一种玻璃清洁系统的制作方法

文档序号:16413109发布日期:2018-12-25 20:58阅读:260来源:国知局
一种玻璃清洁系统的制作方法

本实用新型属于清洁系统的技术领域,尤其涉及一种玻璃清洁系统。



背景技术:

玻璃是制作显示面板的基材。在显示面板的制作过程中,需要对玻璃表面进行清洗,这会导致玻璃表面残留有水滴;此时,需要对玻璃表面的水滴进行清洁,才能进入后续的制程。

结合图1所示,现有的方法是利用风刀1对玻璃2表面的水滴进行清洁,具体的,风刀1包括上风刀11、下风刀12及朝向水平方向的出风口13,玻璃2沿水平方向进入出风口13,由出风口13出风吹走玻璃2表面的水滴。由于水滴在玻璃上是分散排布的,沿水平方向吹不易将玻璃表面的水滴完全吹落,因此这种清洁方法存在玻璃上残留有水滴影响制程的情况。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决上述问题,提供一种玻璃清洁系统,对于玻璃表面水滴的清洁具有较高的效率。

本实用新型提供的一种玻璃清洁系统,包括风刀及水膜形成装置,所述风刀包括第一风刀、第二风刀及形成于第一风刀和第二风刀之间的出风口,所述水膜形成装置包括能喷射水雾的喷嘴,所述喷嘴的朝向和所述出风口的朝向交错。

进一步的,所述喷嘴的朝向和所述出风口的朝向交错成锐角。

进一步的,所述出风口的朝向与水平方向交错。

进一步的,所述出风口的朝向与水平方向交错成锐角。

进一步的,所述第一风刀和第二风刀对称设置。

进一步的,所述水膜形成装置还包括水汽混合装置,所述喷嘴与所述水汽混合装置连接。

进一步的,所述水膜形成装置还包括与所述水汽混合装置连接的高压泵。

进一步的,所述包括喷嘴的数量设置为至少两个,所述第一风刀所在的一侧和所述第二风刀所在的一侧均设置有喷嘴。

与现有技术相比,本实用新型提供的一种玻璃清洁系统,用于去除玻璃表面的水滴,利用水膜形成装置与风刀结合,具体的,先用喷嘴将水雾喷射在玻璃上,然后通过水的张力将玻璃表面原有的水滴融合形成水膜,再结合重力和风力,有效地去除玻璃表面的水滴。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本实用新型的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1为现有技术中的玻璃清洁系统的结构示意图;

图2为本实用新型优选实施例的一种玻璃清洁系统的结构示意图。

图3为本实用新型的玻璃清洁系统中水膜形成装置的结构框图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

如图2所示,本实用新型的一种玻璃清洁系统,包括风刀1及水膜形成装置3,具体的,风刀1包括上风刀11、下风刀12及出风口13,出风口13设置在上风刀11和下风刀12之间,且出风口13的朝向倾斜;水膜形成装置3包括喷嘴31,喷嘴31设置在出风口13的附近,且喷嘴31的朝向和出风口13的朝向交错。本实用新型的玻璃清洁系统用于去除玻璃2表面的水滴,在具体实施时,将玻璃2倾斜放置在出风口13,利用水膜形成装置3与风刀1结合,即可有效地去除玻璃2表面的水滴。

如图3所示,水膜形成装置3包括高压泵33、水汽混合装置32和喷嘴31,高压泵33和喷嘴31分别与水汽混合装置32连接,喷嘴31设置在水汽混合装置32输出端。水膜形成装置3的功能原理如下:1、纯水经过高压泵33加压,经水汽混合装置32和喷嘴31转换成扇形的高压水雾;2、高压水雾经过角度的调校,作用在玻璃2表面,通过水的张力将玻璃2表面原有的水滴融合,在玻璃2表面形成水膜。

在本实施例中,在玻璃2的上下表面均设置有喷嘴31,出风口13的朝向与水平方向交错成锐角,喷嘴31的朝向与出风口13的朝向交错成锐角。喷嘴31将水雾喷射在玻璃2上,在玻璃2的上下表面均形成一层水膜。玻璃2倾斜放置在出风口13前端,推动玻璃2沿着与水平方向呈一定角度的方向缓慢地前进,运行一段时间后进入风刀1内部继续前进,水膜受重力的作用沿着与玻璃2的前进方向相反的方向滑下,再加上出风口13朝着水膜滑下的方向出风,加快了水膜与玻璃2之间的分离,从而去除了玻璃2上下表面的水滴。

综上,本实用新型提供的一种玻璃清洁系统,利用水膜形成装置与风刀结合,具体的,先用喷嘴将水雾喷射在玻璃上,然后通过水的张力将玻璃表面原有的水滴融合形成水膜,再结合重力和风力,有效地去除玻璃表面的水滴。

以上所述的具体实例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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