一种3D玻璃专用清洗架的制作方法

文档序号:17811571发布日期:2019-05-31 22:41阅读:584来源:国知局
一种3D玻璃专用清洗架的制作方法

本实用新型涉及玻璃清洗技术领域,尤其涉及一种3D玻璃专用清洗架。



背景技术:

随着人们对智能终端产品的外观审美以及性能要求的提升,相关产品屏幕和后盖也从平面触屏逐渐向2.5D曲面、3D曲面过渡。3D玻璃具有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤等优势,能够增加弧形边缘外控功能,带来别致的触控手感,3D曲面玻璃具有很强烈的立体感,握直感和美感更好,另外它因为两边弧面,还可以增加很多功能,但是3D玻璃制造工艺难度较大,目前3D玻璃制造,工艺上较大的难度在于清洗时的造成的架子印,影响整个直通率。

3D玻璃热弯成型是将玻璃加热到特定温度软化,采用特定形状的模具热压成型得到所需3D形态玻璃的成型工艺。超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中,空化作用和直进流作用应用得更多。3D玻璃采用普通清洗架清洗,容易有干水印和架子印,超声波清洗机原理主要是通过换能器,将功率超声频源的声能转换成机械振动,通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到超声波的辐射,使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动,破坏污物与清洗件表面的吸附,引起污物层的疲劳破坏而被驳离,气体型气泡的振动对固体表面进行擦洗。由于现有的清洗架的齿条很容易接触到3D玻璃的弧边,所以在超声波清洗过程中容易造成架子印和干水印,很大程度上影响了良品率和直通率,因此3D玻璃清洗中应避免3D玻璃的曲面接触清洗架的齿条。



技术实现要素:

基于背景技术存在的技术问题,本实用新型提出了一种3D玻璃专用清洗架,设计3D玻璃专用的清洗架取代普通玻璃清洗架,能够有效避免清洗中3D玻璃曲面与清洗架的接触,从而保证了3D玻璃在超声波清洗过程中具有良好的良品率和直通率。

本实用新型提出的一种3D玻璃专用清洗架,包括清洗架本体和架设在清洗架本体上的齿条,齿条的齿槽成夹角为45-89度结构。

作为优选,形成齿槽夹角的一边与垂直于齿条的方向成15度夹角结构,另一边与垂直于齿条的方向成30-74度夹角结构。

作为优选,齿条的齿槽成夹角为89度结构。

作为优选,齿条为钢化齿条,齿条外镀设有铁氟龙层。

作为优选,齿条两侧均设有齿。

常规清洗架中齿条的齿槽呈30度夹角,本实用新型技术方案重新设计的3D专用清洗架齿条的角度和形状,根据玻璃曲面的曲率选择相应的齿槽夹角,可以有效防止3D玻璃曲面与清洗架的接触,从而避免超声清洗时造成的架子印和干水印,保证了3D玻璃清洗的良品率和直通率,且结构简单,易于实现。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的立体结构示意图。

具体实施方式

下面,通过具体实施例对本实用新型的技术方案进行详细说明。

实施例1:

如图1和图2所示,一种3D玻璃专用清洗架,包括清洗架本体1和架设在清洗架本体上的齿条2,齿条的齿槽3夹角为89度,其中形成齿槽夹角的一边与垂直齿条方向的夹角为15度,另一边与垂直齿条方向的夹角为74度,齿条为钢化齿条,齿条外镀有一层铁氟龙,齿条两侧均设有齿。

清洗时将手机后壳夹设在齿槽内,手机后壳背面面向与齿条方向的夹角为74度的齿槽一边,该边沿着玻璃边缘切线方向延伸向外,避开了与玻璃曲面的接触,随后进行超声清洗,不锈钢齿条上镀一层铁氟龙,保证清洗架齿条的强度和耐用性。

实施例2:

如图1和图2所示,一种3D玻璃专用清洗架,包括清洗架本体1和架设在清洗架本体上的齿条2,齿条的齿槽3夹角为45度,其中形成齿槽夹角的一边与垂直齿条方向的夹角为15度,另一边与垂直齿条方向的夹角为30度,齿条为钢化齿条,齿条外镀有一层铁氟龙,齿条两侧均设有齿。

清洗时将3D玻璃夹设在齿槽内,玻璃弯曲面面向与齿条方向的夹角为30度的齿槽一边,该边沿着玻璃边缘切线方向延伸向外,避开了与玻璃曲面的接触,随后进行超声清洗,不锈钢齿条上镀一层铁氟龙,保证清洗架齿条的强度和耐用性。

实施例3:

如图1和图2所示,一种3D玻璃专用清洗架,包括清洗架本体1和架设在清洗架本体上的齿条2,齿条的齿槽3夹角为65度,其中形成齿槽夹角的一边与垂直齿条方向的夹角为15度,另一边与垂直齿条方向的夹角为50度,齿条为钢化齿条,齿条外镀有一层铁氟龙,齿条两侧均设有齿。

清洗时将3D玻璃夹设在齿槽内,玻璃弯曲面面向与齿条方向的夹角为50度的齿槽一边,该边沿着玻璃边缘切线方向延伸向外,避开了与玻璃曲面的接触,随后进行超声清洗,不锈钢齿条上镀一层铁氟龙,保证清洗架齿条的强度和耐用性。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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