技术总结
本实用新型涉及基板清洗技术领域，公开的一种清洗装置包括用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构，与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。由此，该清洗装置通过多个清洗环节对待清洗基板进行清洗，能够彻底洗净基板表面残余的抛光液，提高了基板的良率，避免因基板上残留抛光液而导致有机电致发光器件使用效果变差。
技术研发人员：曹瑞丰
受保护的技术使用者：枣庄维信诺电子科技有限公司
技术研发日：2018.01.29
技术公布日：2018.12.18