一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统的制作方法

文档序号:20816346发布日期:2020-05-20 02:33阅读:123来源:国知局
一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统的制作方法

本实用新型涉及水处理技术领域,特别涉及一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统。



背景技术:

原水是指采集于自然界,包括地下水、山泉水、水库水等自然界中的天然水源,未经过任何人工的净化处理。原水的水质因水源不同而异,在原水中存在高藻和有机污染问题时,净水处理一般选用预处理+常规处理+深度处理的方案,其存在净化流程长,构筑物多,设备繁琐,占地面积大等缺陷。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题是针对上述不足,提供一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统。

本实用新型是通过以下技术方案实现的:

一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,该处理系统包括以管道依次连接的臭氧接触池、气浮池和炭砂滤池;所述臭氧接触池包括相连通的臭氧投加区和臭氧接触区,所述气浮池包括相连通的溶气接触区和分离区,所述分离区内设置排渣区和清水区;所述炭砂滤池包括依次连通的进水区、过滤区、清水区和反冲洗系统,所述过滤区从上至下依次为配水槽、滤料层、滤板滤头和配水配气区,所述滤料层的上层为颗粒活性炭层,下层为石英砂层。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述臭氧投加区设置射流扩散器,所述射流扩散器通过臭氧投加管与臭氧发生器连接。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述臭氧接触池和所述气浮池之间依次设置混合池和絮凝池,所述混合池和所述絮凝池内分别设置搅拌机。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述混合池设置絮凝剂投加管。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述混合池设置助凝剂投加管。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述溶气接触区设置溶气释放头,所述溶气释放头连接溶气罐,所述溶气罐的布气区连接空压机,所述溶气罐的布水区连接增压水泵,所述增压水泵连接所述清水区。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述进水区包括依次连通的进水渠和进水配水堰,所述进水配水堰的出水进入所述配水槽。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述清水区包括依次连通的出水井、出水堰和清水渠,清水渠设置出水管。

进一步的,所述的一种用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统,所述反冲洗系统包括反冲洗水泵和反冲洗鼓风机,反冲洗鼓风机通过反冲洗气管连接至滤池,反冲洗水泵通过反冲洗水管连接至所述滤池。

本实用新型的优点与效果是:

1.本实用新型提供的处理系统采用臭氧接触池、气浮池和炭砂滤池联合针对高藻及有机污染原水进行处理。臭氧接触池预氧化水质有机物和预杀藻,将难降解有机物氧化成易降解有机物,气浮池去除藻类,可达到95%以上,炭砂滤池的上层颗粒活性炭可有效的吸附臭氧氧化后的有机物,下层石英砂可有效截留原水中的浊质,使出水达到《生活饮用水卫生标准》(gb5749-2006)的要求。

2.本实用新型提供的处理系统采用臭氧接触池、气浮池和炭砂滤池结合方式,节约了占地,降低了工程投资,并减少了净水工艺流程中的水头损失,降低了水厂运行能耗,具有水处理流程短,处理效率高,构筑物少,占地面积小等优点。

附图说明

图1示出本实用新型提供的用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统的实施例的结构示意图。

附图标记说明:1-流量计井、11-进水管、2-配水井、3-臭氧接触池、31-臭氧投加区、32-臭氧接触区、33-射流扩散器、34-臭氧投加管、35-臭氧发生器、4-混合池、41-絮凝剂投加管、42-第一搅拌机、43-加药间、5-絮凝池、51-第二搅拌机、6-气浮池、61-溶气接触区、62-分离区、63-排渣区、64-清水区、65-溶气释放头、66-溶气罐、67-增压水泵、68-空压机、69-第一排污管、7-炭砂滤池、71-配水配气区、72-滤板滤头、73-滤料层、74-配水槽、75-进水渠、76-进水配水堰、77-排水渠、78-第二排污管、79-出水管、80-反冲洗鼓风机、81-反冲洗水泵、83-反冲洗气管、84-反冲洗水管、85-反冲洗水池、86-清水渠、87-出水井、88-出水堰、8-反冲洗系统。

具体实施方式

为使本实用新型实施的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行更加详细的描述。所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。基于本实用新型中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明:

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。

图1示出本实用新型提供的用于净水厂高藻及有机污染原水的处理系统的实施例的结构示意图。该处理系统包括以管道依次连接的臭氧接触池3、气浮池6和炭砂滤池7。进一步的,臭氧接触池3和气浮池6之间还依次设置混合池4和絮凝池5,混合池4和絮凝池5内分别设置搅拌机(即第一搅拌机42和第二搅拌机51)。混合池4设置与加药间43连通的絮凝剂投加管41,还可设置助凝剂投加管。亦可在加药间43将助凝剂与絮凝剂混合一同通过絮凝剂投加管41投加至混合池4,絮凝剂和助凝剂的品种根据不同原水水质进行选择。

臭氧接触池3包括相连通的臭氧投加区31和臭氧接触区32。进一步的,臭氧投加区31设置射流扩散器33,射流扩散器33通过臭氧投加管34与臭氧发生器35连接。采用臭氧预氧化改变有机物的性质和结构,将复杂的芳香类有机物分解为含氧类链状有机物,将部分大分子有机物转换为小分子有机物,使环状有机物开环、断链,有利于后续工艺段的处理。同时臭氧预氧化还可氧化、分解水中各种有机或无机污染物质,对于铁、锰、硫化物、农药、合成洗涤剂、三致物质、色嗅味的去除有很大作用,并有杀菌灭藻和病毒灭活的作用。具体的是,臭氧投加量为0.5-2mg/l,由水射器及其配套的增压泵将臭氧发生器35制得的臭氧气体通过臭氧投加管34抽吸至射流扩散器33。臭氧接触区的有效停留时间3.0分钟,有效水深6.0m。

气浮池6包括相连通的溶气接触区61和分离区62,分离区62内设置排渣区63和清水区64。排渣区63设置第一排污管69,第一排污管69连接至污泥处理系统。气浮法净水是在水中通入或产生大量的微细气泡,使其粘附于杂质絮粒上,造成整体比重小于水的状态,并依靠浮力使其上浮至水面,从而获得固、液分离的状态。进一步的,溶气接触区61设置溶气释放头65,溶气释放头65连接溶气罐66。溶气罐66包括布水区、填料区、布气区和溶气水储存区。溶气罐66的布气区连接空压机68,溶气罐66的布水区连接增压水泵67,增压水泵67连接清水区64。溶气罐66产生溶气水通过溶气释放头65投放至溶气接触区61。具体的是,分离区负荷为10-13m3/㎡/h,回流比约为10%。

炭砂滤池7包括依次连通的进水区、过滤区、清水区和反冲洗系统,过滤区从上至下依次为配水槽74、滤料层73、滤板滤头72和配水配气区71,滤料层的上层为颗粒活性炭层,下层为石英砂层。上层颗粒活性炭可有效的吸附臭氧氧化后的有机物,下层石英砂有效截留原水中的浊质。进一步的,进水区包括依次连通的进水渠75和进水配水堰76,进水配水堰76的出水进入配水槽74,进水均匀的进入到每个滤池。清水区包括依次连通的出水井87、出水堰88和清水渠86,清水渠86设置出水管79。反冲洗系统包括包括反冲洗鼓风机80和反冲洗水泵81,反冲洗鼓风机80通过反冲洗气管83连接至滤池,反冲洗水泵81通过反冲洗水管84连接至滤池,滤池反冲洗排水至排水渠77,排水渠77设置第二排污管78,第二排污管78连接至污泥处理系统。具体的是,过滤区滤速为7-9m/h,滤料层上层为1-1.5米颗粒活性炭层,为煤质颗粒活性炭,下层为1-1.5米砂层,为均质石英砂。炭砂滤池采用气水反冲洗,气冲洗强度55m3/m2·h,水冲洗强度≤25m3/m2·h。

该处理系统的工作流程:

原水通过进水管11经流量计井1和配水井2计量后进入到臭氧接触池3,在臭氧接触池3的臭氧投加区31投加臭氧,在臭氧接触池3的臭氧接触区32接触氧化后,经管道进入到混合池4,在混合池4进水处投加絮凝剂,再进入絮凝池5进行絮凝(必要时可添加助凝剂)。之后进入气浮池6的溶气接触区61,在溶气接触区61使回流的溶气水与原水充分接触后进入气浮池6的分离区62,水中的杂质絮粒由气泡上浮至水面,水力排放至排渣区通过第一排污管69至污泥处理系统,下层的清水进入气浮池6的清水区64,再通过管道进入炭砂滤池7的进水渠75,经进水配水堰76至每个滤池,通过每个配水槽74进水向下流经颗粒活性炭滤料层、石英砂滤料层、滤板滤头72进入滤池下部空间,并通过出水井87和出水堰88至清水渠86通过出水管流出,完成整个处理过程。经检测,该处理系统的出水水质可以满足并优于《生活饮用水卫生标准》(gb5749-2006)的要求。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,并非用来限定本实用新型的实施范围。但凡在本实用新型的保护范围内所做的等效变化及修饰,皆应认为落入了本实用新型的保护范围内。

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