一种半导体设备的器件清洗装置的制作方法

本实用新型属于半导体设备技术领域，具体涉及一种半导体设备的器件清洗装置。

背景技术：

半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间，利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件，可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换。半导体器件的半导体材料是硅、锗或砷化镓，可用作整流器、振荡器、发光器、放大器、测光器等器材。为了与集成电路相区别，有时也称为分立器件。绝大部分二端器件(即晶体二极管)的基本结构是一个pn结。

随着电子器件的小型化和高集成度的特征，半导体器件上残留的杂质颗粒通常较小，现有直接水流冲洗的方式已经满足不了半导体设备器件的清洗要求，需要器件处于运动中清洗才可满足清洗要求。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种半导体设备的器件清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体设备的器件清洗装置，包括清洗池、承载板和分流喷管，所述清洗池呈矩形箱体结构，且所述清洗池底端面四角均焊接有支撑脚，所述清洗池两侧内壁对称焊接有支撑块，且两组所述支撑块顶端面通过螺栓螺纹固定安装有用于放置半导体设备器件的承载板；

所述承载板底端面中间设置有金属弹性过滤网，且金属弹性过滤网贯穿至承载板底端面，所述清洗池两侧对称内壁之间设置有用于清洗半导体设备器件的分流喷管，且所述分流喷管朝向承载板的一侧面对称设置有n组喷头，所述分流喷管背向喷头的一侧面中间位置贯穿有连接管，所述清洗池一侧面通过螺栓螺纹固定安装有步进电机，所述步进电机的输出轴贯穿至清洗池内并且通过减速器连接有转轴，所述转轴位于承载板垂直正下方，并且所述转轴周侧套接有n组偏心轮，所述偏心轮的偏心端与承载板的金属弹性过滤网接触。

优选的，所述清洗池两侧内壁均对称设置有第一电动滑轨，且两组所述第一电动滑轨内均滑动连接有滑块，所述滑块与分流喷管两端固定连接，所述分流喷管垂直正下方且位于清洗池内壁均通过螺栓螺纹固定安装有第二电动滑轨，所述第二电动滑轨之间滑动连接有滑板，所述滑板底端面设置有用于刷洗半导体设备器件的毛刷。

优选的，所述清洗池内底端面设置有倾斜坡体，且两侧倾斜坡体之间垂直设置有排水管，所述排水管内设置有球阀。

优选的，所述清洗池远离步进电机的一侧面焊接有三角支撑架，所述清洗池内壁且位于承载板一端开设有出口，且出口内设置有带动拉环的防护块，所述防护块与三角支撑架平齐。

优选的，所述转轴周侧且位于偏心轮两侧均通过紧固螺栓螺纹固定安装有固定套，且所述转轴两端均通过轴承与清洗池连接。

本实用新型的技术效果和优点：该半导体设备的器件清洗装置，通过设置分流喷管、承载板、金属弹性过滤网和偏心轮，将半导体设备器件放置在金属弹性过滤网上，步进电机带动转轴和偏心轮转动，偏心轮碰撞金属弹性过滤网，使得金属弹性过滤网上的器件翻动被分流喷管进行清洗，便于器件的翻转清洗，提高清洗效率；通过设置第一电动滑轨、滑块、第二电动滑轨和毛刷，第一电动滑轨通过滑块带动分流喷管移动，满足不同位置器件的清洗，第二电动滑轨带动滑板和毛刷移动，便于清洗器件的杂质颗粒；通过设置倾斜坡体和排水管，倾斜坡体的设置便于污水从排水管排出；该半导体设备的器件清洗装置，能够便于器件的翻转清洗，提高清洗效率。

附图说明

图1为本实用新型的清洗池剖视图；

图2为本实用新型的清洗池局部剖视图；

图3为本实用新型的固定套结构示意图。

图中：1清洗池、2承载板、3分流喷管、4支撑脚、5支撑块、6第二电动滑轨、7滑板、8滑块、9第一电动滑轨、10毛刷、11步进电机、12偏心轮、13固定套、14排水管、15防护块、16三角支撑架、17紧固螺栓、18转轴。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型提供了如图1-3所示的一种半导体设备的器件清洗装置，包括清洗池1、承载板2和分流喷管3，所述清洗池1呈矩形箱体结构，且所述清洗池1底端面四角均焊接有支撑脚4，所述清洗池1两侧内壁对称焊接有支撑块5，且两组所述支撑块5顶端面通过螺栓螺纹固定安装有用于放置半导体设备器件的承载板2；

所述承载板2底端面中间设置有金属弹性过滤网，且金属弹性过滤网贯穿至承载板2底端面，所述清洗池1两侧对称内壁之间设置有用于清洗半导体设备器件的分流喷管3，且所述分流喷管3朝向承载板2的一侧面对称设置有n组喷头，所述分流喷管3背向喷头的一侧面中间位置贯穿有连接管，所述清洗池1一侧面通过螺栓螺纹固定安装有步进电机11，所述步进电机11的输出轴贯穿至清洗池1内并且通过减速器连接有转轴18，所述转轴18位于承载板2垂直正下方，并且所述转轴18周侧套接有n组偏心轮12，所述偏心轮12的偏心端与承载板2的金属弹性过滤网接触，将半导体设备器件放置在金属弹性过滤网上，步进电机11带动转轴18和偏心轮12转动，偏心轮12碰撞金属弹性过滤网，使得金属弹性过滤网上的器件翻动被分流喷管3进行清洗，便于器件的翻转清洗，提高清洗效率。

具体的，所述清洗池1两侧内壁均对称设置有第一电动滑轨9，且两组所述第一电动滑轨9内均滑动连接有滑块8，所述滑块8与分流喷管3两端固定连接，所述分流喷管3垂直正下方且位于清洗池1内壁均通过螺栓螺纹固定安装有第二电动滑轨6，所述第二电动滑轨6之间滑动连接有滑板7，所述滑板7底端面设置有用于刷洗半导体设备器件的毛刷10，第一电动滑轨9通过滑块8带动分流喷管3移动，满足不同位置器件的清洗，第二电动滑轨6带动滑板7和毛刷10移动，便于清洗器件的杂质颗粒。

具体的，所述清洗池1内底端面设置有倾斜坡体，且两侧倾斜坡体之间垂直设置有排水管14，所述排水管14内设置有球阀，倾斜坡体的设置便于污水从排水管14排出。

具体的，所述清洗池1远离步进电机11的一侧面焊接有三角支撑架16，所述清洗池1内壁且位于承载板2一端开设有出口，且出口内设置有带动拉环的防护块15，所述防护块15与三角支撑架16平齐，通过拉环拉出防护块15，器件从出口取出至三角支撑架16上。

具体的，所述转轴18周侧且位于偏心轮12两侧均通过紧固螺栓17螺纹固定安装有固定套13，且所述转轴18两端均通过轴承与清洗池1连接，紧固螺栓17贯穿至固定套13内部。

具体的，该半导体设备的器件清洗装置，将半导体设备器件放置在金属弹性过滤网上，步进电机11带动转轴18和偏心轮12转动，偏心轮12碰撞金属弹性过滤网，使得金属弹性过滤网上的器件翻动被分流喷管3进行清洗，第一电动滑轨9通过滑块8带动分流喷管3移动，第二电动滑轨6带动滑板7和毛刷10移动，倾斜坡体的设置便于污水从排水管14排出。该半导体设备的器件清洗装置，能够便于器件的翻转清洗，提高清洗效率。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。