一种用于半导体清洗设备的排水装置的制作方法

文档序号:30210073发布日期:2022-05-31 11:17阅读:203来源:国知局
一种用于半导体清洗设备的排水装置的制作方法

1.本实用新型涉及排水装置技术领域,尤其是一种用于半导体清洗设备的排水装置。


背景技术:

2.半导体产业是现代电子工业的核心,而半导体产业的基础是硅材料工业。虽然有各种各样新型的半导体材料不断出现,但90%以上的半导体器件和电路,尤其是超大规模集成电路(ulsi)都是制作在高纯优质的硅单晶抛光片和外延片上的。
3.硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视,这是因为硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性和成品率;随着微电子技术的飞速发展以及人们对原料要求的提高,污染物对器件的影响也愈加突出。
4.在半导体工艺制造过程中,不可避免遭到尘埃、金属、有机物和无机物的污染,这些污染很容易造成其表面缺陷及孔内污垢,产生发射点、黑点、暗斑等,导致良品率下降,使得管子质量不稳定以至失效, 因此在制造过程中利用超声波清洗技术去除污染物十分重要。
5.在完成清洗之后,废水中常常会包含各种尘埃、金属、有机物和无机物等,直接排放将会导致环境污染,不利于环境友好型社会的建设,且废水无法充分利用,导致清洁液浪费。


技术实现要素:

6.针对背景技术中提到的问题,本实用新型的目的是提供一种用于半导体清洗设备的排水装置,结构简单,便于更换,具备较好的过滤功能,可以有效降低废水中的污染物的含量,且可以多次利用清洗液,达到充分利用清洗液的目的,以解决背景技术中提到的问题。
7.本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
8.一种用于半导体清洗设备的排水装置,包括外壳,所述外壳内部的底端固定设置有电动机与抽水机,所述抽水机的输出端穿过所述外壳的侧壁与出水管固定连接;所述抽水机的输入端穿过隔断板;所述隔断板横向固定设置在所述外壳的内部,所述外壳的内壁固定设置有第一肋柱以及第二肋柱;所述第一肋柱的上端设置有第一过滤网;所述第二肋柱的上端设置有第二过滤网;所述外壳上端的侧壁内部贯通连接有进水管;所述出水管远离所述外壳的一端内部贯通连接有进水头;所述进水头的内部开设有进水口;所述进水口的纵截面为梯形;所述进水口的外端口的直径大于内端口的直径,所述进水头的一端固定设置有清洁头;所述清洁头采用橡胶材料制成。
9.进一步的,所述电动机的输出端与所述抽水机的输入端固定连接。
10.根据上述技术方案,便于抽水机的动力输入。
11.进一步的,所述隔断板将所述外壳的内部分割成相互独立的上下两部分。
12.根据上述技术方案,可以防止废水浸入到隔断板的下部分使电动机进水,发生故障。
13.进一步的,所述第一肋柱上端面开设有环形凹槽,所述第一过滤网卡合设置在所述凹形凹槽内。
14.根据上述技术方案,可以防止第一过滤网左右晃动。
15.进一步的,所述外壳在所述第一肋柱处的直径大于所述外壳在所述第二肋柱处的直径,所述外壳在所述第一肋柱处的直径大于所述第二过滤网的直径。
16.根据上述技术方案,便于工作人员将第二过滤网从上而下放入到第二肋柱处。
17.进一步的,所述外壳的上端卡合设置有开关门,所述开关门的截面为t型。
18.根据上述技术方案,便于安装和维修第一过滤网和第二过滤网。
19.进一步的,所述第一过滤网包括第一支撑架以及设置在第一支撑架内的第一滤网,所述滤网为两层;所述滤网之间设置有活性炭层。
20.根据上述技术方案,活性炭具备优异的吸附性能,有利于吸附废水中的杂物。
21.进一步的,所述第二过滤网包括第二支撑架和第二滤网,所述第二滤网为两层,所述第二滤网之间设置有吸附剂。
22.根据上述技术方案,通过多层次的吸附作用,可以再次降低废水中的污染物。
23.进一步的,所述外壳的横截面为圆形,所述外壳采用不锈钢材制成。
24.根据上述技术方案,防止外壳发生锈蚀,影响寿命。
25.综上所述,本实用新型主要具有以下有益效果:
26.1、该实用新型结构简单,工作人员可以打开开关门,依次安装第二过滤网、第一过滤网,便于随时更换和安装过滤网,过滤网中设置有活性炭层以及吸附剂,可有效降低废水中污染物的含量,从而降低环境污染。
27.2、该实用新型在使用时,可以将经过过滤的清洗液再次通过出水管,导入到半导体清洗设备的内部,达到多次利用清洗液的目的,经济价值更高。
附图说明
28.附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
29.图1为本实用新型的剖视图;
30.图2为本实用新型中进水头的结构示意图;
31.图3为本实用新型中第一过滤网的结构示意图。
32.图中:1、外壳;2、电动机;3、抽水机;4、万向轮;5、出水管;6、隔断板;7、第一肋柱;701、环形凹槽;8、第二肋柱;9、第一过滤网;10、第二过滤网;11、第一支撑架;12、第一滤网;13、活性炭层;14、开关门;15、进水管;16、进水头;17、进水口;18、清洁头。
具体实施方式
33.为了使本实用新型的目的、技术方案进行清楚、完整地描述,及优点更加清楚明白,以下结合附图对本实用新型实施例进行进一步详细说明。
34.在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
35.在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
36.实施例1
37.参考图1-图3,一种用于半导体清洗设备的排水装置,包括外壳 1,所述外壳1内部的底端固定设置有电动机2与抽水机3,所述抽水机3的输出端穿过所述外壳1的侧壁与出水管5固定连接;所述抽水机3的输入端穿过隔断板6;所述隔断板6横向固定设置在所述外壳1的内部,将外壳1的上下两端分割成相互独立密封的两个部分,所述外壳1的内壁固定设置有第一肋柱7以及第二肋柱8;第一肋柱 7以及第二肋柱8与外壳1一体制造而成,所述第一肋柱7的上端设置有第一过滤网9;所述第二肋柱8的上端设置有第二过滤网10;所述外壳1上端的侧壁内部贯通连接有进水管15;进水管15穿过外壳1的内壁;所述进水管15远离所述外壳1的一端内部贯通连接有进水头16;所述进水头16的内部开设有进水口17;所述进水口17 的纵截面为梯形;所述进水口17的外端口的直径大于内端口的直径,便于抽水机3抽出进水口17外端的废水,所述进水头16的一端固定设置有清洁头18;所述清洁头18采用橡胶材料制成,工作人员18 可以使用清洁头刮去附着在外壳1内壁上的残留物,使清洗的更加干净,外壳1的下端固定设置有多个万向轮4,便于外壳1的移动。
38.具体的,请参考图1-图3,所述电动机2的输出端与所述抽水机 3的输入端固定连接,便于抽水机3的动力输入,电动机2以及抽水机3都属于现有技术在此不再赘述。
39.具体的,请参考图1-图3,所述隔断板6将所述外壳1的内部分割成相互独立的上下两部分,可以防止废水浸入到隔断板6的下部分使电动机2进水,发生故障。
40.具体的,请参考图1-图3,所述第一肋柱7上端面开设有环形凹槽701,所述第一过滤网9卡合设置在所述环形凹槽701内,可以防止第一过滤网9左右晃动。
41.具体的,请参考图1-图3,所述外壳1在所述第一肋柱7处的直径大于所述外壳1在所述第二肋柱8处的直径,所述外壳1在所述第一肋柱7处的直径大于所述第二过滤网10的直径,便于工作人员将第二过滤网10从上而下放入到第二肋柱8处。
42.具体的,请参考图1-图3,所述外壳1的上端卡合设置有开关门 14,所述开关门14的截面为t型,便于安装和维修第一过滤网9和第二过滤网10。
43.具体的,请参考图1-图3,所述第一过滤网9包括第一支撑架 11以及设置在第一支撑架11内的第一滤网12,所述第一滤网12为两层;所述第一滤网12之间设置有活性炭层13,活性炭具备优异的吸附性能,有利于吸附废水中的杂物。
44.具体的,请参考图1-图3,所述第二过滤网10包括第二支撑架和第二滤网,所述第二滤网为两层,所述第二滤网之间设置有吸附剂,通过多层次的吸附作用,可以再次降低废
水中的污染物。
45.具体的,请参考图1-图3,所述外壳1的横截面为圆形,所述外壳1采用不锈钢材制成,防止外壳1发生锈蚀,影响寿命。
46.该实用新型结构简单,工作人员可以打开开关门14,依次安装第二过滤网10、第一过滤网9,便于随时更换和安装第一过滤网9和第二过滤网10,第一过滤网9中设置有活性炭层13,第二过滤网10中设置有吸附剂,可有效降低废水中污染物的含量,从而降低环境污染;在过滤完之后,工作人员可以将经过过滤的清洗液再次通过出水管5,导入到半导体清洗设备的内部,达到多次利用清洗液的目的,经济价值更高。
47.最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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