电去离子过滤器的制作方法

文档序号:22045419发布日期:2020-08-28 18:39阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种电去离子过滤器,包括:

壳体,配备有进水口和出水口;

第一电极,以螺旋形式安装在所述壳体内;

第二电极,以螺旋形式安装在所述壳体内并且与所述第一电极间隔开;和

离子交换模块,安装在所述第一电极和所述第二电极之间,并且构造成吸收或分离通过施加于所述离子交换模块的电而引入的水中的离子物质,

其中,所述第一电极和所述第二电极中的至少一个具有中央区域比周围区域更致密的结构。

2.根据权利要求1所述的电去离子过滤器,其中,所述第一电极和所述第二电极可以具有以下结构:在该结构中,与所述第一电极和所述第二电极的外围区域相比,所述第一电极和所述第二电极的中央区域更致密。

3.根据权利要求2所述的电去离子过滤器,还包括安装在所述离子交换模块内部并形成有出口的芯构件,在所述离子交换模块中去离子的净化水通过所述出口,

其中,所述第一电极围绕所述芯构件的外表面螺旋地卷绕。

4.根据权利要求3所述的电去离子过滤器,其中,通过形成在所述芯构件中的固定槽将所述第一电极引入所述离子交换模块中,

其中,所述第一电极的中央区域对应于在所述固定槽和所述芯构件的上端之间的三个等分部分的中央部分,并且所述第一电极的外围区域对应于中央区域上方和下方的区域。

5.根据权利要求2所述的电去离子过滤器,还包括安装在所述离子交换模块外部并设置有开口的支撑构件,

其中,所述第一电极围绕所述支撑构件的外表面螺旋地卷绕。

6.根据权利要求5所述的电去离子过滤器,其中,所述第二电极通过形成在所述壳体的底表面中的第二电极安装孔被引入到所述壳体中,

其中,所述第二电极的中央区域对应于在所述第二电极安装孔与所述支撑构件的上端之间的三个等分部分中的中央部分,所述第二电极的外围区域对应于中央区域上方和下方的区域。

7.根据权利要求1所述的电去离子过滤器,其中,所述第一电极的中央区域对应于所述第一电极与水接触的整个高度的三个等分部分中的中央部分,所述第一电极的外围区域对应于中央区域上方和下方的区域。

8.根据权利要求1所述的电去离子过滤器,其中,所述第二电极的中央区域对应于所述第二电极与水接触的整个高度的三个等分部分中的中央部分,并且所述第二电极的外围区域对应于中央区域上方和下方的区域。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的电去离子过滤器,其中所述第一电极和所述第二电极的外围区域的平均电极间距是所述第一电极和所述第二电极的中央区域的平均电极间距的两倍至十倍。

10.根据权利要求9所述的电去离子过滤器,其中,所述第一电极的中央区域的平均电极间距是2mm至10mm,所述第二电极的中央区域的平均电极间距是1cm至3cm。

11.根据权利要求3或4所述的电去离子过滤器,其中,所述芯构件包括形成在所述芯构件的外周表面上的装配凹部,以固定所述第一电极的位置。

12.根据权利要求1至8中任一项所述的电去离子过滤器,其中,与所述第二电极的中央区域相比,所述第一电极的中央区域具有更致密的结构。

13.根据权利要求1至8中任一项所述的电去离子过滤器,其中,所述离子交换模块包括双极性离子交换膜,所述双极性离子交换膜通过将具有阳离子交换树脂的阳离子交换膜和具有阴离子交换树脂的阴离子交换膜联接而形成。

14.根据权利要求1至8中任一项所述的电去离子过滤器,其中,所述壳体包括:壳体主体,在所述可壳体主体中上部和下部暴露;上部盖,覆盖所述壳体主体的上部;下部盖,覆盖所述壳体主体的下部;

其中,所述下部盖包括:第一电极安装部分和第二电极安装部分,所述第一电极和第二电极通过所述第一电极安装部分和第二电极安装部分被引入到所述壳体中;以及进水口和出水口。

15.一种电去离子过滤器,包括:

壳体,配备有进水口和出水口;

第一电极,以螺旋形式安装在所述壳体内;

第二电极,以螺旋形式安装在所述壳体内并且与所述第一电极间隔开;和

离子交换模块,安装在所述第一电极和所述第二电极之间,并且构造成吸收或分离通过施加于所述离子交换模块的电而引入的水中的离子物质,

其中,所述第一电极和所述第二电极中的至少一个具有一个区域比另一区域更致密的结构。


技术总结
本发明涉及一种电去离子过滤器,包括:壳体,具有进水口和出水口;第一电极,以螺旋形式安装在所述壳体内;以螺旋形式安装在所述壳体内以与所述第一电极间隔开;和离子交换模块,安装在所述第一电极和所述第二电极之间,以吸收或分离包含在通过施加电而引入的水中的离子物质,其中,所述第一电极和所述第二电极中的至少一个具有中央区域比周围区域更致密的结构。根据本发明,可以增加电去离子过滤器的电极的寿命,并且可以容易地促进电极和相关部件的组装。

技术研发人员:李相荣;姜尚贤;金澈晧;权兑星;文炯珉;文诚敏;李俊永;李丙弼;牟昞宣;李国元
受保护的技术使用者:科唯怡株式会社
技术研发日:2019.01.08
技术公布日:2020.08.28
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