一种用于清洁治具的装置的制作方法

1.本实用新型一般涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种用于清洁治具的装置及电镀设备。


背景技术：

2.芯片是高精度的产品，对制造环境有很高的要求。
3.在清洁治具时会产生大量微小灰尘，微小灰尘会掉落或者漂浮于制造环境中，导致制造环境的污染，进而治具再次受到污染。


技术实现要素：

4.鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种用于清洁治具的装置及电镀设备。
5.本技术提供一种用于清洁治具的装置，其包括：
6.本体，包括承载面，所述承载面用于放置治具；
7.罩壳，罩设于所述承载面，所述罩壳上设置有第一开孔；
8.吸尘组件，用于收集污染物，所述吸尘组件连接至所述第一开孔，以使所述罩壳内的所述污染物进入所述吸尘组件内，并将所述污染物收集。
9.作为可选的方案，所述本体上设置有空腔，所述承载面上设置有若干个与所述空腔连通的第一漏尘孔。
10.作为可选的方案，所述空腔位于承载面的正下方，所述空腔自上至下逐渐减小。
11.作为可选的方案，所述空腔底部对应的本体的表面上设置有第二开孔，所述第二开孔用于与所述吸尘组件连接。
12.作为可选的方案，所述罩壳包括侧壁，所述侧壁上设置有操作口，所述操作口用于进行清洗作业。
13.作为可选的方案，所述承载面远离所述操作口的位置还设置有第二漏尘孔，所述第二漏尘孔大于所述第一漏尘孔。
14.作为可选的方案，还包括围挡组件，所述围挡组件朝向所述操作口设置。
15.作为可选的方案，所述围挡组件包括滑轨、若干个滑块及柔性的围挡件，各所述滑块与所述滑轨滑动配合，所述围挡件连接至各所述滑块，各所述滑块沿所述滑轨滑动且相邻两所述滑块间距扩大，以使所述围挡展开；各所述滑块沿所述滑轨滑动且相邻两所述滑块间距缩小，以使所述围挡件收拢。
16.作为可选的方案，所述滑轨与所述罩壳之间存在间距，自所述滑轨两端向所述罩壳方向延伸，并连接至所述罩壳上。
17.作为可选的方案，所述吸尘组件包括抽气泵、过滤器及连接管，所述连接管的一端连接至所述第一开孔，所述连接管的另一端连接至所述抽气泵，所述过滤器设置于连接管内。
18.本技术通过罩壳罩设于承载面上，将污染物罩设，避免污染物污染周围的空间，然后，通过吸尘组件吸收罩壳内的污染物，并将污染物收集，进而从根本上解决污染物再次污染治具。
附图说明
19.通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
20.图1为本实用新型实施例提供的一种光学用于清洁治具的装置的轴测图；
21.图2为图1的a-a方向的剖面图；
22.图3是本实用新型实施例提供的一种光学用于清洁治具的装置的俯视图。
具体实施方式
23.下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关实用新型，而非对该实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与实用新型相关的部分。
24.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
25.本实用新型使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本实用新型。在本实用新型和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
26.图1示出了一种用于清洁治具的装置的结构示意图。
27.如图1所示，用于清洁治具的装置包括本体10、罩壳20及吸尘组件30。本体10包括承载面11，承载面11用于放置治具；罩壳20 罩设于上述的承载面11，罩壳20上设置有第一开孔21；吸尘组件30 用于收集污染物，吸尘组件30连接至第一开孔21，以使罩壳20内的污染物进入吸尘组件30内，并将污染物收集。
28.需要说明的是，罩壳20包括底壁20a和围设于底壁20a的侧壁 20b，侧壁20b的数量至少为一个。侧壁20b的数量为一个，则侧壁 20b呈筒状；侧壁20b的数量为多个，若干个侧壁20b首尾连接形成两端具有开口的立体结构，立体结构的横截面为三角形、矩形、五边形等。第一开孔21可以开设于底壁20a上，也可以开设于侧壁20b上。吸尘组件30包括抽气泵、过滤器及连接管，连接管的一端连接至第一开孔21，连接管的另一端连接至抽气泵，过滤器设置于连接管内。
29.在相关技术中，在清洁治具时会产生大量微小灰尘，微小灰尘会掉落或者漂浮于制造环境中，导致制造环境的污染，进而治具再次受到污染。
30.基于此，本技术提出一种用于清洁治具的装置，通过罩壳20罩设于承载面11上，将污染物罩设，避免污染物污染周围的空间，然后，通过吸尘组件30吸收罩壳20内的污染物，并将污染物收集，进而从根本上解决污染物再次污染治具。
31.作为可实现的方式，本体10上设置有空腔12，承载面11上设置有若干个与空腔12连通的第一漏尘孔111。
32.参考图1，需要说明的是，第一漏尘孔111可以为圆形孔、矩形孔或者三角形孔等，多干个第一漏尘孔111可以呈矩形阵列布置，也可以呈环形阵列布置。第一漏尘孔111的轴线垂直于第一承载面11，有利于污染物顺利落入空腔12内。
33.作为可实现的方式，空腔12位于承载面11的正下方，空腔12自上至下逐渐减小。
34.参考图2，需要说明的是，空腔12位于承载面11的正下方，空腔12在承载面11上的正投影大致覆盖承载面11，使得承载面11各个位置上的漏尘孔均能够使污染物进入空腔12内。空腔12自上至下逐渐减小，空腔12的纵截面可以为倒置的三角形、倒置的梯形或者弧形等，使得污染物能够第一时间附着于空腔12的底部。其中，上述的纵截面垂直于承载面11。
35.作为可实现的方式，空腔12底部对应的本体10的表面上设置有第二开孔121，第二开孔121用于与吸尘组件30连接。
36.参考图2，需要说明的是，本体10还包括与承载面11相对设置的底面和围设于承载面11的侧面，在底面上可以设置有第二开孔121，通过第二开孔121与另一个吸尘组件30连接，以将空腔12的污染物吸入且收集于该吸尘组件30内，进一步提高装置的清洁效果。
37.在一些实施例中，也可以在侧面上可以设置有第二开孔121。
38.作为可实现的方式，罩壳20包括侧壁20b，侧壁20b上设置有操作口22，操作口22用于进行清洗作业。
39.参考图1和图2，需要说明的是，操作口22的尺寸远远大于第一开孔21，操作口22的形状大致为矩形。操作口22的具体尺寸根据技术人员的需求而定。
40.作为可实现的方式，承载面11远离操作口22的位置还设置有第二漏尘孔，第二漏尘孔大于所述第一漏尘孔111。
41.参考图2，需要说明的是，承载面11包括靠近操作口22的第一部分11a和远离操作口22的第二部分11b，在第一部分11a上设置有若干个第一漏尘孔111，在第二部分11b上设置第二漏尘孔，第二漏尘孔可以为圆形、矩形、三角形等。第二漏尘孔远远大于第一漏尘孔 111，第二漏尘孔至少覆盖第二部分11b的1/2。
42.工作时，在承载面11的第一部分11a上放置治具，操作人员通过工具清洁治具，将治具上的污染物扫向第二部分11b，避免污染物飞出罩壳20。一部分污染物自第二漏尘孔进入空腔12内，另一部分污染物自第一漏尘孔111进入空腔12内。
43.第二漏尘孔的设置，有利于部分污染物方便进入空腔12内，提高漏尘效果。
44.作为可实现的方式，用于清洁治具的装置还包括围挡组件40，围挡组件40朝向操作口22设置。围挡组件40的设置，能够阻挡自操作口22飞出的污染物对周围空间的污染。
45.参考图3，在具体实施例中，围挡组件40包括滑轨41、若干个滑块42及柔性的围挡件(未示出)，各滑块42与滑轨滑动配合，围挡件连接至各滑块42，各滑块42沿滑轨41滑动且相邻两滑块42间距扩大，以使围挡展开；各滑块42沿滑轨41滑动且相邻两滑块间距缩小，以使围挡件收拢。
46.上述结构的围挡组件40，结构简单，操作方便，制造成本低廉。
47.进一步地，滑轨41大致呈c形。滑轨41与罩壳20之间存在间距，滑轨41的长度方向平行与罩壳20的侧面，自滑轨41两端向罩壳 20方向延伸，并连接至罩壳20上。上述滑轨41增大了围挡遮挡的空间，方便操作人员进行清洁作业。
48.以上描述仅为本技术的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人
员应当理解，本技术中所涉及的实用新型范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述实用新型构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本技术中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。