一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置的制作方法

文档序号:22047644发布日期:2020-08-28 21:10阅读:853来源:国知局
一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置的制作方法

本发明涉及一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置,具体地说是一种采用了刷洗装置和升降装置的球形圆底烧瓶清理装置,属于实验用品领域。



背景技术:

球形圆底烧瓶是实验室重要的溶液反应容器,由于其结构的独特性,其颈部细长,底部球形结构体积较大,在清理其底部的内壁时,普通清理刷需从颈部的细口处伸入,由于颈口形状的限制,刷子活动范围有限,从而对球形底部的内壁清理不全面,烧瓶内壁因清理不完全而残留的物质会对未来瓶内的实验产生影响,目前迫切地需要一种能够对球形圆底烧瓶内壁清理全面的装置,但目前缺少这种装置。



技术实现要素:

针对上述的不足,本发明提供了一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置。

本发明是通过以下技术方案实现的:一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置,是由旋转装置、托盘、支撑架、刷洗装置和升降装置组成的,所述的旋转装置与托盘一端面接触连接,托盘与支撑架通过螺钉固定连接,刷洗装置顶部与旋转装置底部通过螺栓铰接,支撑架与升降装置滑动连接;

所述的旋转装置是由旋转杆、把套和圆球组成的,四个把套分别与旋转杆四周的一端圆周面固定连接,四个圆球分别与旋转杆四周的另一端嵌套连接,所述的旋转杆是由把手、球槽、连杆、直杆和长凸块组成的,连杆的四端与分别四个把手固定连接,连杆中间一端与直杆的一端固定连接,直杆的另一端与长凸块一端面固定连接,所述的长凸块两端分别开有两个通孔;

所述的托盘是由凸缘、滑道和圆孔组成的,所述的滑道位于凸缘的一端面,凸缘的四周对称开有四个圆孔通孔;

所述的支撑架是由支撑杆、圆环和支撑脚组成的,所述的圆环一端分别与四个支撑杆一端固定连接,圆环的另一端分别与四个支撑脚固定连接;

所述的刷洗装置是由实心杆、开槽杆、毛球、第一磁铁、第二磁铁和弹簧组成的,所述的两个实心杆分别与四个第一磁铁固定连接,两个开槽杆分别与第二磁铁固定连接,第一磁铁与第二磁铁通过磁力固定连接,进而实心杆与开槽杆固定连接,毛球与实心杆的一端固定连接,弹簧的一端与一实心杆侧面的一端通过螺钉固定连接,弹簧的另一端与另一实心杆侧面的一端通过螺钉固定连接;

所述的实心杆是由吊耳、杆体、固定孔和磁铁孔组成的,所述的吊耳与杆体的一端侧面固定连接,杆体中间的侧面开有一固定孔,杆体的另一端侧面均匀开有四个磁铁孔;

所述的升降装置是由橡胶条、升降架组成的,所述的橡胶条与升降架的中间圆周面固定连接;

所述的升降架是由大圆架、连架杆、小圆架、撑条和卡槽组成的,所述的大圆架一端分别与四个连接杆的一端固定连接,四个连接杆的另一端分别与小圆架的一端固定连接,小圆架的另一端分别与四个撑条一端固定连接,撑条的另一端开有卡槽;

所述的支撑杆表面具有均匀凹凸块结构,并且表面经过剖光打磨处理;

所述的支撑架和升降装置材质均为不锈钢,型号为301;

所述的实心杆和开槽杆均为硬质聚四氟乙烯材质;

所述的毛球材质为涤纶树脂。

该发明的有益之处在于:该装置能够对球形圆底烧瓶内壁进行方便和全面的清刷;所述的清理装置在旋转装置的带动下,在离心力的作用下能够增大清刷范围,使用者能够调整旋转装置旋转速度实现清理装置清刷范围的调整;所述的旋转装置能够通过圆球与托盘的滑道减小摩擦力,减小旋转装置在旋转时的摩擦力;所述的实心杆上具有四个固定连接的第一磁铁,使用者能够通过选择其中一个第一磁铁与第二磁铁吸附,从而调整实心杆和开槽杆的总长度;所述的支撑杆表面与的作用与所述的升降装置能够用于放置球形圆底烧瓶,使用者在使用时不需使用双手固定烧瓶;所述的支撑杆表面具有经过抛光打磨的均匀凹凸块结构,使用者调整升降装置在支撑杆的位置实现升降装置高度的调整;所述的实心杆和开槽杆采用聚四氟乙烯耐酸碱性材质,毛球采用涤纶树脂耐酸碱性材质,防止烧瓶内残留的液体对实心杆、开槽杆和毛球产生腐蚀。

附图说明

图1为本发明的轴测示意图;

图2为本发明使用时的轴测示意图;

图3为本发明的主视图;

图4为本发明的左视图;

图5为本发明的俯视图;

图6为支撑架的轴测示意图;

图7为旋转装置的示意图;

图8为旋转杆的结构示意图;

图9为旋转杆的底部结构示意图;

图10为升降装置的示意图;

图11为托架的结构示意图;

图12为托架与支撑架连接示意图;

图13为清理装置常态时的示意图;

图14为清理装置使用时的示意图;

图15为旋转杆的上部结构示意图;

图16为旋转装置连接示意图;

图17为托盘结构示意图;

图18为托盘处连接示意图;

图19为刷洗装置状态一示意图;

图20为刷洗装置状态二示意图;

图21为实心杆的轴测示意图;

图22为实心杆的主视图;

图23为实心杆的剖视图;

图24为弹簧与实心杆的连接示意图。

图中,1、旋转装置,101、旋转杆,10101、把手,10102、球槽,10103、连杆,10104、直杆,10105、长凸块,10106、通孔,102、把套,103、圆球,2、托盘,201、凸缘,202、滑道,203、圆孔,3、支撑架,301、支撑杆,302、圆环,303、支撑脚,4、刷洗装置,401、实心杆,40101、吊耳,40102、杆体,40103、固定孔,40104、磁铁孔,402、开槽杆,403、毛球,404、第一磁铁,405、第二磁铁,406、弹簧,5、升降装置,501、橡胶条,502、升降架,50201、大圆架,50202、连架杆,50203、小圆架,50204、撑条,50205、卡槽。

具体实施方式

一种实验室用球形圆底烧瓶清理装置,是由旋转装置1、托盘2、支撑架3、刷洗装置4和升降装置5组成的,所述的旋转装置1与托盘2一端面接触连接,托盘2与支撑架3通过螺钉固定连接,刷洗装置4顶部与旋转装置1底部通过螺栓铰接,支撑架3与升降装置5滑动连接;

所述的旋转装置1是由旋转杆101、把套102和圆球103组成的,四个把套102分别与旋转杆101四周的一端圆周面固定连接,四个圆球103分别与旋转杆101四周的另一端嵌套连接,所述的旋转杆101是由把手10101、球槽10102、连杆10103、直杆10104和长凸块10105组成的,连杆10103的四端与分别四个把手10101固定连接,连杆10103中间一端与直杆10104的一端固定连接,直杆10104的另一端与长凸块10105一端面固定连接,所述的长凸块10105两端分别开有两个通孔10106;

所述的托盘2是由凸缘201、滑道202和圆孔203组成的,所述的滑道202位于凸缘201的一端面,凸缘201的四周对称开有四个圆孔203通孔10106;

所述的支撑架3是由支撑杆301、圆环302和支撑脚303组成的,所述的圆环302一端分别与四个支撑杆301一端固定连接,圆环302的另一端分别与四个支撑脚303固定连接;

所述的刷洗装置4是由实心杆401、开槽杆402、毛球403、第一磁铁404、第二磁铁405和弹簧406组成的,所述的两个实心杆401分别与四个第一磁铁404固定连接,两个开槽杆402分别与第二磁铁405固定连接,第一磁铁404与第二磁铁405通过磁力固定连接,进而实心杆401与开槽杆402固定连接,毛球403与实心杆401的一端固定连接,弹簧406的一端与一实心杆401侧面的一端通过螺钉固定连接,弹簧406的另一端与另一实心杆401侧面的一端通过螺钉固定连接;

所述的实心杆401是由吊耳40101、杆体40102、固定孔40103和磁铁孔40104组成的,所述的吊耳40101与杆体40102的一端侧面固定连接,杆体40102中间的侧面开有一固定孔40103,杆体40102的另一端侧面均匀开有四个磁铁孔40104;

所述的升降装置5是由橡胶条501、升降架502组成的,所述的橡胶条501与升降架502的中间圆周面固定连接;

所述的升降架502是由大圆架50201、连架杆50202、小圆架50203、撑条50204和卡槽50205组成的,所述的大圆架50201一端分别与四个连接杆的一端固定连接,四个连接杆的另一端分别与小圆架50203的一端固定连接,小圆架50203的另一端分别与四个撑条50204一端固定连接,撑条50204的另一端开有卡槽50205;

所述的支撑杆301表面具有均匀凹凸块结构,并且表面经过剖光打磨处理;

所述的支撑架3和升降装置5材质均为不锈钢,型号为301;

所述的实心杆401和开槽杆402均为硬质聚四氟乙烯材质;

所述的毛球403材质为涤纶树脂。

该装置在使用时,首先将该装置放置于桌面,将球形圆底烧瓶放置于升降装置5的大圆架50201或小圆架50203上,向烧瓶内部放置清水或清洗剂,根据球形圆底烧瓶底部球形结构的球径选择第二磁铁405与实心杆401上的其中一个第一磁铁404吸附,将刷洗装置4伸至球形圆底烧瓶的内部,将旋转装置1放置于托盘2上,将四个圆球103分别放置于托盘2的滑道202内,调整升降装置5在支撑杆301的位置,直至刷洗装置4与球形圆底烧瓶底部接触,使用者握住四个把套102中的任意一个,以直杆10104作为旋转轴,进行顺时针或逆时针旋转,调整旋转的速度,使毛球403与球形圆底烧瓶内壁接触,球形圆底烧瓶下半球体内壁刷洗完毕后,停止旋转装置1的旋转,降低升降装置5离地的高度,继续握住握住四个把套102中的任意一个,以直杆10104作为旋转轴对旋转装置1进行旋转,直至完成对球形圆底烧瓶球形内壁的清刷,将刷洗装置4从烧瓶内部取出,将烧瓶在升降装置5上拿起,倒掉烧瓶内部的液体,完成对球形圆底烧瓶的清理。

对于本领域的普通技术人员而言,根据本发明的教导,在不脱离本发明的原理与精神的情况下,对实施方式所进行的改变、修改、替换和变型仍落入本发明的保护范围之内。

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