1.一种激光清洗微纳颗粒污染物的方法，其特征在于：其包括：通过激光清洗模型获得清洗方案，根据清洗方案进行清洗，其中，所述清洗模型包括以下模型构建而成：包括污染物颗粒调制作用在内的基底界面处光场强度分布模型、包括污染物颗粒调制作用引起的温度分布不均匀现象在内的基底界面处温度分布模型、包括由温度变化引起的热应力变化作用在内的基底界面处热应力分布模型，及基底界面处光力分布模型。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述光场强度分布模型如下：
其中，i0(t)表示激光平滑脉冲，φ表示入射激光通量，t表示时间，tl＝0.409tfwhm表示脉冲时间计算系数，其中tfwhm表示脉冲的持续时间，r0表示极坐标系下、由污染物颗粒调制作用引起的光场场强增大区域的径向长度；r表示入射激光脉冲点的径向坐标；rsh表示由污染物颗粒调制作用引起的光场场强减小区域的径向长度；r表示污染物颗粒半径；s0表示场增强因子，其为污染物颗粒调制作用引起的入射激光在污染物颗粒底部产生的近场聚焦处的光场场强i与入射光场强i0的比值、即s0＝i/i0，s1表示由污染物颗粒调制作用引起的光场场强减小区域的面积，且
3.根据权利要求2所述的激光清洗方法，其特征在于：所述温度分布模型如下：
其中，r表示极坐标系下污染物颗粒的径向坐标，
其中，erfc表示互补误差函数，c表示光速，e表示自然常数。
4.根据权利要求1所述的激光清洗方法，其特征在于：所述热应力分布模型通过对所述温度分布模型及热应力模型的联合求解得到。
5.根据权利要求4所述的激光清洗方法，其特征在于：所述热应力模型设置如下：
其中，fr表示热应力，ρp表示污染物颗粒的材料密度，f(t)表示污染物颗粒的位移函数，d表示微分符号。
6.根据权利要求1所述的激光清洗方法，其特征在于：所述光力分布模型如下：
<ftotal>＝∫s<t>·ds(12)
其中，<ftotal>表示平均总光力，<t>表示时域平均的麦克斯韦应力张量，s表示面积，
7.根据权利要求1所述的激光清洗方法，其特征在于：所述激光清洗模型还包括以下的清洗条件模型：
其中，a表示颗粒与基底的接触半径；ρp表示污染物颗粒的材料密度，f(t)表示污染物颗粒的位移函数，其中d表示微分符号，
8.根据权利要求1所述的激光清洗方法，其特征在于：通过有限元分析法对所述激光清洗模型进行模拟，获得其数值解。
9.根据权利要求1所述的激光清洗方法，其特征在于：基于所述激光清洗模型，通过以下阈值计算模型获得清洗阈值：
在正向清洗中：
当f热＝f粘+f光时，获得清洗阈值，其中，f热表示所得热应力，f粘表示范德华力、即不等式(8)中右式，f光表示通过所述光力模型获得的光力；
在背向清洗中：
当f热＝f粘-f光时，获得清洗阈值。
10.权利要求1-9所述的激光清洗方法在光学元件清洗中的应用。