一种去静电风淋室的制作方法

本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体涉及一种去静电风淋室。

背景技术：

风淋室是进入无尘车间的一个通道，广泛应用于微细科技、生物实验室、制药厂、医院、食品加工业、lcd、电子厂等等生产加工领域，对环境空气的净化程度要求非常高。有些生产加工领域对防爆要求很高，这就要求操作人员在进入洁净室前不仅要去除带入风淋室的粉尘同时要去除身上的静电。

公告号为cn108816945a的发明专利具体公开了除静电风淋室，包括外箱，安装在外箱顶部的顶箱，安装在外箱底部的底座，安装在外箱左侧的左侧箱，安装在外箱右侧的右侧箱，所述顶箱、底座、左侧箱和右侧箱围成一个封闭的风淋室，所述左侧箱的内部安装有高效过滤器，其底部安装有风机，其顶部安装有风管，所述高效过滤器的第一进风口安装有离子网，所述风管连通于左侧箱和右侧箱之间，此专利有效除去静电，使风淋室的净化效果更彻底。

上述专利主要用于风淋室空气中静电的去除，虽然可以达到净化粉尘的效果，但是人体本身所附带的静电不能有效的去除。如果通过人体将这些静电带入洁净区，可能会对清洁室的安全产生影响。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种去静电风淋室，不仅能有效的消除空气中的静电，还能快速有效的去除人体携带的静电，预防静电对洁净区造成的不可控的风险。

为了实现以上目的，本实用新型采取的一种技术方案是：

一种去静电风淋室，包括风淋腔、进门、出门、进风口以及出风口，所述风淋腔内设一直立金属杆，所述金属杆的上端与顶壁固定连接，所述金属杆的下端接地；所述风淋腔的顶壁及侧壁设有多个第一进风口，所述风淋腔的底面设有多个第一出风口；所述风淋腔的顶壁及侧壁外侧设置有第一储风仓，所述风淋腔的底面外侧设置有第二储风仓，所述第一储风仓与所述第二储风仓隔离；所述第一储风仓与所述进风口及所述第一进风口连通；所述第二储风仓与所述出风口连通，所述第二储风仓与所述第一出风口单向连通。

进一步，所述金属杆穿过所述第二储风仓与地面连接。

进一步，所述第一进风口为锥形管结构，所述第一进风口内设置有第一滤芯以及负离子膜滤芯，所述负离子膜滤芯吸附有颗粒状的负离子材料；所述第一滤芯以及所述负离子膜滤芯组合后形成的结构与所述第一进风口紧密贴合。

进一步，所述负离子膜滤芯紧靠所述风淋室设置。

进一步，所述第一进风口的直径沿进风侧向出风侧方向逐渐减小。

进一步，所述第一出风口为一圆形通孔且在圆心通孔内设有封闭膜，所述封闭膜单向导通；所述封闭膜在所述风淋腔内的气压作用下打开。

进一步，所述封闭膜由至少三组扇形板依次搭接，所述扇形板圆弧端与所述第一出风口侧壁固定连接，所述扇形板相邻的两直边相互搭接。

进一步，还包括红外感应装置，设置于所述顶壁，用于感应所述风淋腔内是否有待清洁物品；所述红外感应装置感应到所述风淋腔内有待清洁物品后，启动所述进风口。

进一步，所述进门和出门上设置有观察窗。

进一步，所述封闭膜为塑性材料。

本实用新型的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：

(1)本实用新型的一种去静电风淋室，金属杆用于快速的去除人体静电，防止人体携带静电进入洁净区，在具有防爆要求的洁净区内防止促发火花或爆炸风险。

(2)本实用新型的一种去静电风淋室，第一进风口在上，第一出风口在下，对风淋室的风流具有导向作用，更易于将待清洁物品及人体的粉尘吹离并带出风淋室。第一进风口为锥形管结构，从进风侧到出风侧直径逐渐减小，即使在较小的风压和风量下也能获得较远的喷射距离及喷射范围，并能使气体风压稳定，风量恒定。

(3)本实用新型的一种去静电风淋室，设置了第一储风仓使得进风口送风经过第一储风仓预存，然后经第一进风口预处理，达到净化送风的目的，相对比风淋腔直接送风，所送风风压稳定风量恒定。设置第二储风仓作为排风的暂存区，防止直接排风导致的排风不稳定问题。第一储风仓与第二储风仓相互隔离，防止进风和出风混合。第一出风口设有封闭膜，此封闭膜单向导通。在风淋室无风压的作用下，处于紧闭状态，防止第二储风仓的风回流进风淋室；当受到风淋室风压时封闭膜打开，第一出风口导通，第二储风仓的气流将携带有粉尘及细菌的气体通过第二出风口带入第二储风仓，在出风口的导向下排出风淋室。达到清洁的目的。

(4)本实用新型的一种去静电风淋室，第一进风口内设置有第一滤芯以及负离子膜滤芯，负离子膜滤芯吸附有颗粒状负离子材料，能够使通过第一进风口的风携带负离子至风淋室，更进一步地去除风淋室内游离的在粉尘上的静电，防止粉尘带静电飘移影响除尘效果。

(5)本实用新型的一种去静电风淋室，风淋室内设置红外感应装置，用于感应待清洁物品并通过感应结果启动和关闭进风口，避免人工操作，实现智能化。

附图说明

下面结合附图，通过对本实用新型的具体实施方式详细描述，将使本实用新型的技术方案及其有益效果显而易见。

图1所示为本实用新型一实施例的去静电风淋室的结构示意图；

图2所示为本实用新型一实施例的去静电风淋室的剖视图；

图3所示为本实用新型一实施例的第一进风口的剖视图；

图4所示为本实用新型一实施例的第一出风口的正视图。

图中部件编号如下：

1-风淋腔、11-顶壁、12-侧壁、13-底面2-进门、21-观察窗、3-出门、4-进风口、41-第一进风口、42-第一滤芯、43-负离子膜滤芯、44-进风侧、45-出风侧、51-第一出风口、52-封闭膜、6-金属杆、7-第一储风仓、8-第二储风仓、9-红外感应装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实施例中，提供一种去静电风淋室。如图1所示，去静电风淋室包括风淋腔1、进门2、出门3、进风口4、出风口5以及金属杆6。

进门2以及出门3设置有观察窗21以方便操作人员查看风淋室的使用情况。进门2以及出门3采用电子连锁装置、机械连锁装置或自净式连锁装置中的一种，保证单边开门，防止进门2和出门3同时开启，导致非洁净区的粉尘大量涌入洁净室。金属杆6用于快速的去除人体静电，防止人体携带静电进入洁净区，在具有防爆要求的洁净区内防止促发火花或爆炸风险。

如图2所示，去静电风淋室还包括红外感应装置9，用于感应风淋腔1内是否有待清洁物品，当感应风淋腔1感应到待清洁物品后启动进风口4，所述进风口4一般的通过管道与鼓风装置连接，如风机，红外感应装置9为现有技术的常用的红外感应装置，其用以控制进风的开启，如开启风机或者进风口的开关，当然，红外感应装置不是必须的，可以通过手动或者其他的自动控制装置来实现风机的开启与关闭或者进风口的开关。风淋腔1的顶壁11及侧壁12设有多个第一进风口41，风淋腔1的底面13设有多个第一出风口51，风淋腔1的顶壁11及侧壁12外侧设置有第一储风仓7，风淋腔1的底面13外侧设置有第二储风仓8，第一储风仓7与第二储风仓8相互隔离，防止进风和出风混合。金属杆6的一端与顶壁11固定连接，金属杆6的另一端穿过第二储风仓8与地面连接；所述金属杆6在所述风淋室内的位置不做具体限定，优选靠近右侧壁设置。进风口4为第一储风仓7送风，出风口5为第二储风仓8排风。

如图3所示，第一进风口41为锥形管结构，第一进风口41内设置有第一滤芯42以及负离子膜滤芯43，第一滤芯42以及负离子膜滤芯43组合后形成的结构与第一进风口41紧密贴合，第一进风口41的直径沿进风侧44向出风侧45逐渐减小。负离子膜滤芯43吸附有颗粒状负离子材料。第一滤芯42和负离子膜滤芯43可以过滤第一储风仓7内的空气，防止进风口4送来的空气中含有的粉尘进入风淋腔1。空气是由无数分子、原子组成的。当空气中的分子或原子失去或获得电子后，便形成带电的粒子，称为离子；带正电荷的叫正离子，带负电荷的叫负离子。负离子是空气中一种带负电荷的气体离子，这些负电荷与空气中带正电荷的粉尘结合后下沉，被风压带至第二储风仓8，从而达到除尘的目的。负离子材料时人类利用自然界产生负离子的原理用工合成的一种复合材料，一般都是电气石粉+镧系元素或者稀土元素配制而成。第一进风口41内设置负离子膜滤芯43可持续的产生负离子在送风的过程中可以随风送入风淋腔1，消耗风淋腔1内粉尘中的部分静电，使粉尘顺利吹离风淋腔1及待清洁物品。

如图4所示，第一出风口51为一圆形通孔且设有封闭膜52，封闭膜52在受到风淋腔1内气压作用下打开，第一出风口51单向导通。封闭膜52由多组扇形板拼接而成，优选三组。所述扇形板圆弧端与所述第一出风口51侧壁固定连接，扇形板与扇形板接触部位搭接。封闭膜52由塑性材料组成。当受到风压作用时，扇形板与扇形板接触部位搭接部位在风压的作用下分开，并随风压方向浮动，此时出风口5排风。待待清洁物品离开风淋腔1后，扇形板复位。

静电风淋室的使用过程如下：操作人员首先确认进门2和出门3处于关闭状态。然后手动打开进门2，进入风淋腔1内，此时出门3不能打开；关闭进门2，手握金属杆6，此时红外感应装置9感应到人体的存在，进风口4启用。进风口4在鼓风机的作用下持续往第一储风仓7内送空气，在强大风压的作用下第一储风仓7内的空气流向第一进风口41，空气经第一滤芯42以及负离子膜滤芯43过滤后携带负离子流向风淋腔1内。风淋腔1内产生强大的风压，风吹离人体外表面的粉尘后，风淋腔1内的气体携带粉尘流向第一出风口51，封闭膜52在风压的作用下打开，空气涌入第二储风仓8，经出风口5排出。

以上所述仅为本实用新型的示例性实施例，并非因此限制本实用新型专利保护范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。