本实用新型涉及一种滤池滤砖,尤其涉及一种反硝化深床滤池气水分布滤砖。
背景技术:
反硝化深床滤池的滤砖的作用为:A.提供承托砾石和砂砾的固体结构。B.防止砾石进入配水系统。C.尽可能降低水力冲击对滤池内部构件的损坏。D.滤出液通过滤池排出顺畅。E.整个滤床区域的反冲洗气体和水流的分配均匀,确保冲洗后滤料面平整。F.把反冲洗系统与生物反应系统隔开,避免发生气水分布系统生物堵塞。传统反硝化深床滤池的滤板/滤头配水配气系统和依靠流体反射配水配气滤砖系统在配水配气系统上方存在反冲洗盲区,这将意味着反冲洗气、水不能够对滤料起到有效的反冲洗。在长期运行中,承托层/滤料中会堆积大量的污泥,增大水头损失,缩短过滤周期,存在承托层扰动隐患。
技术实现要素:
本实用新型为了解决现有技术的上述不足,提供了一种反硝化深床滤池气水分布滤砖。
本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现:一种反硝化深床滤池气水分布滤砖,包括本体,所述本体中部设有一次配水腔,所述一次配水腔呈等腰梯形,一次配水腔两侧设有二次配水腔,二次配水腔呈直角梯形,二次配水腔与一次配水腔设有共用斜边;一次配水腔和二次配水腔之间设有第一开孔,二次配水腔顶部设有第二开孔。
所述本体顶部设有回水槽,回水槽底部设有与二次配水腔相通的第三开孔。
所述本体一端设有承插口,另一端设有与相邻滤砖承插口相套接的插接端,插接端上设有密封圈。
所述滤砖由HDPE(高密度聚乙烯)材料制成,具有出色结构强度和韧性,滤砖安装完成后20年运行免维护。
所述第一开孔和第二开孔的数量均为240个孔口/m2。
所述滤砖重量为10kg,高度0.3m。
本实用新型的滤砖为双层配水配气系统:一级分配腔,二级补偿腔。通过一次配水腔后的反冲洗水在二次配水腔内根据压力差产生逆向补偿,从而使得整个滤池过滤面积上最终的整体反冲洗水、气压力均匀。滤砖内部二次配水设计确保反冲洗水和气体在整个滤池反冲洗气水分配系统的每一个扩散孔处均匀分布。在一块滤砖内同时完成气水均匀分配,不存在配水配气盲区,反冲洗无死区。
滤砖安装时,池底先铺设C30混凝土找平,再铺设滤砖,底部混凝土初步凝固后,相邻滤砖以及与池壁的缝隙内需要灌注C30混凝土,使得整个气水分配系统与池底成为一个整体,坚固耐用。
本实用新型与现有技术相比的优点是:
1、滤砖都以近距离地彼此隔离(240个孔口/m2),不阻塞孔口为特点,从而使得气体和反洗水得到均匀无盲区的分布。把过滤系统的无障碍运行作为目标,从而使过滤介质达到更好的清洁效果。
2、单个滤砖重量约10kg,采用承插口和密封圈的连接方式。针对不同的项目设计,加工出厂后的滤砖在现场不需要做任何调整,只需要通过专用工具快速的完成滤砖的组装,滤砖的池内铺设类似于居民家中铺地面砖一样便利。
3、由于配水配气滤砖的高度仅约0.3m,大量节省了土建池体高度;且池体内部不需要任何预埋件,不需要任何滤粱,滤柱等,池体结构简单;由于滤砖安装是土建完成后池底边铺设混凝土边安装,因此对池底土建精度要求较低。大大的降低了土建施工的费用和配水配气系统的安装成本。
4、每块滤砖能同时完成反冲洗配水配气性能,滤砖带自动补偿功能,做到更均匀的配水配气性能。
附图说明
图1为本实用新型的侧面结构示意图。
图2为本实用新型的立体结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型进一步详述。
如图1、图2所示,一种反硝化深床滤池气水分布滤砖,包括本体1,所述本体1中部设有一次配水腔2,所述一次配水腔2呈等腰梯形,一次配水腔2两侧设有二次配水腔3,二次配水腔3呈直角梯形,二次配水腔3与一次配水腔2设有共用斜边4;一次配水腔2和二次配水腔3之间设有第一开孔5,二次配水腔3顶部设有第二开孔6。
所述本体1顶部设有回水槽7,回水槽7底部设有与二次配水腔3相通的第三开孔8。
所述本体1一端设有承插口9,另一端设有与相邻滤砖承插口9相套接的插接端10,插接端10上设有密封圈11。
所述滤砖由HDPE(高密度聚乙烯)材料制成,具有出色结构强度和韧性,滤砖安装完成后20年运行免维护。
所述第一开孔5和第二开孔6的数量均为240个孔口/m2。
所述滤砖重量为10kg,高度0.3m。
本实用新型的滤砖为双层配水配气系统:一级分配腔,二级补偿腔。通过一次配水腔后的反冲洗水在二次配水腔内根据压力差产生逆向补偿,从而使得整个滤池过滤面积上最终的整体反冲洗水、气压力均匀。滤砖内部二次配水设计确保反冲洗水和气体在整个滤池反冲洗气水分配系统的每一个扩散孔处均匀分布。在一块滤砖内同时完成气水均匀分配,不存在配水配气盲区,反冲洗无死区。
滤砖安装时,池底先铺设C30混凝土找平,再铺设滤砖,底部混凝土初步凝固后,相邻滤砖以及与池壁的缝隙内需要灌注C30混凝土,使得整个气水分配系统与池底成为一个整体,坚固耐用。
上述的具体实施方式只是示例性的,是为了更好的使本领域技术人员能够理解本专利,不能理解为是对本专利包括范围的限制;只要是根据本专利所揭示精神的所作的任何等同变更或修饰,均落入本专利包括的范围。