用于高压清洁设备的清洁头的制作方法

本发明涉及用于清洁面的高压清洁设备的清洁头，其具有上部和下部，上部具有用于联接至高压清洁设备的联接体，下部能抵靠到待清洁的面上。

背景技术：

可以借助于这种清洁头清洁面，特别是地面，玻璃面或例如建筑物立面。清洁头构成用于高压清洁设备的附件，并且可以沿待清洁的面被使用者移动。清洁头具有联接体，联接体布置在清洁头的上部上并且可以联接至高压清洁设备。联接体与高压清洁设备之间的连接例如可以通过压力管路实现，通过压力管路将处于压力下的清洁介质、特别是处于压力下的清洁液提供给清洁头以用于清洁面。

清洁头的下部能抵靠到待清洁的面上，使得使用者可以沿面在面上移动清洁头。此类清洁头对于本领域技术人员是已知的，例如从de102005048092b4和de102007029245a1中已知。

技术实现要素：

本发明的任务是改进前述类型的清洁头，使其具有更简单的操作性。

在此类清洁头中，根据本发明此任务通过以下方式解决，即，下部以能绕虚拟摆转轴线枢转的方式支承在上部上，其中，下部和上部具有相互协作的支承元件，并且虚拟摆转轴线布置成相对于支承元件朝待清洁的面的方向偏移，其中，下部能以能脱开的方式与上部连接，并且其中，在清洁头的使用位置中，虚拟摆转轴线与待清洁的面的距离最大为±7mm。

根据本发明的清洁头具有能抵靠到待清洁的面上的下部，下部能相对于上部绕虚拟摆转轴线枢转。可枢转性通过布置在下部和上部上的相互协作的的支承元件实现。可枢转性允许下部以不同的摆转角度相对于上部且相对于布置在上部上的联接体定向。由此，对于使用者来说，清洁头沿待清洁的面的引导被简化，特别是在待清洁的面不平的情况中。

如果清洁头在工作方向上沿待清洁的面被引导，则出现摩擦力，使用者必须克服该摩擦力。待清洁的面越粗糙，则摩擦力越大。摩擦力可能导致清洁头在工作方向上向前倾斜，使得下部在其相对于工作方向的后部区域内从待清洁的面抬起，并且下部的相对于工作方向的前部区域则从上方倾斜地压向待清洁的面。因此，清洁力导致相当大的倾覆力矩。为抵消此类倾覆力矩，下部能相对于上部绕虚拟摆转轴线枢转，其中，在清洁头的使用位置中，虚拟摆转轴线相对于支承元件朝待清洁的面的方向偏移。因此，在清洁头处于使用位置时，虚拟摆转轴线与待清洁的面的距离小于支承元件与待清洁的面的距离。特别地可以规定，将虚拟摆转轴线布置为非常靠近地在待清洁的面上方，布置在待清洁的面之内或甚至布置在待清洁的面的下方。虚拟摆转轴线与待清洁的面的相对较小的距离的结果是，在沿待清洁的面引导清洁头时，由于摩擦力而出现的倾覆力矩可以保持得非常小。如已提及，特别地可以规定，将虚拟摆转轴线布置在待清洁的面下方。虚拟摆转轴线的此类定位的结果是，当在沿待清洁的面引导清洁头时出现的摩擦力很大时，则该摩擦力可能导致下部的相对于工作方向的前部区域竖起。下部的前部区域竖起导致可以以简单的方式克服待清洁的面的不平整和严重的粗糙度。这进一步简化了根据本发明的清洁头的操作。

在根据本发明的清洁头的使用位置中，虚拟摆转轴线与待清洁的面的距离最大为±7mm，特别是最大为±5mm。

根据本发明的清洁头的下部能以能脱开的方式与上部连接。特别地，这使得使用者可以使用分别与不同的清洁任务的解决方案相匹配的不同的下部。在这种情况下，使用者还可以将损坏或磨损的下部更换为新的下部。

有利的是，相互协作的支承元件构成至少一个第一支承元件和至少一个第二支承元件，其中，每个第一支承元件限定圆弧形的导轨，第二支承元件滑动式贴靠在圆弧形的导轨上，其中，导轨与虚拟摆转轴线同心地定向。在此类设计方案中，清洁头具有至少一个第一支承元件，第一支承元件与第二支承元件协作以实现下部的能摆转的支承。至少一个第一支承元件构成用于所配属的第二支承元件的导轨。在下部枢转时，第二支承元件可以沿第一支承元件的导轨在其上滑动。导轨被设计为圆弧形，其中，圆心限定了虚拟摆转轴线，下部能绕虚拟摆转轴线相对于上部枢转。通过合适地选择圆弧形的导轨的曲率，虚拟摆转轴线可以以很小距离定位在待清洁的面上方或下方，或者也可以定位在待清洁的面之内。

优选地，至少一个第一支承元件布置在下部上，并且至少一个第二支承元件布置在上部上。

有利的是，至少一个第一支承元件布置在下部上并且构成支撑构件，上部通过第二支承元件支撑在支撑构件上。在此类设计方案中，下部的至少一个第一支承元件承担上部的重量。

在本发明的有利的设计方案中，至少一个第一支承元件具有圆弧形的滑动面，滑动面与虚拟摆转轴线同心地定向并且构成导轨。与第一支承元件相互协作以用于实现能摆转的支承的第二支承元件可以具有互补地设计的第二滑动面，第二滑动面滑动式贴靠在第一支承元件的滑动面上。

替代地或补充地可以规定，第二支承元件具有多个支撑肋，支撑肋贴靠在第一支承元件的圆弧形的滑动面上。支撑肋可以使第二支承元件具有特别高的机械承载能力。

有利的是，第二支承元件具有保持构件，支撑肋从保持构件朝第一支承元件的圆弧形的滑动面的方向突出。此类设计方案导致上部的第二支承元件的附加的稳定。

保持构件有利地被设计为圆弧形。

特别地可以规定，圆弧形的保持构件与虚拟摆转轴线同心地定向。

有利的是，下部能以能脱开的方式与上部锁定。这使得使用者更容易更换下部，因为使用者为此仅需脱开下部与上部之间的卡锁连接。

特别有利的是，能在没有工具的情况下脱开上部和下部之间的卡锁连接。

在本发明的优选的设计方案中，下部具有至少一个第一卡锁元件，第一卡锁元件能以能脱开的方式与布置在上部上的第二卡锁元件锁定，其中，至少一个第一卡锁元件构成与虚拟摆转轴线同心定向的圆弧形的第一卡锁突起，并且第二卡锁元件从后方接合第一卡锁突起。此类设计方案以结构简单并且可廉价制造的方式确保了下部可以绕虚拟摆转轴线相对于上部枢转，而下部与上部之间的卡锁连接不会意外脱开。

有利的是，布置在上部上的第二卡锁元件构成与虚拟摆转轴线同心定向的圆弧形的第二卡锁突起。上部的第二卡锁突起可以从后方接合第一卡锁突起，并且由于两个卡锁突起的圆弧形的设计方案以及它们与虚拟摆转轴线的同心定向，确保了在下部枢转时下部与上部之间的卡锁连接不会脱开。

在本发明的优选的设计方案中，第二卡锁突起保持在上部的支承元件上。

特别地可以规定，第二卡锁突起与上部的支承元件一体式连接，使得第二卡锁突起和所配属的支承元件共同构成上部的结构元件。

至此未更详细地给出关于联接体的设计方案。如所提及，联接体可以例如用于引导压力流，在压力流的作用下，将待清洁的面清洁。

有利的是联接体刚性地与上部连接。这提高了清洁头的机械承载能力。

联接体优选布置在上部的背对下部的上侧上。

在本发明的优选的设计方案中，上部具有朝下部的方向敞开的、罩状的壳体，在壳体内布置有至少一个喷射嘴，并且联接体构成管件，通过管件能向至少一个喷射嘴施加处于压力下的清洁液。处于压力下的清洁液，例如在要求的情况中可以混合以清洁化学品的水，可以借助于至少一个喷射嘴在压力下对准待清洁的面。压力可以例如大于30巴，特别是大于70巴。在处于压力下的清洁液的作用下，可以有效地清洁面。处于压力下的清洁液通过联接体向喷射嘴供给，联接体为此构成为管件。例如，可以将压力软管或射束管联接至联接体，从高压清洁设备通过射束管向联接体供给处于压力下的清洁液。

在本发明的优选的设计方案中，根据本发明的清洁头的下部构成包围了贯通开口的保持框。例如，可以通过贯通开口将处于压力下的清洁液喷射到待清洁的面上。

有利的是，在保持框的背对上部的下侧上保持有清洁体。

在本发明的优选的设计方案中，清洁体具有大量清洁刷。清洁刷可以将机械清洁作用加载到待清洁的面上。也可以规定，清洁刷构成对于在压力下被施加到待清洁的面上的清洁液的防溅射保护。

清洁刷例如可以构成刷环。

替代地可以规定，清洁体构成形状稳定的或形状可变的擦拭套，例如擦拭垫或擦拭织物或擦拭毡。此类擦拭套可以特别地用于清洁光滑的面，特别是用于清洁玻璃面。

特别有利的是清洁体能以能脱开的方式与下部的保持框连接。这允许使用者更换损坏或磨损的清洁体，而不必更换整个下部。另外，可以从下部的保持框上脱开被污染的清洁体，例如被污染的擦拭套，并且然后将其清洗。

优选地，清洁体通过粘扣连接以能脱开的方式保持在保持框上。这允许特别简单地更换清洁体而无需专用工具。粘扣连接对于本领域技术人员以不同的设计方案已知。粘扣连接具有相互协作的连接元件，例如钩和孔眼或钩和丝绒材料，连接元件在此情况中一方面固定在保持框上，另一方面固定在清洁体上。

附图说明

下文通过参考附图详细解释本发明的两个有利的设计方案。各图为：

图1示出根据本发明的清洁头的有利的第一实施方案的透视图示；

图2示出图1中的清洁头的俯视图；

图3示出沿图2中的线3-3的清洁头的部分截面视图；

图4示出图3中的细节x的放大的图示；

图5示出沿图4中的线5-5的清洁头的清洁头的截面视图；

图6示出图1中的清洁头的透视图示，其中，上部从下部抬起以便于理解；

图7示出根据本发明的清洁头的有利的第二实施方案的透视图示；

图8以分解图的方式示出图7中的清洁头的透视图示；

图9示出图6中的清洁头的透视图示，图中为便于理解从斜下方示出从下部摘下的清洁体。

具体实施方式

在图1至图6中示意性地图示了根据本发明的清洁头的有利的第一设计方案。清洁头总体上以附图标记10表示，并且具有上部12和下部14，上部和下部能以能脱开的方式相互连接并且能绕虚拟摆转轴线16相对彼此枢转。清洁头10用于清洁面18，例如地面、玻璃面或例如建筑物立面。清洁头10可以沿待清洁的面18在通过箭头20所示的工作方向上往复移动，其中，下部14可以抵靠到待清洁的面18上。为避开待清洁的面18的不平整处和粗糙处，下部14能相对于上部12绕虚拟摆转轴线16枢转。虚拟摆转轴线16垂直于工作方向20定向。

上部12具有朝下部14的方向敞开的罩状的壳体22。壳体22具有基本上垂直于工作方向定向的端侧24和后侧26。此外，壳体具有第一纵向侧28和第二纵向侧30，第一纵向侧和第二纵向侧基本上平行于工作方向定向。此外，壳体22具有上侧32。在上侧32上固定有联接体34，联接体可以通过在图中未图示的、本身已知的射束管联接至同样在图中未图示的并且本身已知的高压清洁设备。联接体34构成管件36，管件在其背对上部12的自由端上携带卡口接头38，射束管可以联接至卡口接头。

在图示的实施例中，罩状的壳体22包围了喷射装置40，喷射装置联接至管件36并且具有喷射横梁42，多个喷射嘴44、46、48、50联接至喷射横梁。借助于喷射嘴44、46、48、50，可以向待清洁的面18喷射处于压力下的清洁液，从高压清洁设备通过喷射横梁42和管件36以及前文所提及的射束管向喷射嘴44、46、48、50供给清洁液。

下部14构成在俯视图中基本上是矩形的保持框52，保持框52包围了中心的贯通开口54。通过中心的贯通开口54，由喷射嘴44、46、48、50给出的清洁液可以指向待清洁的面18。

保持框52在其背对上部12的下侧上携带清洁体56，清洁体具有大量清洁刷58，这些清洁刷构成包围了贯通开口54的刷环60。清洁体56尤其用作防溅射保护，以避免喷射到待清洁的面18上的液体从面18的被清洁头10覆盖的区域向外逸出。

保持框52具有外保持环62和内保持环64，在保持框52的面向上部12的上侧上在外保持环和内保持环之间构成环形容纳部66，罩状的壳体22以自由边缘68沉入到环形容纳部内。

内保持环64由前环壁70、后环壁72以及第一纵向壁74和第二纵向壁76形成。前环壁70和后环壁72基本垂直于工作方向20定向，并且第一纵向壁74和第二纵向壁76基本平行于工作方向20定向。

下部14在内保持环64的两个纵向壁74、76的相互背对的侧上分别具有第一支承元件78、80，第一支承元件在其面向上部12的上侧上具有呈圆弧形的滑动面82或84的形式的圆弧形的导轨。

滑动面82、84与虚拟摆转轴线16同心地定向，即虚拟摆转轴线16将圆弧形的滑动面82、84的假想的圆心连接。

下部14的外保持环62具有端侧区域88、后部区域90以及第一纵向区域92和第二纵向区域94。端侧区域88基本平行于内保持环64的前环壁70走向，而后部区域90基本平行于内保持环的后环壁72走向。第一纵向区域92基本平行于内保持环64的第一纵向壁74走向，而第二纵向区域94基本平行于外保持环64的第二纵向壁94走向。

在纵向区域92、94的面向纵向壁74、76的侧上，下部14分别具有第一卡锁元件95、97，第一卡锁元件与第一支承元件78和80对置，并且由与虚拟摆转轴线16同心地定向的圆弧形的第一卡锁凸起96、98形成。

上部12在壳体22的第一纵向侧28和第二纵向侧30上分别具有第二支承元件100、102，第二支承元件构成与虚拟摆转轴线16同心地定向的圆弧形的保持构件104或106，从保持构件104或106的面向下部14的下侧突出有多个相互平行定向的支撑肋108。保持构件104、106的支撑肋108分别位于下部14的第一支承元件100、102的滑动面82或84上。下部14的第一支承元件78、80因此构成支撑构件，上部12支撑在支撑构件上。

第二支承元件100、102在其背对上部12的纵向侧28以及30的自由边缘上分别携带第二卡锁元件99、101，第二卡锁元件由圆弧形的第二卡锁突起103、105形成，第二卡锁突起与虚拟摆转轴线16同心地定向。

上部12可以放置到下部14上。在此，第二支承元件100、102位于第一支承元件78、80的滑动面82、84上，并且第二卡锁突起103、105分别从后方接合第一卡锁突起96、98。在需要时，上部12也可以又从下部14移除，例如以更换下部14。

如已提及，下部14可以绕虚拟摆转轴线16相对于上部12枢转。为此目的，第二支承元件100、102与第一支承元件78、80协作，这通过使得每个第二支承元件100、102在第一支承元件78、80的圆弧形的滑动面82、84上沿其滑动来实现。虚拟摆转轴线16由圆弧形的滑动面82、84的假想的圆心限定，并且相对于第一支承元件78、80和第二支承元件100、102朝待清洁的面18的方向偏移。在所图示的实施例中，虚拟摆转轴线16在清洁刷58的区域内以与待清洁的面18很小距离地走向。虚拟摆转轴线16与不使用的清洁刷58的自由端部的距离例如可以小于5mm。也可以规定，将虚拟摆转轴线16布置在待清洁的面18内或布置在待清洁的面18下方。

虚拟摆转轴线16占据与待清洁的面18的很小距离的结果是，在沿待清洁的面18引导清洁头10时所产生的摩擦力要么根本不引起倾覆力矩，要么仅引起很小的倾覆力矩，使得实际上清洁头10在沿工作方向20移动时不存在向前倾覆的风险，并且布置在外保持环62的后部区域90的下侧上的清洁刷58从待清洁的面18抬起。很小的倾覆力矩还使得使用者更容易沿待清洁的面移动清洁头10。甚至也可以借助清洁头10不费力地清洁不平的和/或非常粗糙的面18。

在图7、图8和图9中示意性地图示了根据本发明的清洁头的有利的第二实施方式，清洁头在整体上以附图标记110表示。清洁头110被设计为与上面参考图1至图6的清洁头10基本相同。因此，对于相同的构件，在图7、图8和图9中使用与图1至图6相同的附图标记，并且避免重复关于这些构件参考以上说明。

清洁头110具有上部112和下部114，其中，下部114可以绕虚拟摆转轴线116相对于上部112枢转，虚拟摆转轴线被布置为与待清洁的面相距很小的距离，以将在沿待清洁的面18引导清洁头110时出现的倾覆力矩保持得很小。

清洁头110与清洁头10的不同之处在于，下部114具有保持框116，在保持框的下侧上以能脱开的方式保持有呈擦拭套120的形式的清洁体118。因此，与清洁头10不同，清洁头110不有刷环60，而是清洁头110具有擦拭套123，擦拭套可以从下部114脱开以便对其进行清洗。

为了将擦拭套123以能脱开的方式与保持框116连接，使用粘扣连接125，粘扣连接125本身对于本领域技术人员是已知的，并且因此其仅在图9中示意性地被图示。借助于粘扣连接125，可以将清洁头110的擦拭套123以简单的方式从保持框116脱开而无需专用工具，以清洗擦拭套123。然后可以将清洗后的擦拭套123通过粘扣连接125再次与保持框116连接。