一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构的制作方法

本实用新型涉及晶圆清洗设备领域，具体涉及一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构。

背景技术：

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之ic产品。晶圆的原始材料是硅，而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼，盐酸氯化，并经蒸馏后，制成了高纯度的多晶硅，其纯度高达99.999999999％。

晶圆表面附着大约2um的al2o3和甘油混合液保护层，在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗，目前的晶圆的清洗采用放置在清洗液池内进行清理，利用旋转流动的清洗液对晶圆表面进行洗刷，但是放置在内的晶圆为固定式，不便于工作人员进行翻面清洗，从而降低清洗的效率。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构，解决了以上所述的技术问题。

本实用新型解决上述技术问题的方案如下：一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构，包括箱体、框架和清洗池，所述箱体的内部中间固定安装有清洗池，清洗池的内部顶端设有滚筒，滚筒的表面转动安装有挡板，滚筒的两端固定安装安装有轴杆，轴杆转动安装在框架的内部，所述框架的顶端一侧固定安装有第一马达，第一马达的输出端通过皮带转动连接轴杆，所述框架的顶端中间固定连接在液压缸的输出端，且液压缸固定安装在箱体的外部顶端。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型通过设置滚筒，使待清洗的晶圆可以放置在内，达到了提供放置清洗位置的效果，通过设置第一马达，使滚筒可以进行转动，达到了转动帮助滚筒内放置的晶圆进行翻面的效果。

2、本实用新型通过设置液压缸，使框架内转动安装的滚筒可以进行升降，达到了降下让滚筒浸入清洗池内和升起至风干区域进行风干的效果。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进。

进一步，所述箱体的内部一侧嵌入安装有第一风扇，箱体的内部另一侧嵌入安装有第二风扇。

采用上述进一步方案的有益效果是：第一风扇为进风扇，而第二风扇为抽风扇，通过第一风扇和第二风扇的配合，使箱体内可以产生流动风，达到了产生流动风并让滚筒内放置的晶圆进行风干的效果。

进一步，所述清洗池的内部中间固定安装有网板，清洗池的内部底端中间设有扇叶，扇叶固定安装在第二马达的输出端，且第二马达固定安装在箱体的内部底端。

采用上述进一步方案的有益效果是：网板的安装则是隔开扇叶和滚筒，防止互相碰到造成损坏，而通过扇叶和第二马达的配合，使清洗池内清洗液可以产生转动，达到了旋转清洗液让其流动清洗滚筒内部放置的晶圆效果。

进一步，所述清洗池的内部底端一侧连接安装有管道，管道的内部固定安装有阀门。

采用上述进一步方案的有益效果是：管道的安装使清洗池内的清洗液可以进行排出更换，而阀门的安装则是控制管道的开和关。

进一步，所述箱体的外部前表面转动安装有箱门，箱门的中间嵌入安装有可视窗。

采用上述进一步方案的有益效果是：可视窗的安装使工作人员在不打开箱门的情况也可以看到箱体内部的情况。

进一步，所述挡板和滚筒均采用镂孔结构设计。

采用上述进一步方案的有益效果是：镂空结构设计的挡板和滚筒在浸入装有清洗液的清洗池内后，其清洗液可以渗入滚筒内部，方便清洗滚筒内部放置晶圆。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型一实施例提供的一种主视内部结构示意图；

图2为本实用新型一实施例提供的一种主视外观结构示意图；

图3为本实用新型一实施例提供的一种箱体内部俯视结构示意图。

附图中，各标号所代表的部件列表如下：

1、液压缸；2、箱体；3、第一风扇；4、第一马达；5、皮带；6、框架；7、轴杆；8、滚筒；9、第二马达；10、扇叶；11、管道；12、阀门；13、网板；14、挡板；15、清洗池；16、第二风扇；17、箱门。

具体实施方式

以下结合附图1-3对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

需要说明的是，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1至图3，本实用新型提供的一种实施例：一种分架式晶圆清洗设备用内部晶圆辅助翻滚机构，包括箱体2、框架6和清洗池15，箱体2的内部中间固定安装有清洗池15，清洗池15的内部顶端设有滚筒8，通过设置滚筒8，使待清洗的晶圆可以放置在内，达到了提供放置清洗位置的效果，滚筒8的表面转动安装有挡板14，挡板14和滚筒8均采用镂孔结构设计，镂空结构设计的挡板14和滚筒8在浸入装有清洗液的清洗池15内后，其清洗液可以渗入滚筒8内部，方便清洗滚筒8内部放置晶圆，滚筒8的两端固定安装安装有轴杆7，轴杆7转动安装在框架6的内部，框架6的顶端一侧固定安装有第一马达4，第一马达4采用73zyt010型号，该型号马达扭矩大，振动低，适用于本实用新型，通过设置第一马达4，使滚筒8可以进行转动，达到了转动帮助滚筒8内放置的晶圆进行翻面的效果，第一马达4的输出端通过皮带5转动连接轴杆7，框架6的顶端中间固定连接在液压缸1的输出端，且液压缸1固定安装在箱体2的外部顶端，液压缸1采用mob型号，该型号液压缸1动力足，体型小，适用于本实用新型，通过设置液压缸1，使框架6内转动安装的滚筒8可以进行升降，达到了降下让滚筒8浸入清洗池15内和升起至风干区域进行风干的效果。

清洗池15的内部中间固定安装有网板13，清洗池15的内部底端中间设有扇叶10，扇叶10固定安装在第二马达9的输出端，第二马达9采用5ik60gu-cf型号，该型号马达防水性能好，便于安装，适用于本实用新型，且第二马达9固定安装在箱体2的内部底端，网板13的安装则是隔开扇叶10和滚筒8，防止互相碰到造成损坏，而通过扇叶10和第二马达9的配合，使清洗池15内清洗液可以产生转动，达到了旋转清洗液让其流动清洗滚筒8内部放置的晶圆效果，清洗池15的内部底端一侧连接安装有管道11，管道11的内部固定安装有阀门12，管道11的安装使清洗池15内的清洗液可以进行排出更换，而阀门12的安装则是控制管道11的开和关，箱体2的内部一侧嵌入安装有第一风扇3，箱体2的内部另一侧嵌入安装有第二风扇16，第一风扇3为进风扇，而第二风扇16为抽风扇，第一风扇3和第二风扇16均采用fs15050型号，该型号风扇噪音低，价格便宜，适用于本实用新型，通过第一风扇3和第二风扇16的配合，使箱体2内可以产生流动风，达到了产生流动风并让滚筒8内放置的晶圆进行风干的效果，箱体2的外部前表面转动安装有箱门17，箱门17的中间嵌入安装有可视窗，可视窗的安装使工作人员在不打开箱门17的情况也可以看到箱体2内部的情况。

工作原理：工作人员在使用本实用新型之前需先外接供电，然后工作人员转动打开箱门17，然后将挡板14进行转动打开，将待清洗的晶圆放置在滚筒8的内部，放置完成后依次转动关闭挡板14和箱门17，启动电动机带动液压泵，由液压泵通过液压油管对液压缸1输出动力，液压缸1推动输出端安装的框架6至清洗池15的内部，这样框架6内部转动安装的滚筒8也同样进入清洗池15内，这时工作人员打开第二马达9的开关，这样第二马达9就会转动输出端安装的扇叶10，旋转扇叶10带动着清洗池15内的水，这样旋转流动的水就会清洗滚筒8内放置的晶圆，此时工作人员可打开第一马达4的开关，第一马达4的输出端通过皮带5将此转动力传输到轴杆7上，这样轴杆7就会带着滚筒8进行转动，其滚筒8内部放置的晶圆就会被翻面，从而进行多面清洗，提高清洗的效率，而清洗后工作人员控制液压缸1升起浸入在清洗池15内的滚筒8，升起后工作人员开启第一风扇3和第二风扇16的开关，第一风扇3对滚筒8的表面进行吹风，从而让其内部放置的晶圆进行风干，而第二风扇16则将吹干晶圆的风给抽出至箱体2外，而清洗池15内的清洗液在使用过后需要进行清理，转动阀门12通过管道11将清洗池15内清洗液排出，更换新的清洗液。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；凡本行业的普通技术人员均可按说明书附图所示和以上所述而顺畅地实施本实用新型；但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本实用新型的等效实施例；同时,凡依据本实用新型的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变等，均仍属于本实用新型的技术方案的保护范围之内。