去除有害离子洗涤原料砂的方法与流程

1.本发明属于原料砂洗涤领域，更具体地说，尤其涉及去除有害离子洗涤原料砂的方法。


背景技术：

2.海砂和河砂均能作为建筑材料使用，但是目前的海砂和河砂均有以下缺陷；
3.海砂：因其长时间浸泡在海水中，受到海水腐蚀表面粗糙，而且表面黏度相当高，不通过洗涤，无法进行使用；
4.河沙：被工业、家庭废水以及水质优氧化后所产生的藻类和青苔所污染，对于使用造成一定的影响；
5.为避免上述缺陷，本发明提供去除有害离子洗涤原料砂的方法。


技术实现要素：

6.本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的去除有害离子洗涤原料砂的方法。
7.去除有害离子洗涤原料砂的方法，包括如下步骤：
8.s1、将原料砂放入滚筒式清洗槽内部；
9.s2、在滚筒式清洗槽内部加入清水，并注入臭氧；
10.s3、进行洗涤，并将洗涤时产生的水气通入过滤装置过滤后排放入空气；
11.s4、洗涤后的原料砂通过污水过滤机将污水滤出；
12.s5、滤除污水的原料砂通过粒度筛选机进行筛选，得到合格的砂产品。
13.优选的，步骤s1中所述的滚筒式清洗槽设置为内部带有多组喷头的滚筒式清洗槽，并且多组喷头的进水端通过多通阀汇流至一组进水管，进水管的一端与水源连通，并且在进水管上设置有增压泵。
14.优选的，步骤s2所述的臭氧通过臭氧发生器生成，所述臭氧发生器包括：原料气体供给单元、气体流路形成部件、和紫外线光源，所述紫外线光源由放射波长为200nm以下的紫外线的准分子灯构成，在所述气体流路中，在配置有紫外线光源的区域中的原料气体的流速为0.1m/s以上。
15.优选的，所述原料气体供给单元，供给含有氧的原料气体；所述气体流路形成部件，形成供来自该原料气体供给单元的原料气体流通的气体流路；紫外线光源，配置在该气体流路内并放射紫外线，并且该臭氧发生器通过对在该气体流路中流通的原料气体照射来自该紫外线光源的紫外线，从而使原料气体中的氧吸收紫外线而生成臭氧。
16.优选的，步骤s1中所述的原料砂设置为原料砂或者河沙中的一种。
17.优选的，步骤s3中所述的过滤装置包括：生石灰水塔和活性炭塔，所述生石灰水塔的进气端通过连接管与滚筒式清洗槽的出气端连通，且生石灰水塔的出气端通过连接管与活性炭塔的进气端连通，所述活性炭塔的出气端设置大于水平面15米的排放管。
18.优选的，步骤s4所述的污水过滤机包括设置有凸形机箱，减速机，主体机架，无端环形滤网，主体机架上设置有带分幅槽的橡胶驱动辊、除渣装置、调偏装置、随偏刮刀、张紧装置、下托网辊组合、底辊和密封隔离，主体机架的上部设置有与之平行的上托网架，无端环形滤网回环缠绕在驱动辊和机尾底辊上，穿行于除渣装置、调偏装置、张紧装置、下托网辊组合之间，依托在上托网架的辊架组合上作循环运行。
19.优选的，步骤s5中所述的粒度筛选机的内部设置有多组不同孔径的筛网，且每组筛网的一侧均倾斜设置有出料口，
20.本发明的技术效果和优点：
21.1、本发明中，通过导入臭氧，能够与原料砂表面的饱和有机物以及不饱和有机物迅速产生化学作用，从而将原料砂表面的微生物、有机物和藻类去除；
22.2、本发明中，通过导入臭氧，臭氧溶于清水后，使清水中含氧量增高，提升了清水的导电度，从而避免产生静电吸附微细粉末，便于后续筛选；
23.3、本发明中，通过导入臭氧，其第三氧原子溢出时，会放出大量的热能，能将原料砂避免微小凹洞中的有害离子清理，从而使原料砂清理的更为干净；
24.4、本发明中，通过导入臭氧，容易与水中含有的氯气和二氧化硫产生化学作用，从而使氯气与生石灰水塔中和，去除微量有害物质；
25.5、本发明中，臭氧原料来自空气，通过高电压低电流产生，具有成本低特点。
附图说明
26.图1为本发明的去除有害离子洗涤原料砂的方法流程图。
具体实施方式
27.为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
28.本发明提供了如图1的去除有害离子洗涤原料砂的方法，包括如下步骤：
29.s1、将原料砂放入滚筒式清洗槽内部；
30.步骤s1中所述的滚筒式清洗槽设置为内部带有多组喷头的滚筒式清洗槽，并且多组喷头的进水端通过多通阀汇流至一组进水管，进水管的一端与水源连通，并且在进水管上设置有增压泵；
31.其中，步骤s1中所述的原料砂设置为原料砂或者河沙中的一种；
32.s2、在滚筒式清洗槽内部加入清水，并注入臭氧；
33.步骤s2所述的臭氧通过臭氧发生器生成，所述臭氧发生器包括：原料气体供给单元、气体流路形成部件、和紫外线光源，所述紫外线光源由放射波长为200nm以下的紫外线的准分子灯构成，在所述气体流路中，在配置有紫外线光源的区域中的原料气体的流速为0.1m/s以上；
34.所述原料气体供给单元，供给含有氧的原料气体；所述气体流路形成部件，形成供来自该原料气体供给单元的原料气体流通的气体流路；紫外线光源，配置在该气体流路内
并放射紫外线，并且该臭氧发生器通过对在该气体流路中流通的原料气体照射来自该紫外线光源的紫外线，从而使原料气体中的氧吸收紫外线而生成臭氧，臭氧是一种氧化性极强的不稳定气体，臭氧输出浓度受多种因素的影响，其中腔体温度是极重要的因素之一；臭氧在30度左右时会在1分钟内衰减一半，在40
‑
50℃时衰减达到80％。超过60℃臭氧会马上分解；
35.其中，构成所述紫外线光源的准分子灯为棒状，该准分子灯沿着所述气体流路中的气体流通方向而被配置；
36.其中，所述气体流路中流通的原料气体的相对湿度为30％rh以下；
37.s3、进行洗涤，并将洗涤时产生的水气通入过滤装置过滤后排放入空气；
38.步骤s3中所述的过滤装置包括：生石灰水塔和活性炭塔，所述生石灰水塔的进气端通过连接管与滚筒式清洗槽的出气端连通，且生石灰水塔的出气端通过连接管与活性炭塔的进气端连通，所述活性炭塔的出气端设置大于水平面15米的排放管；
39.s4、洗涤后的原料砂通过污水过滤机将污水滤出；
40.步骤s4所述的污水过滤机包括设置有凸形机箱，减速机，主体机架，无端环形滤网，主体机架上设置有带分幅槽的橡胶驱动辊、除渣装置、调偏装置、随偏刮刀、张紧装置、下托网辊组合、底辊和密封隔离，主体机架的上部设置有与之平行的上托网架，无端环形滤网回环缠绕在驱动辊和机尾底辊上，穿行于除渣装置、调偏装置、张紧装置、下托网辊组合之间，依托在上托网架的辊架组合上作循环运行；
41.其中：机架上部的滤网两侧设置的特制无动作虚位的探边开关和限位开关区别于常用的限位开关，没有常用限位开关的作用弹簧由压迫到释放的行程虚位，其动作精准，能够正确地反映滤网偏移位置，及时发出控制信号，探边开关由外罩，弓形支架、探边杆、弹簧、调节螺丝和接近开关组成，探边杆为杠杆构造，其探网段设置有滑套，以减少滤网边对探杆的切割磨擦，当滤网偏移，接近滑套并压迫探边杆向里动作时，杠杆的另一端也随之同步向接近开关移动至设计位置时，接近开关感应并输出相应的控制信号；
42.s5、滤除污水的原料砂通过粒度筛选机进行筛选，得到合格的砂产品；
43.步骤s5中所述的粒度筛选机的内部设置有多组不同孔径的筛网，且每组筛网的一侧均倾斜设置有出料口。
44.通过导入臭氧，能够与原料砂表面的饱和有机物以及不饱和有机物迅速产生化学作用，从而将原料砂表面的微生物、有机物和藻类去除；并且由于臭氧溶于清水后，使清水中含氧量增高，提升了清水的导电度，从而避免产生静电吸附微细粉末，便于后续筛选；而且，臭氧的第三氧原子溢出时，会放出大量的热能，能将原料砂避免微小凹洞中的有害离子清理，从而使原料砂清理的更为干净；臭氧容易与水中含有的氯气和二氧化硫产生化学作用，从而使氯气与生石灰水塔中和，去除微量有害物质；
45.其中，生石灰水塔，即带有生石灰吸附水气的水塔，生石灰是采用化学吸收法除去水蒸气的；
46.其中，活性炭塔主要用于ro浓水处理、纯水处理前处理以及污水处理站的深度处理出水，以确保水质达标或对后续处理设备的保护；它是在固定床活性炭塔的基础上，将活性炭分层放置，分批排出，保证活性炭塔连续运行；
47.活性炭塔运行时，需深度处理的废水经过滤泵到达流动活性炭吸附塔并开始向上
运动，水流自上而下，故最底层的活性炭吸附层最先饱和，最上端的活性炭吸附层始终保持较高的吸附能力，最底层的活性炭吸附层饱和时，由在线cod仪控制，自动将最底层的活性炭排出，其上层活性炭吸附层内的活性炭依次向下落入下一层，并补充添加新活性炭，实现活性炭的自动补充，保持活性炭的吸附能力，由于水的不断流动，从而不需要反冲洗，节省投资，节约成本，节水、节电效果显著，并且活性炭塔能够根据运行过程中水质的变动调节活性炭的添加和排出量，水质处理效果稳定；
48.活性炭塔采用逆流的过滤方式，需处理的水始终先与即将饱和的活性炭吸附层接触，最后通过新鲜活性炭吸附层，可以最大发挥活性炭的吸附能力，活性炭使用量为普通固定床的20％左右，节约生产处理的成本，真正做到节能减排的作用，设备由在线cod仪控制，自动将最底层的活性炭排出，上层活性炭吸附层内的活性炭向下落，实现活性炭的自动补充和自动排放，保持活性炭的吸附能力。
49.综上，本发明通过在滚筒式清洗槽中通入臭氧，利用臭氧的特性将原料砂中的有害离子去除，通过本方法洗涤后的原本低品质的原料砂，成为高品质而且具有高经济价值的建筑用砂。
50.最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。