一种自清洗光催化反应器的制作方法

本实用新型涉及污水处理技术领域，尤其涉及一种自清洗光催化反应器。

背景技术：

生活中会产生大量污水，工厂也会产生大量污水，直接排放污水会对环境造成影响，因此污水需要进行处理，常见的污水处理方式有多种，其中包括一种紫外线光催化的处理方式，在这种方式中，污水处理过程是将紫外灯、催化剂网和镇流器置于污水池内，因为除污主要是利用紫外线灯发出的紫外线光来达到一个处理污水的作用。

紫外线灯是有保护罩的，保护罩会因为长时间置于污水中而沾满污渍，阻挡紫外线光的照射从而无法达到除污的一个作用，因为现有的操作是每次紫外灯保护罩脏了，需要拆出来清洗，这样做增加了人工成本且耽误工作，清洗阶段和安装阶段是不能工作的，因此我们做出改进，提出自清洗光催化反应器。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中现有的紫外线灯保护罩容易被污渍沾满，影响工作人员的污水池的工作效率和效果的问题，而提出的一种自清洗光催化反应器。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种自清洗光催化反应器，包括池体，所述池体的侧壁上设置有喷头，所述池体的底部设置有保护罩，所述保护罩的内部设置有紫外线灯，所述保护罩的表面设置有挡环和螺旋叶片，所述保护罩的底部设置有隔离罩，所述池体与所述保护罩的接触处设置有环形槽，所述隔离罩的边侧设置有与所述环形槽相匹配的配重环，所述保护罩的表面设置有限位环，所述限位环的底部设置有轴承，所述池体的表面设置有限位板，所述限位板位于所述限位环的上侧，所述环形槽的内侧设置有第一磁环，所述隔离罩的内侧设置有与所述第一磁环相匹配的第二磁环。

优选的，所述挡环为若干个，等距排布在所述保护罩的外壁顶部。

优选的，所述挡环的顶端设置有斜面。

优选的，所述螺旋叶片位于所述保护罩的外壁底部。

优选的，所述第二磁环的直径长度小于所述第一磁环的直径长度。

优选的，所述隔离罩的截面呈等腰梯形结构。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种自清洗光催化反应器，具备以下有益效果：

1、该自清洗光催化反应器，通过喷头可以与外接的水泵相连接，通过外接水泵将干净的水源喷入池体中，喷头会喷在保护罩的表面，实现对保护罩的清洁，进而实现自清洗的目的，提高了工作人员的工作效率，降低了工作人员拆卸保护罩进行清洗的劳动强度，提高了企业的收益，降低了企业运行的成本。

2、该自清洗光催化反应器，通过挡环，当喷头喷出的高压水流喷在挡环上时，水流的朝向会发生改变，进而使得水流能够更好的喷淋在保护罩的表面，提高对保护罩的清洁效果，通过螺旋叶片，当喷头的高压水流作用在螺旋叶片上时，由于螺旋叶片的螺旋式结构，这使得水流会在螺旋叶片的表面施加压力，进而使得螺旋叶片发生转动，转动的螺旋叶片可以使得保护罩的表面能够更加充分的与喷头喷出的水流接触，提高水流对保护罩的清洁效果，进一步提高工作人员的工作效率。

3、该自清洗光催化反应器，通过环形槽可以容纳隔离罩和配重环，通过配重环可以提高隔离罩的稳定性，当保护罩转动时，通过配重环和隔离罩可以保护保护罩的底部，进而延长保护罩的使用寿命，通过第一磁环和第二磁环可以使得保护罩转动时更加稳定，提高其转动的稳定性和转动的持续时间。

该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型通过在池体的内侧设置喷头，将喷头与外部水泵和干净的水源连接，当保护罩在工作过程中沾上了污渍，启动喷头，喷头可以喷出水流，水流作用在保护罩的表面，可以对保护罩上的污渍进行清洁，避免工作人员进行拆卸清洁，节约了企业的运营成本。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种自清洗光催化反应器的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种自清洗光催化反应器的保护罩结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种自清洗光催化反应器的保护罩底部剖视结构示意图。

图中：1、池体；2、喷头；3、保护罩；4、挡环；5、螺旋叶片；6、隔离罩；7、环形槽；8、配重环；9、限位环；10、轴承；11、限位板；12、第一磁环；13、第二磁环。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-3，一种自清洗光催化反应器，包括池体1，池体1的侧壁上设置有喷头2，池体1的底部设置有保护罩3，保护罩3为透明结构的透明罩，保护罩3的内部设置有紫外线灯，通过喷头2可以与外接的水泵相连接，通过外接水泵将干净的水源喷入池体1中，喷头2会喷在保护罩3的表面，实现对保护罩3的清洁，进而实现自清洗的目的，提高了工作人员的工作效率，降低了工作人员拆卸保护罩3进行清洗的劳动强度，提高了企业的收益，降低了企业运行的成本，保护罩3的表面设置有挡环4和螺旋叶片5，保护罩3的底部设置有隔离罩6，通过挡环4，当喷头2喷出的高压水流喷在挡环4上时，水流的朝向会发生改变，进而使得水流能够更好的喷淋在保护罩3的表面，提高对保护罩3的清洁效果，通过螺旋叶片5，当喷头2的高压水流作用在螺旋叶片5上时，由于螺旋叶片5的螺旋式结构，这使得水流会在螺旋叶片5的表面施加压力，进而使得螺旋叶片5发生转动，转动的螺旋叶片5可以使得保护罩3的表面能够更加充分的与喷头2喷出的水流接触，提高水流对保护罩3的清洁效果，进一步提高工作人员的工作效率，池体1与保护罩3的接触处设置有环形槽7，隔离罩6的边侧设置有与环形槽7相匹配的配重环8，保护罩3的表面设置有限位环9，限位环9的底部设置有轴承10，池体1的表面设置有限位板11，限位板11可通过粘胶剂固定在池体1上，用于限位限位环9，限位板11位于限位环9的上侧，环形槽7的内侧设置有第一磁环12，隔离罩6的内侧设置有与第一磁环12相匹配的第二磁环13，通过环形槽7可以容纳隔离罩6和配重环8，通过配重环8可以提高隔离罩6的稳定性，当保护罩3转动时，通过配重环8和隔离罩6可以保护保护罩3的底部，进而延长保护罩3的使用寿命，通过第一磁环12和第二磁环13可以使得保护罩3转动时更加稳定，提高其转动的稳定性和转动的持续时间。

其中，挡环4为若干个，等距排布在保护罩3的外壁顶部，通过若干个挡环4可以使得保护罩3的外壁顶部在受到水流冲击时能够将更多的水流引向保护罩3的其他表面，进而使得保护罩3能够更加充分的与水流接触，提高清洁效果。

其中，挡环4的顶端设置有斜面，通过斜面可以使得水流被向上引流，进而使得水流能够在保护罩3的顶部清洗其表面。

其中，螺旋叶片5位于保护罩3的外壁底部，通过位于保护罩3底部的螺旋叶片5可以使得螺旋叶片5在受力时，保护罩3转动更加稳定，降低其受到晃动影响的程度。

其中，第二磁环13的直径长度小于第一磁环12的直径长度，通过第二磁环13的直径长度小于第一磁环12的直径长度可以使得第二磁环13可以贴在第一磁环12的内侧一起转动。

其中，隔离罩6的截面呈等腰梯形结构，通过截面呈等腰梯形结构的隔离罩6，可以使得隔离罩6在受到水流冲击时能够将水流引向隔离罩6的两侧。

本实用新型中，通过喷头2可以与外接的水泵相连接，通过外接水泵将干净的水源喷入池体1中，喷头2会喷在保护罩3的表面，实现对保护罩3的清洁，进而实现自清洗的目的，提高了工作人员的工作效率，降低了工作人员拆卸保护罩3进行清洗的劳动强度，提高了企业的收益，降低了企业运行的成本，通过挡环4，当喷头2喷出的高压水流喷在挡环4上时，水流的朝向会发生改变，进而使得水流能够更好的喷淋在保护罩3的表面，提高对保护罩3的清洁效果，通过螺旋叶片5，当喷头2的高压水流作用在螺旋叶片5上时，由于螺旋叶片5的螺旋式结构，这使得水流会在螺旋叶片5的表面施加压力，进而使得螺旋叶片5发生转动，转动的螺旋叶片5可以使得保护罩3的表面能够更加充分的与喷头2喷出的水流接触，提高水流对保护罩3的清洁效果，进一步提高工作人员的工作效率，通过环形槽7可以容纳隔离罩6和配重环8，通过配重环8可以提高隔离罩6的稳定性，当保护罩3转动时，通过配重环8和隔离罩6可以保护保护罩3的底部，进而延长保护罩3的使用寿命，通过第一磁环12和第二磁环13可以使得保护罩3转动时更加稳定，提高其转动的稳定性和转动的持续时间。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。