清洗装置的制作方法

1.本发明涉及半导体设备清洗技术领域，尤其涉及一种清洗装置。


背景技术：

2.晶圆是一种精密的半导体器件，为了防止晶圆在传输过程中被污染或损坏，在对晶圆传输前，需要对晶圆传输设备的用于承载晶圆的晶圆支撑臂进行清洗，以防止晶圆支撑臂在承载晶圆时，由于晶圆支撑臂的脏污造成晶圆的污染或损坏。
3.在相关技术中，对晶圆支撑臂进行清洗的装置通常包括清洗喷淋杆和干燥吹扫杆。干燥吹扫杆和清洗喷淋杆上下分布，由于晶圆支撑臂比较长，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆成排设置。在对晶圆支撑臂进行清洗时，晶圆支撑臂依次移动至靠近清洗喷淋杆和干燥吹扫杆处进行清洗。在移动至靠近清洗喷淋杆处时，清洗喷淋杆分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，清洗喷淋杆只能在一侧对晶圆支撑臂进行喷淋清洗，在移动至靠近干燥吹扫杆处时，干燥吹扫杆也分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，干燥吹扫杆也只能对晶圆支撑臂的一侧进行干燥和吹扫，因此，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆对晶圆支撑臂进行清洗时只能对晶圆支撑臂的一侧进行清洗，而对晶圆支撑臂的背离清洗喷淋杆和干燥吹扫杆的一侧无法清洗，从而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题，而且清洗喷淋杆和干燥吹扫杆为多根杆件、且成排设置，从而导致清洗喷淋杆和干燥吹扫杆整体的占用空间较大。


技术实现要素：

4.本发明公开了一种清洗装置，以解决清洗装置只能从一侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。
5.为了解决上述技术问题，本发明是这样实现的：
6.本发明公开一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备，所述晶圆传输设备包括晶圆支撑臂，所述清洗装置包括第一清洗块和第二清洗块；其中：
7.所述第一清洗块和所述第二清洗块中的至少一者开设有介质入口，所述第一清洗块和所述第二清洗块均设有多个介质出口；
8.所述第一清洗块和所述第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，所述清洗空间用于容纳所述晶圆支撑臂，且所述第一清洗块和所述第二清洗块形成的结构用于环绕所述晶圆支撑臂，所述多个介质出口沿所述清洗空间的内壁设置，以用于环绕所述晶圆支撑臂。
9.本发明采用的技术方案能够达到以下技术效果：
10.本技术实施例通过将清洗装置设置为包括第一清洗块和第二清洗块，第一清洗块和第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，使得清洗装置对晶圆支撑臂进行清洗时，清洗空间可容纳晶圆支撑臂，以为晶圆支撑臂提供清洗场所，通过第一清洗块和第二清洗块中的至少一者开设介质入口，第一清洗块和第二清洗块均开设有多个介质出口，使得清洗介质可通过介质入口进入，从介质出口喷出以用于对晶圆支撑臂进行清洗，通过将多个
介质出口沿清洗空间的内壁设置，且用于环绕晶圆支撑臂，使得清洗空间容纳晶圆支撑臂时，多个介质出口环绕晶圆支撑臂，进而使得从介质出口喷出的清洗介质可环绕的喷向晶圆支撑臂，从而有效地解决了在对晶圆支撑臂进行清洗时，由于只能从单侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在清洗不完全的问题，最终有效地提高了清洗装置对晶圆支撑臂的清洗能力。
附图说明
11.图1为清洗装置与晶圆支撑臂在第一清洗块与第二清洗块处在第一配合状态下的配合示意图；
12.图2为清洗装置在第一清洗块与第二清洗块处在第二配合状态下的结构示意图；
13.图3为图1在第一视角下的示意图；
14.图4为清洗装置与晶圆传输设备在第一视角下、且在第一清洗块与第二清洗块处在第二配合状态下的示意图；
15.图5为导向连接件和第二驱动机构的配合结构示意图；
16.图6为第二驱动机构在一视角下的结构示意图；
17.图7为第二驱动机构在另一视角下的结构示意图(图7中的空心箭头为滑块830的滑动方向示意)；
18.图8为第一清洗块和第二清洗块处在第一配合状态下的局部剖视图；
19.图9为导向连接件、第一连接杆和第二连接杆的配合结构示意图；
20.图10为导向连接件、第一连接杆和第二连接杆的配合结构的局部剖视图；
21.图11为导向连接件与第一连接杆配合示意图。
22.附图标记说明：
23.100-晶圆传输设备、110-晶圆支撑臂、111-支撑子臂、120-连接支架、
24.200-第一清洗块、
25.300-第二清洗块、
26.410-介质出口、420-介质通道、430-隔离凸起、440-清洗接头、
27.500-清洗空间、510-子清洗空间、
28.600-第一驱动机构、610-第一驱动件、620-第二驱动件、630-第一连接杆、640-第二连接杆、650-条形孔、
29.700-导向连接件、710-支撑底板、720-导向块、730-导向间隙、740-固定螺栓、750-轴套、
30.800-第二驱动机构、810-底座、820-滑轨、830-滑块、840-第三驱动件。
具体实施方式
31.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
32.以下结合附图，详细说明本发明各个实施例公开的技术方案。
33.请参考图1至图11，本发明实施例公开一种清洗装置，所公开的清洗装置用于清洗晶圆传输设备100，晶圆传输设备100包括晶圆支撑臂110，晶圆支撑臂110是用于夹持晶圆，并对晶圆进行传输的构件。例如，在槽式清洗设备中，晶圆传输设备100每次传输晶圆的数量为多个(例如50片)，多个晶圆可以沿晶圆支撑臂110的延伸方向被夹持在晶圆支撑臂110上。晶圆传输设备100还可以包括连接支架120，连接支架120为晶圆支撑臂110提供安装基础，晶圆支撑臂110可以安装在连接支架120上。
34.清洗装置用于对晶圆支撑臂110进行清洗，以防止晶圆支撑臂110在夹持晶圆时，由于晶圆支撑臂110的脏污对晶圆造成污染或损伤。清洗装置包括第一清洗块200和第二清洗块300。
35.第一清洗块200和第二清洗块300中的至少一者开设有介质入口，清洗介质可以通过介质入口进入。第一清洗块200和第二清洗块300均设有多个介质出口410，从介质入口进入的清洗介质可通过介质出口410喷到晶圆支撑臂110的表面，以对晶圆支撑臂110进行清洗。清洗介质可以是清洗液、气体(气体可以用于对晶圆支撑臂110的表面进行吹扫以实现干燥)等。
36.具体的，第一清洗块200和第二清洗块300中的一者开设有介质入口时，介质入口可以通过连接管道连通第一清洗块200和第二清洗块300上的多个介质出口，当然，第一清洗块200和第二清洗块300的内部可以分别开设有中空的通道(例如后文所述的介质通道420)，第一清洗块200的中空的通道和第二清洗块300的中空的通道相连通，介质入口可以通过中空的通道连通多个介质出口410。当然，第一清洗块200和第二清洗块300上可以分别开设有介质入口，第一清洗块200和第二清洗块300上的介质入口可以分别与相应的多个介质出口相连通。
37.第一清洗块200和第二清洗块300可相对运动以对接形成清洗空间500。第一清洗块200和第二清洗块300的相对运动可以是，第一清洗块200和第二清洗块300中的一者固定，另一者移动或转动，当然，第一清洗块200和第二清洗块300的相对运动也可以是第一清洗块200和第二清洗块300一起移动或转动。
38.第一清洗块200和第二清洗块300均可以开设有内凹部，第一清洗块200和第二清洗块300对接时，第一清洗块200的内凹部的开口端与第二清洗块300的内凹部的开口端相对接以形成清洗空间500。当然，第一清洗块200和第二清洗块300也可以是弧形结构，两个弧形结构的端部相对接时，两个弧形结构的内壁相对，弧形结构的内壁为弧形结构的圆心所在的一侧。
39.清洗空间500用于容纳晶圆支撑臂110，且第一清洗块200和第二清洗块300形成的结构用于环绕晶圆支撑臂110。多个介质出口410沿清洗空间500的内壁设置，且用于环绕晶圆支撑臂110，清洗介质可通过多个介质出口410喷到晶圆支撑臂110的表面，以对晶圆支撑臂110进行清洗。
40.在具体的实施过程中，清洗装置对晶圆支撑臂110进行清洗时，第一清洗块200和第二清洗块300相对运动以对接形成清洗空间500，晶圆支撑臂110容纳于清洗空间500内，以使第一清洗块200和第二清洗块300形成的结构环绕晶圆支撑臂110，设于清洗空间500的内壁的多个介质出口410环绕晶圆支撑臂110，清洗介质可通过介质入口进入，从多个介质出口410环绕的喷至晶圆支撑臂110的表面，以对晶圆支撑臂110整个周向进行清洗。
41.本技术实施例通过将清洗装置设置为包括第一清洗块200和第二清洗块300，第一清洗块200和第二清洗块300可相对运动以对接形成清洗空间500，使得清洗装置对晶圆支撑臂110进行清洗时，清洗空间500可容纳晶圆支撑臂110，以为晶圆支撑臂110提供清洗场所，通过第一清洗块200和第二清洗块300中的至少一者开设介质入口，第一清洗块200和第二清洗块300均开设有多个介质出口410，使得清洗介质可通过介质入口进入，从介质出口410喷出以用于对晶圆支撑臂110进行清洗，通过将多个介质出口410沿清洗空间500的内壁设置，且用于环绕晶圆支撑臂110，使得清洗空间500容纳晶圆支撑臂110时，多个介质出口410环绕晶圆支撑臂110，进而使得从介质出口410喷出的清洗介质可环绕的喷向晶圆支撑臂110，从而有效地解决了在对晶圆支撑臂110进行清洗时，由于只能从单侧对晶圆支撑臂110进行清洗而存在清洗不完全的问题，最终有效地提高了清洗装置对晶圆支撑臂110的清洗能力。
42.在一些实施例中，清洗装置没有供晶圆支撑臂110进出清洗空间的进出口，晶圆支撑臂110在进入清洗空间110时，晶圆支撑臂110的一端从清洗空间500的端部伸入到清洗空间500内，这种进入方式需要晶圆支撑臂110具有自由端，而在相关技术中，晶圆支撑臂110可能不存在自由端，从而导致清洗装置的应用受到限制。为了使清洗装置的应用更广泛，可选的，清洗装置还可以包括第一驱动机构600，第一清洗块200和第二清洗块300均可以与第一驱动机构600连接，第一驱动机构600可以用于驱动第一清洗块200和第二清洗块300运动，以使第一清洗块200和第二清洗块300在第一配合状态和第二配合状态之间切换。当然，清洗装置也可以没有第一驱动机构600，第一清洗块200和第二清洗块300可通过手动实现运动，以使第一清洗块200和第二清洗块300在第一配合状态和第二配合状态之间切换。
43.在第一配合状态下，第一清洗块200和第二清洗块300通过相对运动形成清洗空间500，在第二配合状态下，第一清洗块200和第二清洗块300分离，第一清洗块200和第二清洗块300之间形成用于供晶圆支撑臂110通过的进出口。具体的，在晶圆支撑臂110准备进入清洗空间之前，第一清洗块200和第二清洗块300分离以形成供晶圆支撑臂110进入的进出口，待晶圆支撑臂110从进出口处进入到第一清洗块200和第二清洗块300之间，第一清洗块200和第二清洗块300对接以使晶圆支撑臂110容纳于清洗空间500内，待清洗结束后，第一清洗块200和第二清洗块300分离以形成进出口，以供晶圆支撑臂110从进出口移出至清洗空间500之外。例如，如图1所示，晶圆支撑臂110可以沿z轴的正方向移动以移出清洗空间500，晶圆支撑臂110可以沿z轴的负方向移动以进入清洗空间500内，其中，z
+
表示z轴的正方向，与z
+
相反的方向为z轴的负方向。z轴的正方向与z轴的负方向互为反向。清洗空间500的贯通方向与z轴相互垂直。
44.本技术通过设置第一驱动机构600，第一驱动机构600分别与第一清洗块200和第二清洗块300连接，使得第一驱动机构600可以驱动第一清洗块200和第二清洗块300运动，从而使得第一清洗块200和第二清洗块300可以在第一配合状态和第二配合状态之间切换，进而使得在第一配合状态下，第一清洗块200和第二清洗块300相对运动对接形成清洗空间500，在第二配合状态下，第一清洗块200和第二清洗块300分离，第一清洗块200和第二清洗块300之间形成用于供晶圆支撑臂110通过的进出口，从而使得晶圆支撑臂110可以直接通过进出口进入或移出清洗空间500，从而可以有效地解决由于晶圆支撑臂110不存在自由端而无法进入清洗空间500的问题，从而使得清洗装置的应用更广泛，而且第一清洗块200和
第二清洗块300之间形成用于供晶圆支撑臂110通过的进出口，从而使得在不改变晶圆支撑臂110的结构及运动形式的情况下实现晶圆支撑臂110进入清洗空间500，从而提高了清洗设备的适应性。
45.第一驱动机构600可以是液压伸缩件、气压伸缩件等，这里对第一驱动机构600不做具体限制。第一驱动机构可以包括驱动电机、丝杠，驱动电机与丝杠连接，丝杠具有不同旋向的螺纹段，第一清洗块200和第二清洗块300上均开设有螺纹孔，第一清洗块200和第二清洗块300上的螺纹孔分别与丝杠上的不同旋向的螺纹段螺纹配合，这样的话，驱动电机驱动丝杠沿第一转动方向转动时，第一清洗块200和第二清洗块300通过螺纹孔分别与相应的螺纹段螺纹配合，能够实现第一清洗块200和第二清洗块300相互靠近直至形成清洗空间500，在驱动电机驱动丝杠沿第二转动方向转动时，第一清洗块200和第二清洗块300通过螺纹孔分别与相应的螺纹段螺纹配合，能够实现第一清洗块200和第二清洗块300相互远离形成进出口。
46.当然，在一些实施例中，第一清洗块200和第二清洗块300中的一者可以是固定的，另一者可移动，在这种情况下，第一驱动机构600只需要与第一清洗块200和第二清洗块300中的可移动的一者连接即可。
47.在一些情况下，晶圆传输设备100具有多个晶圆支撑臂110，多个晶圆支撑臂110可以形成夹持晶圆的空间，第一清洗块200和第二清洗块300均为一个的时候，需要依次对多个晶圆支撑臂110进行清洗，为了提高清洗装置的清洗效率，可选的，第一清洗块200和第二清洗块300均为多个，且多个第一清洗块200和多个第二清洗块300一一对应，多个第一清洗块200和多个第二清洗块300均沿第一方向排列，多个第一清洗块200和多个第二清洗块300形成多个清洗空间500，多个清洗空间500沿清洗空间500的贯通方向相垂直的方向间隔分布。具体的，在对多个晶圆支撑臂110进行清洗时，多个晶圆支撑臂110可一一对应进入多个清洗空间500。
48.通过设置多个第一清洗块200和多个第二清洗块300，使得多个第一清洗块200和多个第二清洗块300一一对应对接可形成多个清洗空间500，从而使得多个清洗空间500可以容纳多个晶圆支撑臂110，进而使得在需要对多个晶圆支撑臂110进行清洗时，多个清洗空间500可以同时对多个晶圆支撑臂110进行清洗，从而可以有效地提高清洗装置的清洗效率。当然，此时，多个晶圆支撑臂110在第一方向排列，相邻的两个晶圆支撑臂110间隔分布。
49.一种可选的实施例，第一驱动机构600可以包括第一驱动件610、第二驱动件620、第一连接杆630和第二连接杆640。第一驱动件610可以通过第一连接杆630与第一清洗块200连接，用于驱动第一清洗块200移动，第二驱动件620可以通过第二连接杆640与第二清洗块300连接，用于驱动第二清洗块300移动。在第一清洗块200和第二清洗块300均为多个的情况下，第一驱动件610通过第一连接杆630与多个第一清洗块200连接，用于驱动多个第一清洗块移动，第二驱动件620通过第二连接杆640与多个第二清洗块300连接，用于驱动多个第二清洗块移动。
50.第一驱动件610用于驱动第一清洗块200沿第一方向和第二方向中的一者移动，以及第二驱动件620用于驱动第二清洗块300沿第一方向和第二方向中的另一者移动，以使第一清洗块200和第二清洗块300处于第一配合状态或者第二配合状态，第一方向和第二方向互为相反，且均与贯通方向相垂直。
51.在第一清洗块200和第二清洗块300均为多个的时候，第一驱动件610用于驱动多个第一清洗块200沿第一方向和第二方向中的一者移动，以及第二驱动件620用于驱动多个第二清洗块300沿第一方向和第二方向中的另一者移动，以使第一清洗块200和第二清洗块300处于第一配合状态或者第二配合状态，第一方向和第二方向互为相反，且均与清洗空间500的贯通方向相垂直。如图1所示,x
+
表示x轴的正方向，与x
+
方向相反的方向为x轴的负方向。x轴的正方向可以为第一方向，x轴的负方向可以为第二方向，当然x轴的正方向也可以是第二方向，x轴的负方向可以是第一方向。
52.具体的，在第一驱动件610驱动第一清洗块200沿第一方向移动时，第二驱动件620驱动第二清洗块300沿第二方向移动，此时，第一清洗块200和第二清洗块300相对靠近直至对接，进而形成清洗空间500；在第一驱动件610驱动第一清洗块200沿第二方向移动时，第二驱动件620驱动第二清洗块300沿第一方向移动，第一清洗块200和第二清洗块300相对远离，进而形成供晶圆支撑臂110通过的进出口。当然，在第一驱动件610驱动第一清洗块200沿第一方向移动，第二驱动件620驱动第二清洗块300沿第二方向移动时，第一清洗块200和第二清洗块300也可以是相对远离，进而形成供晶圆支撑臂110通过的进出口，在第一驱动件610驱动第一清洗块200沿第二方向移动，第二驱动件620驱动第二清洗块300沿第一方向移动时，第一清洗块200和第二清洗块300可以相对靠近直至对接，进而形成清洗空间500。第一驱动件610和第二驱动件620均可以是驱动电机、驱动气缸等。
53.在第一清洗块200和第二清洗块300均为多个的时候，通过将第一驱动机构600设置为第一驱动件610、第二驱动件620、第一连接杆630和第二连接杆640，使得第一驱动件610可以通过第一连接杆630与多个第一清洗块200连接，第二驱动件620可以通过第二连接杆640与多个第二清洗块300连接，进而使得第一驱动件610可以驱动多个第一清洗块200沿第一方向和第二方向中的一者移动，第二驱动件620可以驱动多个第二清洗块300沿第一方向和第二方向中的另一者移动，从而使得第一清洗块200和第二清洗块300可以处于第一配合状态或第二配合状态，而且通过第一驱动件610驱动多个第一清洗块移动，第二驱动件620驱动多个第二清洗块300移动，使得通过较少的驱动件驱动多个清洗块的移动，无疑这能够减少驱动件的数量，减少制备成本，同时也有利于清洗装置的结构更紧凑。
54.第一清洗块200和第二清洗块300的移动可以是同步移动，也可以是第一清洗块200先移动，第二清洗块300后移动，或者第二清洗块300先移动，第一清洗块200后移动。只要能够满足两者能够在第一配合状态和第二配合状态下切换即可，本技术实施例不进行限制。
55.一种可选的实施例，清洗装置还可以包括导向连接件700，导向连接件700可以包括支撑底板710和多个导向块720，多个导向块720均可以连接于支撑底板710，且间隔分布，相邻的两个导向块720形成导向间隙730，导向间隙730的延伸方向与第一方向或第二方向平行。第一驱动件610和第二驱动件620均可以安装于支撑底板710上，第一连接杆630、第二连接杆640、第一清洗块200和第二清洗块300均可移动地设于支撑底板710，且第一连接杆630的部分和第二连接杆640的部分设在相对应的导向间隙730内，且与相对应的导向间隙730导向配合。
56.通过设置支撑底板710和多个导向块720，使得支撑底板710可以为第一清洗块200、第二清洗块300、第一驱动件610、第二驱动件620提供安装的基础，多个导向块720均连
接于支撑底板710，且间隔设置，使得相邻的两个导向块720可以形成导向间隙730，且导向间隙730的延伸方向与第一方向或第二方向平行，进而使得第一连接杆630的部分和第二连接杆640的部分可以设在相对应的导向间隙730内，且与相对应的导向间隙730导向配合，从而使得第一连接杆630和第二连接杆640可以沿着导向间隙730的导向方向准确的移动，进而使得第一连接杆630和第二连接杆640分别带动第一清洗块200和第二清洗块300的移动方向更准确，从而使得第一清洗块200和第二清洗块300在对接和分离时位置更精确。
57.多个导向块720可以固定连接在支撑底板710的中部，第一驱动件610和第二驱动件620可以分别设置在导向块720的两侧，第一清洗块200和第二清洗块300也可以分别设置在导向块720的两侧，第一驱动件610和第一清洗块200可以分别位于导向块720的两侧，第二驱动件620和第二清洗块300可以分别位于导向块720的两侧。当然，第一驱动件610、第二驱动件620、第一清洗块200和第二清洗块300在支撑底板710上也可以是其他设置方式，这里不做具体的限制。
58.在一些情况下，第一连接杆630和第二连接杆640在导向间隙730中移动时，第一连接杆630和第二连接杆640存在脱出导向间隙730的风险，为了解决第一连接杆630和第二连接杆640脱出导向间隙730的问题，可选的，导向连接件700还包括固定螺栓740和轴套750，固定螺栓740贯穿多个导向块720，轴套750套设在固定螺栓740的位于导向间隙730中的部位上，轴套750可在固定螺栓740上转动，第一连接杆630和第二连接杆640均开设有条形孔650，条形孔650的延伸方向与导向间隙730的延伸方向一致，第一连接杆630和第二连接杆640可以分别通过各自的条形孔650套设于相应的轴套750上，从而使得第一连接杆630和第二连接杆640在导向间隙730的延伸方向移动时，第一连接杆630和第二连接杆640上的条形孔650可与相应的轴套滚动配合，轴套可相对固定螺栓740转动。具体的，在第一连接杆630和第二连接杆640在导向间隙730中移动时，第一连接杆630和第二连接杆640的条形孔650的一个边可以与轴套750相接触以实现滚动配合。
59.通过将固定螺栓740贯穿多个导向块720，在固定螺栓740的位于导向间隙730中的部位上套设轴套750，第一连接杆630和第二连接杆640分别开设条形孔650，且条形孔650的延伸方向与导向间隙730的延伸方向一致，使得第一连接杆630和第二连接杆640可以分别通过各自的条形孔650套设于相应的轴套750上，进而使得第一连接杆630和第二连接杆640通过条形孔650与轴套750的配合限制在导向间隙730中，从而有效地防止第一连接杆630和第二连接杆640在移动的过程中脱出导向间隙730，同时条形孔650与轴套750滚动配合可以减小移动时受到的摩擦力，有效地减小第一连接杆630和第二连接杆640的磨损，而且，多个导向块720可以通过固定螺栓740连接的更稳定。
60.在一些实施例中，第一清洗块200和第二清洗块300对接后只能环抱部分晶圆支撑臂110，不能覆盖晶圆支撑臂110整个延伸方向。为了使晶圆支撑臂110在整个延伸方向实现清洗，可选的，清洗装置还可以包括第二驱动机构800。第二驱动机构800可以与支撑底板710连接，在第一清洗块200和第二清洗块300对接形成清洗空间500的情况下，第二驱动机构800可以用于驱动支撑底板710，来驱动第一清洗块200和第二清洗块300沿清洗空间500的贯通方向移动。在晶圆支撑臂110位于清洗空间500的时候，晶圆支撑臂110的延伸方向与清洗空间500的贯通方向一致。如图1所示，y
+
表示y轴的正方向，与y
+
的正方向相反的方向为y轴的负方向，清洗空间500的贯通方向可以是沿y轴的正方向和负方向两个方向。
61.通过设置第二驱动机构800，第二驱动机构800与支撑底板710连接，使得第二驱动机构800可以通过驱动支撑底板710来驱动第一清洗块200和第二清洗块300沿清洗空间500的贯通方向移动，从而使得第一清洗块200和第二清洗块300形成的结构可以移动的对晶圆支撑臂110的整个延伸方向进行清洗，从而有效地提高了清洗装置对晶圆支撑臂110的清洗能力，而且，清洗装置的结构不需要设置为与晶圆支撑臂110在延伸方向的长度相适配的大小，清洗装置可以设置为只环绕部分晶圆支撑臂110的大小，通过第二驱动机构800可实现对晶圆支撑臂110整个延伸方向的清洗，从而可以有效地减小清洗装置的体积，使得清洗装置的结构更加紧凑。
62.第二驱动机构800可以是液压驱动机构、气压驱动机构等，这里对第二驱动机构800不做具体的限制。
63.进一步的，第二驱动机构800可以包括底座810、滑轨820、滑块830和第三驱动件840，第三驱动件840和滑轨820均可以设于底座810上，滑块830可以与滑轨820在贯通方向滑动配合，支撑底板710可以与滑块830连接，第三驱动件840可以用于驱动滑块830，来驱动导向连接件700移动，导向连接件700可带动第一清洗块200和第二清洗块300沿贯通方向移动。当然，第二驱动机构800也可以直接与第一清洗块200和第二清洗块300连接，用于驱动第一清洗块200和第二清洗块300沿贯通方向移动。
64.将第二驱动机构800设置为包括底座810、滑轨820、滑块830和第三驱动件840，将第三驱动件840和滑轨820均设置于滑台底座810上，滑块830与滑轨820在贯通方向滑动配合，使得第三驱动件840可以驱动滑块830沿滑轨820移动，来驱动导向连接件700移动，从而使得导向连接件700可带动第一清洗块200和第二清洗块300沿贯通方向移动，而且滑块830和滑轨820的运动为滑动配合，滑块830相对滑轨820的滑动相对平稳，可以使得导向连接件700的运动更稳定。
65.第三驱动件840可以是直线驱动电机、弹簧等，这里对第三驱动件840不做具体的限制。
66.在一些实施例中，晶圆支撑臂110为了更好的夹持晶圆，晶圆支撑臂110包括多个支撑子臂111，多个支撑子臂111间隔设置，多个支撑子臂111上均可以设有晶圆夹持部，多个支撑子臂111上的晶圆夹持部可以用于分别夹持于晶圆边缘的不同区域，以支撑晶圆。为了适应晶圆支撑臂110的结构，可选的，第一清洗块200和第二清洗块300均设有多个隔离凸起430，在第一清洗块200和第二清洗块300对接形成清洗空间500的情况下，多个隔离凸起430将清洗空间500分隔成多个间隔的子清洗空间510，多个子清洗空间510用于一一对应地容纳晶圆支撑臂110的支撑子臂111，每个子清洗空间510的内壁均开设有多个介质出口410，每个子清洗空间510的内壁上的多个介质出口410用于环绕支撑子臂111，每个子清洗空间510的贯通方向均与清洗空间的贯通方向一致。
67.具体的，在对多个支撑子臂111进行清洗时，多个隔离凸起430均分离以形成多个供支撑子臂通过的进出口，多个支撑子臂111从位于端部的支撑子臂111开始依次穿过多个进出口，以使多个支撑子臂111一一对应地容纳于多个间隔的子清洗空间510中。
68.通过第一清洗块200和第二清洗块300均设置多个隔离凸起430，使得在第一清洗块200和第二清洗块300对接形成清洗空间500的情况下，多个隔离凸起430将清洗空间500分隔成多个间隔的子清洗空间510，从而使得多个子清洗空间510可以一一对应地容纳于晶
圆支撑臂110的支撑子臂111，从而可以对每个支撑子臂111在周向进行清洗，从而有效的提高了对晶圆支撑臂110的清洗能力和清洗效率。
69.一种可选的实施例，第一清洗块200和第二清洗块300的内部可以开设有介质通道420，介质入口通过介质通道420与多个介质出口410连通。通过在第一清洗块200和第二清洗块300的内部开设有介质通道420，使得介质入口可以与多个介质出口410连通，从而避免设置外设的通道来连接介质入口和多个介质出口410，从而使得清洗装置的结构更加紧凑，而且开设的介质通道还使得第一清洗块200和第二清洗块300的重量更轻。
70.介质入口可以设置有清洗接头440，清洗介质可以通过清洗接头440到达介质入口，再通过介质通道420到达多个介质出口410。
71.一种可选的实施例，清洗装置可以包括进气管路、进液管路和三通阀，进液管路可以与三通阀的第一进口端连通，进气管路与三通阀的第二进口端连通，清洗接头440可以与三通阀的出口端连通。在喷淋状态下，第一进口端打开，第二进口端关闭；在吹气状态下，第一进口端关闭，第二进口端打开，通过吹气实现对清洗后的晶圆支撑臂110进行干燥。
72.在对晶圆支撑臂110进行清洗时，第一进口端打开，第二进口端关闭，进液管路与清洗接头440连通，以向晶圆支撑臂110进行喷淋清洗液，在清洗液清洗晶圆支撑臂110结束后，第一进口端关闭，第二进口端打开，进气管路与清洗接头440连通，从而可以向晶圆支撑臂110吹送气体，以对晶圆支撑臂110进行干燥和吹扫，从而实现对晶圆支撑臂110的清洗。
73.本发明上文实施例中重点描述的是各个实施例之间的不同，各个实施例之间不同的优化特征只要不矛盾，均可以组合形成更优的实施例，考虑到行文简洁，在此则不再赘述。
74.上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。