一种组织培养用培养皿的清洗装置的制作方法

文档序号:25222675发布日期:2021-05-28 14:25阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种组织培养用培养皿的清洗装置,包括箱体(1),其特征在于,所述箱体(1)的侧壁上设有支撑机构,所述支撑机构下方的箱体(1)内设有过滤板(2),所述过滤板(2)上方的箱体(1)内设有清理机构,所述箱体(1)的侧壁上设有清理管(3),所述清理管(3)上安装有控制阀,所述箱体(1)远离支撑机构一端的侧壁上设有进水机构,所述箱体(1)的侧壁上转动贯穿设有清洗机构,所述清洗机构转动贯穿进水机构并与其连通设置,所述箱体(1)的侧壁上固定连接有水平板(4),所述水平板(4)的上端固定连接有驱动机构,所述驱动机构与清洗机构传动连接,所述清理机构与驱动机构传动连接,所述进水机构上方的箱体(1)侧壁上贯穿设有防飞溅机构,所述防飞溅机构与驱动机构传动连接。

2.根据权利要求1所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,远离所述防飞溅机构一端的箱体(1)的侧壁上设有导气槽(5)。

3.根据权利要求1所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述支撑机构包括螺纹贯穿箱体(1)设置的螺纹杆(6),所述螺纹杆(6)位于箱体(1)内的一端转动连接有支撑块(7),所述支撑块(7)远离螺纹杆(6)的一端设有多个支撑槽(8),所述支撑块(7)的侧壁上固定连接有第一限位杆(9),所述第一限位杆(9)滑动贯穿箱体(1)的侧壁设置。

4.根据权利要求1所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述进水机构包括固定设置于箱体(1)内壁上的水箱(10),所述水箱(10)上连通设置进水管(11),所述清洗机构转动贯穿水箱(10)设置并与其相连通。

5.根据权利要求4所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述清洗机构包括转动贯穿箱体(1)侧壁设置的多根导水管(12),多根所述导水管(12)均转动贯穿水箱(10)设置,所述导水管(12)位于箱体(1)内的一端连通设有多个中空的刷头(13),所述刷头(13)的侧壁上设有多个喷水口(14),多根所述导水管(12)位于箱体(1)外的部分上同轴固定连接有第一链盘(15),多个所述第一链盘(15)和驱动机构均相互传动连接,所述导水管(12)位于水箱(10)内的部分上多个进水口(16)。

6.根据权利要求5所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述驱动机构包括固定设置于水平板(4)的上端固定连接有驱动电机(17),所述驱动电机(17)的输出轴末端固定连接有第一旋转轴(18),所述第一旋转轴(18)上同轴固定连接有第二链盘(19)、第一皮带轮(20)和第二皮带轮(21),所述第二链盘(19)和多个第一链盘(15)均相互传动连接,所述第一皮带轮(20)与清理机构传动连接,所述第二皮带轮(21)与防飞溅机构传动连接。

7.根据权利要求6所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述清理机构包括螺纹贯穿箱体(1)侧壁设置的往复丝杆(22),所述往复丝杆(22)位于箱体(1)外的部分上同轴固定连接有第三皮带轮(23),所述第三皮带轮(23)和第一皮带轮(20)传动连接,所述往复丝杆(22)位于箱体(1)内的部分上螺纹连接有清理板(24),所述清理板(24)的下端与过滤板(2)的上端相抵接触,所述清理板(24)上滑动贯穿设有第二限位杆(25),所述第二限位杆(25)的两端分别与箱体(1)的两端内壁固定连接。

8.根据权利要求7所述的一种组织培养用培养皿的清洗装置,其特征在于,所述防飞溅机构包括贯穿箱体(1)侧壁的进气管(26),所述进气管(26)位于箱体(1)内的一端连通设有吹气箱(27),所述吹气箱(27)的侧壁上设有防飞溅口(28),所述进气管(26)内固定连接有竖杆(29),所述竖杆(29)上转动贯穿设有第二旋转轴(30),所述第二旋转轴(30)位于进气管(26)内的部分上同轴固定连接有风叶(31),所述第二旋转轴(30)位于进气管(26)外的部分上同轴固定连接有第四皮带轮(32),所述第四皮带轮(32)与第二皮带轮(21)传动连接。


技术总结
本发明公开了一种组织培养用培养皿的清洗装置,包括箱体,箱体的侧壁上设有支撑机构,支撑机构下方的箱体内设有过滤板,过滤板上方的箱体内设有清理机构,箱体的侧壁上设有清理管,清理管上安装有控制阀,箱体远离支撑机构一端的侧壁上设有进水机构,箱体的侧壁上转动贯穿设有清洗机构,清洗机构转动贯穿进水机构并与其连通设置,箱体的侧壁上固定连接有水平板,水平板的上端固定连接有驱动机构,驱动机构与清洗机构传动连接,清理机构与驱动机构传动连接。本发明能有效的提高培养皿的清洗效率,还能降低了工作人员的劳动强度,此外,在清洗时,还能防止清洗的水飞溅出来,污染地面,提高了清洗装置的环保性。

技术研发人员:郭世建
受保护的技术使用者:郭世建
技术研发日:2021.02.13
技术公布日:2021.05.28
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1