶(522)的下表面上；
拎手部(524)，所述拎手部(524)设置于所述基块(521)上且与该基块(521)可拆卸安装，该拎手部(524)安装与所述承托支架(51)上时与所述硅片黏胶架放置槽(512)相配合安装。
9.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述成品承接架(53)包括四根沿圆弧状排列且圆弧外形与硅片相适配的承载杆(531)。
10.根据权利要求1所述的一种多线切硅片脱胶超声清洗装置，其特征在于，所述超声水槽(2)上还设置有可转动的盖板(25)，该盖板(25)正中间上开设有观察孔(251)。