能谱仪线喷嘴用的清洁方法与流程

1.本发明涉及能谱仪技术领域，特别是涉及一种能谱仪线喷嘴用的清洁方法。


背景技术：

2.印制电路板行业的蓬勃发展，印制电路产品的线路要求越来越精密，对eds(energy dispersive spectroscopy，能谱仪)线的性能要求也越来越严格，为确保产品生产过程的稳定性，eds的保养频率也在不断的增加。eds线在清洁保养时，因为药水结晶的影响，槽壁与喷嘴难以清洁干净，特别是喷嘴清洁不干净严重影响eds线的生产品质。
3.然而，传统的清洁方法是将喷嘴拆下后，用水浸泡并利用牙签或尖细的硬物将喷嘴内的结晶一个一个地疏通干净，此做法虽然可以将喷嘴内的结晶清楚干净，但是效率非常低下，人员耗时也非常高，严重影响eds线保养与生产时效以及人工成本的控制。


技术实现要素：

4.本发明的目的是克服现有技术中的不足之处，提供一种有效提高清洁效率的能谱仪线喷嘴用的清洁方法。
5.本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
6.一种能谱仪线喷嘴用的清洁方法，采用能谱仪线喷嘴清洗装置进行清洗，所述能谱仪线喷嘴清洗装置包括清洗缸、清洗支架以及清洗组件；所述清洗缸用于收容清洗液；所述清洗支架设置于所述清洗缸内，所述清洗支架开设有喷嘴卡槽，所述喷嘴卡槽用于卡设安装能谱仪线喷嘴；所述清洗组件包括超声波水洗件以及高压泵浦水洗件，所述超声波水洗件设置于所述清洗缸内，所述超声波水洗件用于对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗，所述高压泵浦水洗件与所述清洗缸连通，所述高压泵浦水洗件用于对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗；
7.所述能谱仪线喷嘴用的清洁方法包括：
8.将能谱仪线喷嘴放置于清洗缸的喷嘴卡槽内；
9.对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理；
10.对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理。
11.在其中一个实施例中，所述将能谱仪线喷嘴放置于清洗缸的喷嘴卡槽内，包括：将多个所述能谱仪线喷嘴依次排布于所述喷嘴卡槽上。
12.在其中一个实施例中，所述对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理，包括：向所述清洗缸内注入预设容量的清洗液。
13.在其中一个实施例中，所述预设容量的清洗液的液位与所述能谱仪线喷嘴平齐。
14.在其中一个实施例中，所述向所述清洗缸内注入预设容量的清洗液，之后还包括：开启所述超声波水洗件，并进行超声波水洗。
15.在其中一个实施例中，所述超声波水洗时间为18分钟至22分钟。
16.在其中一个实施例中，所述对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理，之前还
包括：开启循环水管，以将所述清洗缸内的清洗液回流至蓄水池内。
17.在其中一个实施例中，所述对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理，包括：开启所述高压泵浦水洗件，以将所述蓄水池内的清洗液高压冲洗所述能谱仪线喷嘴。
18.在其中一个实施例中，所述高压泵浦水洗件的开启时间为4分钟至7分钟。
19.在其中一个实施例中，所述高压泵浦水洗件的开启时间为5分钟。
20.与现有技术相比，本发明至少具有以下优点：
21.位于喷嘴卡槽内的能谱仪线喷嘴，先进行超声波水洗处理，通过超声波的辐射，使得槽内清洗液中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的松动，之后再通过高压冲刷，将松动的污染物从能谱仪线喷嘴上冲刷下去，使得能谱仪线喷嘴上的污染物快速清除，有效地提高了对能谱仪线喷嘴的清洁效率。
附图说明
22.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
23.图1为一实施例中能谱仪线喷嘴用的清洁方法的方法图。
具体实施方式
24.为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
25.需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
26.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
27.本发明涉及一种能谱仪线喷嘴用的清洁方法。在其中一个实施例中，所述能谱仪线喷嘴用的清洁方法包括将能谱仪线喷嘴放置于清洗缸的喷嘴卡槽内；对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理；对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理。位于喷嘴卡槽内的能谱仪线喷嘴，先进行超声波水洗处理，通过超声波的辐射，使得槽内清洗液中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的松动，之后再通过高压冲刷，将松动的污染物从能谱仪线喷嘴上冲刷下去，使得能谱仪线喷嘴上的污染物快速清除，有效地提高了对能谱仪线喷嘴的清洁效率。
28.请参阅图1，其为本发明一实施例的能谱仪线喷嘴用的清洁方法的流程图。所述能谱仪线喷嘴用的清洁方法包括以下步骤的部分或全部。
29.s100：将能谱仪线喷嘴放置于清洗缸的喷嘴卡槽内。
30.在本实施例中，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，所述能谱仪线喷嘴的部分收容于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。
31.s200：对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理。
32.在本实施例中，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，所述能谱仪线喷嘴的部分收容于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。这样，在所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内后，所述能谱仪线喷嘴浸染于所述清洗缸内，通过超声波辐射到清洗缸中的清洗液中，受到超声波的辐射，使喷嘴卡槽内液体中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的剥离或松动，便于后续对所述能谱仪线喷嘴的快速清洗。
33.s300：对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理。
34.在本实施例中，所述能谱仪线喷在进行所述高压泵浦水洗处理之前，先进行了超声波水洗处理，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，所述能谱仪线喷嘴的部分收容于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。在所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内后，所述能谱仪线喷嘴浸染于所述清洗缸内，通过超声波辐射到清洗缸中的清洗液中，受到超声波的辐射，使喷嘴卡槽内液体中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的剥离或松动。这样，此时所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物处于松动状态，即易剥离状态，在高压水流的作用下，能更加快捷地将所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物清洗，随着水流一起冲刷下来，有效地提高了对所述能谱仪线喷嘴的清洁效率。
35.在上述实施例中，位于喷嘴卡槽内的能谱仪线喷嘴，先进行超声波水洗处理，通过超声波的辐射，使得槽内清洗液中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的松动，之后再通过高压冲刷，将松动的污染物从能谱仪线喷嘴上冲刷下去，使得能谱仪线喷嘴上的污染物快速清除，有效地提高了对能谱仪线喷嘴的清洁效率。
36.在其中一个实施例中，所述将能谱仪线喷嘴放置于清洗缸的喷嘴卡槽内，包括：将多个所述能谱仪线喷嘴依次排布于所述喷嘴卡槽上。在本实施例中，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，将多个所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，多个所述能谱仪线喷嘴均匀分布于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，而且，还能对多个所述能谱仪线喷嘴同时进行清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。
37.在其中一个实施例中，所述对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理，包括：向所述清洗缸内注入预设容量的清洗液。在本实施例中，所述清洗缸内收容有所述能谱仪线喷嘴，所述清洗缸还用于收容清洗液，所述清洗液用于对所述能谱仪线喷嘴进行清洗。在对所述能谱仪线喷嘴进行清洗之前，先向所述清洗缸内注入预设容量的清洗液，使得所述清洗缸内充满有清洗液，便于后续对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗。
38.进一步地，所述预设容量的清洗液的液位与所述能谱仪线喷嘴平齐，所述清洗液的液体体积量与所述能谱仪线喷嘴所需的清洗量相等，具体地，所述清洗缸内的清洗液的液位高度与所述能谱仪线喷嘴所在高度相等，即所述清洗缸内的清洗液刚好没过所述能谱仪线喷嘴，便于对所述能谱仪线喷嘴的各个位置进行清洗，以提高所述能谱仪线喷嘴的清洁程度。
39.又进一步地，所述向所述清洗缸内注入预设容量的清洗液，之后还包括：开启所述超声波水洗件，并进行超声波水洗。在本实施例中，所述清洗缸内注满清洗液后，所述清洗液将所述能谱仪线喷嘴淹没，使得所述清洗液将所述能谱仪线喷嘴全方位覆盖，从而使得所述能谱仪线喷嘴的各个位置均附着有清洗液。所述超声波水洗件位于所述清洗缸内，在所述清洗液注入完成后，开启所述超声波水洗件，以向所述清洗液辐射超声波，借助于超声波的振动，使得所述喷嘴卡槽内液体中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的剥离或松动，便于对所述能谱仪线喷嘴的清洗。在另一个实施例中，所述超声波水洗时间为18分钟至22分钟，具体地，所述超声波水洗时间为20分钟。
40.在其中一个实施例中，所述对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理，之前还包括：开启循环水管，以将所述清洗缸内的清洗液回流至蓄水池内。在本实施例中，所述能谱仪线喷在进行所述高压泵浦水洗处理之前，先进行了超声波水洗处理，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着
有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，所述能谱仪线喷嘴的部分收容于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。在所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内后，所述能谱仪线喷嘴浸染于所述清洗缸内，通过超声波辐射到清洗缸中的清洗液中，受到超声波的辐射，使喷嘴卡槽内液体中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的剥离或松动。此时所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物处于松动状态，即易剥离状态，在高压水流的作用下，能更加快捷地将所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物清洗，随着水流一起冲刷下来，有效地提高了对所述能谱仪线喷嘴的清洁效率。这样，将循环水管开启，使得所述清洗缸与所述蓄水池连通，在所述高压泵浦水洗件的高压供水作用下，实现清洗液的循环使用，不仅为所述能谱仪线喷嘴的高压清洗提供水压，还能对清洗液重复利用。
41.进一步地，所述对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗处理，包括：开启所述高压泵浦水洗件，以将所述蓄水池内的清洗液高压冲洗所述能谱仪线喷嘴。在本实施例中，所述能谱仪线喷在进行所述高压泵浦水洗处理之前，先进行了超声波水洗处理，所述能谱仪线喷嘴为能谱仪的检测线上的喷嘴，用于检测电路板的成板情况，即检测电路板在制作过程中的表面完整情况。所述能谱仪线喷嘴由于经常对准电路板，导致所述能谱仪线喷嘴内附着有结晶污染物，将所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内，以对所述能谱仪线喷嘴进行结晶污染物的清除。其中，所述喷嘴卡槽为底部镂空结构，所述能谱仪线喷嘴卡设于所述喷嘴卡槽内，具体地，所述能谱仪线喷嘴的部分收容于所述喷嘴卡槽内，便于借助于所述清洗缸内的清洗液对所述能谱仪线喷嘴进行清洁，从而便于对所述能谱仪线喷嘴进行全方位清洁，使得所述能谱仪线喷嘴的清洁度以及清洁效率提高。在所述能谱仪线喷嘴放置于所述喷嘴卡槽内后，所述能谱仪线喷嘴浸染于所述清洗缸内，通过超声波辐射到清洗缸中的清洗液中，受到超声波的辐射，使喷嘴卡槽内液体中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的剥离或松动。此时所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物处于松动状态，即易剥离状态，在高压水流的作用下，能更加快捷地将所述能谱仪线喷嘴上的结晶污染物清洗，随着水流一起冲刷下来，有效地提高了对所述能谱仪线喷嘴的清洁效率。将循环水管开启，使得所述清洗缸与所述蓄水池连通，在所述高压泵浦水洗件的高压供水作用下，实现清洗液的循环使用，不仅为所述能谱仪线喷嘴的高压清洗提供水压，还能对清洗液重复利用。这样，此时所述高压泵浦水洗件提供清洗液流动的动能，并对所述清洗液进行加压，使得对所述能谱仪线喷嘴进行清洗的清洗液为高压液体，从而使得所述能谱仪线喷嘴进行高压清洗，在高压液体的冲刷下，所述能谱仪线喷嘴上处于易剥离状态的结晶污染物被快速清除，进一步提高对所述能谱仪线喷嘴的清洗效率。在另一个实施例中，所述高压泵浦水洗件的开启时间为4分钟至7分钟，具体地，所述高压泵浦水洗件的开启时间为5分钟。
42.可以理解的，所述能谱仪线喷嘴是放在所述喷嘴卡槽内的，所述喷嘴卡槽位于所述清洗支架上，所述清洗支架的喷嘴卡槽与所述能谱仪喷嘴相匹配，所述清洗支架还具有伸缩功能，以调节所述喷嘴卡槽的开口大小，便于将所述能谱仪喷嘴完全收容，从而便于后
续对所述能谱仪喷嘴的清洗。然而，在所述能谱仪喷嘴放置于所述清洗支架上时，超声波水洗件以及高压泵浦水洗件对所述能谱仪喷嘴清洗，但是所述能谱仪喷嘴还是容易抖动，这是受限于所述能谱仪喷嘴的结构特性，即自身重量较小，无法稳定。虽然所述清洗支架上有相应的定位柱，而随着所述清洗支架的伸缩，定位柱的位置是变化的，无法准确将所述能谱仪喷嘴对准，更加容易导致所述能谱仪喷嘴的松动。
43.为了便于所述能谱仪喷嘴的快捷固定放置，所述对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗处理，之前还包括以下步骤：
44.获取所述清洗支架的定位距离；
45.检测所述定位距离与预设距离是否匹配；
46.当所述定位距离与所述预设距离不匹配时，向清洗控制设备发送加幅信号，以继续增大所述清洗支架的喷嘴卡槽的区域幅员。
47.在本实施例中，所述定位距离为所述清洗支架上的相邻两个定位柱之间的间距，即所述定位距离为所述清洗支架上用于定位安装所述能谱仪喷嘴的定位柱位置，也即所述定位距离与所述清洗支架上的定位柱间距对应。所述清洗支架上的定位柱与所述能谱仪喷嘴上的定位孔对应，用于将所述能谱仪喷嘴固定在所述清洗支架上。所述预设距离为标准的定位距离，具体地，所述预设距离为所述能谱仪喷嘴的相邻两个所述定位孔的孔间距，所述预设距离用于所述清洗支架上的相邻两个定位柱之间的相对位置的判断。所述定位距离与所述预设距离不匹配，表明了所述清洗支架上的定位柱间距与所述能谱仪喷嘴上的定位孔的孔间距不等，即表明了所述清洗支架还未伸长至指定位置，也即所述清洗支架上的定位柱还未移动至与定位孔对应的位置。其中，所述清洗支架的定位柱的运动方式是伸长方式，即在能谱仪喷嘴放置于清洗支架之前，定位柱是处于初始位置，在需要放置能谱仪喷嘴时，定位柱是逐步伸长至与定位孔对应的位置，而在能谱仪喷嘴清洗完成后，即能谱仪喷嘴取下后，所述清洗支架复位，定位柱回缩至初始位置，以便于后续能谱仪喷嘴的清洗。这样，在所述定位柱未移动至与定位孔对应位置时，通过向所述清洗控制设备发送加幅信号，使得所述清洗支架继续工作，从而使得所述定位柱继续伸长，不仅继续增大所述清洗支架的喷嘴卡槽的区域幅员，还可以将所述定位柱移动至与能谱仪喷嘴上的定位孔对应，提高了所述能谱仪喷嘴与所述清洗支架的对准安装效率。在另一个实施例中，所述清洗支架的喷嘴卡槽的开口变化，是通过横向调节器和纵向调节器实现的，即所述能谱仪线喷嘴清洗装置还包括与所述清洗支架连接的横向调节器以及纵向调节器，所述横向调节器用于调节所述喷嘴卡槽的宽度，所述纵向调节器用于调节所述喷嘴卡槽的长度。
48.进一步地，所述检测所述定位距离与预设距离是否匹配，之后还包括以下步骤：
49.当所述定位距离与所述预设距离匹配时，对所述定位距离进行定正处理，得到定位柱正弦角；
50.检测所述定位柱正弦角与预设正弦角是否相等；
51.当所述定位柱正弦角与所述预设正弦角不等时，向所述清洗控制设备发送清洗报警信号。
52.在本实施例中，所述定位距离与所述预设距离匹配，表明了所述清洗支架上的定位柱间距与所述能谱仪喷嘴上的定位孔的孔间距相等，即表明了所述清洗支架伸长至指定位置，也即所述清洗支架上的定位柱移动至与定位孔对应的位置。但是，所述定位柱在所述
清洗支架上的位置可能存在伸长偏移，即相邻的两个定位柱所在直线与清洗缸内壁不再保持平行。此时对所述定位距离进行正弦角度的采集，基于所述定位距离与所述清洗缸内壁之间的距离，具体地，与所述清洗缸内壁平行的两个定位柱之间的距离，以及两个定位柱与所述清洗缸内壁的间距差值，根据上述两个数值确定所述定位柱发生的偏移角度，即所述定位柱正弦角。所述预设正弦角为标准的定位柱正弦角，所述定位柱正弦角与所述预设正弦角不等，表明了所述清洗支架上的定位柱发生伸长偏移，即表明了所述能谱仪喷嘴在所述清洗支架上的放置有角度倾斜，也即所述能谱仪喷嘴的部分有超出所述清洗支架的风险，此时向所述清洗控制设备发送清洗报警信号，以便于操作人员及时对清洗缸内壁与清洗支架之间的相对位置进行复位维护，避免在长期使用过程中所述清洗支架偏移导致的掉板情况。在另一个实施例中，所述能谱仪喷嘴在所述清洗支架上的偏移，是定位柱发生倾斜导致的。
53.更进一步地，所述当所述定位柱正弦角与所述预设正弦角不等时，向所述清洗控制设备发送清洗报警信号，具体地包括以下步骤：
54.当所述定位柱正弦角与所述预设正弦角不等时，根据所述定位柱正弦角以及能谱仪喷嘴的侧边长度获取清洗位偏量；
55.检测所述清洗位偏量是否大于预设位偏量；
56.当所述清洗位偏量大于所述预设位偏量时，向所述清洗控制设备发送清洗停车信号，以停止对所述能谱仪喷嘴的水平线生产。
57.在本实施例中，所述定位柱正弦角与所述预设正弦角不等，此时所述能谱仪喷嘴可能存在偏移掉板的情况，即所述能谱仪喷嘴偏移出所述喷嘴卡槽的部分过多，但是，由于所述清洗支架的喷嘴卡槽还是有相当面积的，所述能谱仪喷嘴只有在严重偏移后，才可能在清洗过程中受高压冲洗后掉落至清洗缸内。为了不影响生产，需要对过多偏移的情况进行及时处理，所述定位柱正弦角为所述能谱仪喷嘴在所述清洗支架上相对于所述清洗缸内壁的偏移角度，所述能谱仪喷嘴的侧边长度为所述能谱仪喷嘴横向或纵向的宽度，在所述定位柱正弦角以及能谱仪喷嘴的侧边长度确定的情况下，可获取到所述能谱仪喷嘴的侧边远离所述清洗缸内壁的最大距离，即所述清洗位偏量。所述清洗位偏量大于所述预设位偏量，表明了所述能谱仪喷嘴的侧边偏移距离超出了标准偏移距离，即表明了所述能谱仪喷嘴的偏移较为严重，也即所述能谱仪喷嘴的偏移将导致掉板，这样，此时向所述清洗控制设备发送清洗停车信号，以停止对所述能谱仪喷嘴的水平线生产，使得所述能谱仪喷嘴的清洗操作停止，避免对所述能谱仪喷嘴造成报废。
58.在其中一个实施例中，在其中一个实施例中，本技术还提供一种能谱仪线喷嘴清洗装置，其采用上述任一实施例中所述的能谱仪线喷嘴用的清洁方法实现。在其中一个实施例中，所述能谱仪线喷嘴清洗装置具有用于实现所述能谱仪线喷嘴用的清洁方法各步骤对应的功能模块。所述能谱仪线喷嘴清洗装置包括清洗缸、清洗支架以及清洗组件；所述清洗缸用于收容清洗液；所述清洗支架设置于所述清洗缸内，所述清洗支架开设有喷嘴卡槽，所述喷嘴卡槽用于卡设安装能谱仪线喷嘴；所述清洗组件包括超声波水洗件以及高压泵浦水洗件，所述超声波水洗件设置于所述清洗缸内，所述超声波水洗件用于对所述能谱仪线喷嘴进行超声波水洗，所述高压泵浦水洗件与所述清洗缸连通，所述高压泵浦水洗件用于对所述能谱仪线喷嘴进行高压泵浦水洗。在本实施例中，位于喷嘴卡槽内的能谱仪线喷嘴，
先进行超声波水洗处理，通过超声波的辐射，使得槽内清洗液中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏能谱仪线喷嘴内结晶的污染物，引起污染层的疲劳破坏，最终导致污染物的松动，之后再通过高压冲刷，将松动的污染物从能谱仪线喷嘴上冲刷下去，使得能谱仪线喷嘴上的污染物快速清除，有效地提高了对能谱仪线喷嘴的清洁效率。其中，所述超声波水洗件包括超声波发射器，用于产生超声波，所述高压泵浦水洗件包括高压泵浦以及高压管，所述高压泵浦与所述蓄水池连通，以对所述蓄水池内的清洗液进行加压，所述高压管分别与所述蓄水池以及所述清洗缸连通，用于将加压后的清洗液导向所述能谱仪线喷嘴。在另一个实施例中，所述高压管包括依次相互连通的高压水管、高压进水软管以及喷嘴高压水洗通管，所述高压水管与所述蓄水池连通，所述喷嘴高压水洗通管与所述喷嘴卡槽连通，以向所述喷嘴卡槽内通入高压清洗液。
59.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。