1.一种应用于牙科领域的污水处理设备，其特征在于，包括：
框架，其中所述框架的内腔内设有处于不同水平面的第一支撑板和第二支撑板；
收容水缸，设置在所述框架的内腔的底部，其中所述收容水缸的底部设置有第一输入口，且所述收容水缸的顶部设置有第一输出口；
提升泵，设置在所述框架的内腔的底部，其中所述提升泵通过第一输送管与所述收容水缸的第一输出口连通；
处理水缸，设置在所述第一支撑板上，其中所述处理水缸的第二输入口通过第二输送管与所述提升泵连通；
第一循环水管，其一端与所述处理水缸的第二输出口连通；
循环泵，设置在所述第一支撑板上，其中所述循环泵与所述第一循环水管的另一端连通；
第二循环水管，其一端与所述循环泵连通，另一端与所述处理水缸的第三输入口连通；
臭氧生成水缸，设置在所述第二支撑板上；
第一臭氧收容罐，设置在所述臭氧生成水缸的一侧，其中所述第一臭氧收容罐的底部通过第三输送管与所述臭氧生成水缸的底部连通；
第一高压发生器，设置在所述臭氧生成水缸的底部，且与所述第三输送管连接，以对所述第三输送管内的水进行高压电离，以通过所述第一臭氧收容罐收容臭氧；
其中，所述第一循环水管中设置有第一射流器，且所述第一射流器设有与所述第一臭氧收容罐连通的第一气体输入口，以使得所述第一循环水管中有水流动时，所述第一臭氧收容罐所产生的臭氧通过所述第一气体输入口进入所述第一循环水管中。
2.根据权利要求1所述的污水处理设备，其特征在于，还包括：
第二臭氧收容罐，设置在所述臭氧生成水缸的另一侧，其中所述第二臭氧收容罐的底部通过第四输送管与所述臭氧生成水缸的底部连通；
第二高压发生器，设置在所述臭氧生成水缸的底部，且与所述第四输送管连接，以对所述第四输送管内的水进行高压电离，以通过所述第二臭氧收容罐收容臭氧。
3.根据权利要求2所述的污水处理设备，其特征在于，所述第二循环水管中设置有第二射流器，其中所述第二射流器设有与所述第二臭氧收容罐连通的第二气体输入口，以使得所述第二循环水管中有水流动时，所述第二臭氧收容罐所产生的臭氧通过所述第二气体输入口进入所述第二循环水管中。
4.根据权利要求2所述的污水处理设备，其特征在于，所述臭氧生成水缸的两侧的底部分别延伸设置有第一承载板和第二承载板，所述第一臭氧收容罐设置在所述第一承载板上，所述第二臭氧收容罐设置在所述第二承载板上。
5.根据权利要求4所述的污水处理设备，其特征在于，所述臭氧生成水缸的一侧设有与所述臭氧生成水缸的一侧形成第一收容腔体的第一保护栏，所述第一臭氧收容罐收容在所述第一收容腔体内，且所述臭氧生成水缸的另一侧设有与所述臭氧生成水缸的另一侧形成第二收容腔体的第二保护栏，所述第二臭氧收容罐收容在所述第二收容腔体内。
6.根据权利要求5所述的污水处理设备，其特征在于，所述臭氧生成水缸的中部延伸设置有呈矩形状的凸出部，所述第一臭氧收容罐和所述第二臭氧收容罐分别设置在所述凸出部的两侧。
7.根据权利要求1所述的污水处理设备，其特征在于，所述收容水缸还设有溢出口，其中所述溢出口所处的高度比所述第一输入口所处的高度高，所述溢出口所处的高度比所述第一输出口所处的高度低，且所述收容水缸的第一输出口所在的高度比所述处理水缸的第二输入口所在的高度低。
8.根据权利要求7所述的污水处理设备，其特征在于，所述第一输送管上设置有用于控制所述第一输送管的通断的第一电磁阀，且所述第一循环水管上设置有用于控制所述第一循环水管的通断的第二电磁阀。
9.根据权利要求8所述的污水处理设备，其特征在于，所述第二输送管上设置有使得所述收容水缸的污水朝所述处理水缸流向的单向阀。
10.根据权利要求9所述的污水处理设备，其特征在于，所述处理水缸中设置有用于检测所述处理水缸的液位的液位传感器，以使得所述液位传感器检测到所述处理水缸的液位达到预定值时，所述循环泵开始工作。