1.一种晶片清洗盆，其特征在于，该清洗盆包括：
钵状主体（1），所述钵状主体（1）的内部底面中心位置设有凸起结构（11），所述凸起结构（11）的中部设置第一通孔（111），所述第一通孔（111）的边缘设置有向上延伸的环形件（112），所述钵状主体（1）的底部连通有抽气管道（14）；
固定模组（2），所述固定模组（2）的第一端穿过所述第一通孔（111）用来固定晶片（9），所述固定模组（2）的第一端设置有向下延伸的环形扣（21）；
升降模组（3），所述升降模组（3）的移动端与所述固定模组（2）的第二端固定连接；
其中，
所述环形扣（21）的直径大于所述环形件（112）的直径，所述升降模组（3）处于下降状态时，所述环形扣（21）罩设在所述环形件（112）上，所述环形扣的下边沿（211）高度小于所述环形件的上边沿（1121）高度。
2.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述抽气管道（14）的数量为2个，所述抽气管道（14）对称分布在所述钵状主体（1）的两侧。
3.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述钵状主体（1）的内部底面高度自中心位置向边沿位置按照预定倾斜角度下降。
4.根据权利要求3所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述预定倾斜角度为1-8°。
5.根据权利要求4所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述预定倾斜角度为3-5°。
6.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述钵状主体（1）的侧壁包括在下设置的基座（12）、在上设置的罩体（13），所述基座（12）为圆柱壳结构，所述罩体（13）与所述基座（12）在连接处构成阶梯互卡结构。
7.根据权利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述基座（12）为pvc材质。
8.根据权利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述罩体（13）为pp材质。
9.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述固定模组（2）包括：
转轴（22），所述转轴（22）为圆柱壳结构，所述转轴（22）的侧壁设置有贯穿孔（221），所述贯穿孔（221）与所述转轴（22）的内腔相连通，所述转轴（22）的底部与电机（23）转子轴连接，使得所述转轴（22）能够绕自轴旋转，所述环形扣（21）固定在所述转轴（22）的顶部；
中间层（24），所述中间层（24）套设在所述转轴（22）上，所述中间层（24）与所述转轴（22）之间的间隙距离为预定值，所述中间层（24）的两端固定有轴承，所处轴承的内圈与所述转轴（22）紧配合，所述中间层（24）的内侧壁设置有凹入的环形腔（241），所述环形腔（241）与所述贯穿孔（221）相连通，所述中间层（24）上开设有第二通孔（242），所述第二通孔（242）的一端与所述中间层（24）的外部空间连通，所述第二通孔（242）的另一端与所述环形腔（241）相连通；以及
外壳（25），所述外壳（25）套设在所述中间层（24）上，所述外壳（25）上设置有抽气孔（251），所述抽气孔（251）的一端与所述第二通孔（242）相连通，所述抽气孔（251）的另一端与外部的抽气装置连接；
其中，
所述转轴（22）的顶部放置所述晶片（9），通过在所述转轴（22）内抽真空固定所述晶片（9）。