一种石英晶体用无损的清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及清洗装置领域，具体为一种石英晶体用无损的清洗装置。


背景技术：

2.石英晶体在制作完成后在进行表面清洗，清洗的要求比较复杂，特别是清洗池需要在整个清洗操作过程中需要不损伤到石英晶体，而且还要保持清洗效率。
3.现有的石英晶体用清洗装置在对石英晶体进行清洗时，大多直接将盛有石英晶体的清洗框放置到清洗装置内，然后通过清洗装置对其进行一段时间的清洁，但该装置难以保证装置对石英晶体清洁的效果。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种石英晶体用无损的清洗装置，以解决上述背景技术中提出的大多直接将盛有石英晶体的清洗框放置到清洗装置内，然后通过清洗装置对其进行一段时间的清洁，但该装置难以保证装置对石英晶体清洁的效果的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种石英晶体用无损的清洗装置，包括清洗框架，所述清洗框架内壁的底面设置有超声波振子；
6.所述清洗框架内壁前后的两侧转动连接有转杆，所述转杆的侧面固定套接有抵触板，所述抵触板的侧面固定套接有扭簧，所述扭簧的一端与转杆的侧面固定连接，所述扭簧的另一端与清洗框架内壁的侧面固定连接；
7.所述清洗框架内壁左右的两侧均固定连接有阻尼伸缩杆，所述阻尼伸缩杆的侧面固定套接有弹簧，所述弹簧的两端分别与阻尼伸缩杆侧面中部的两端固定连接，所述阻尼伸缩杆远离清洗框架的一端固定连接有楔形块；
8.所述清洗框架内壁的侧面滑动连接有清洁框，所述清洁框左右两侧的下侧均固定连接有支持块，所述支持块下侧与抵触板的一端抵触，所述清洁框左右两侧的上侧均固定连接有抵触块，且抵触块的上侧与楔形块的下侧抵触。
9.优选的，所述抵触板的两侧均为弧形，且抵触板倾斜45
°
固定套接在转杆的侧面上。
10.优选的，所述转杆侧面的两端均固定套接有阻尼圈，且阻尼圈的端面与清洗框架内壁的侧面抵触。
11.优选的，所述楔形块远离清洗框架内壁一侧的上侧开设有斜面。
12.优选的，所述清洁框左右的两侧均固定连接有提把，且提把的下侧固定连接有圆柱，且圆柱的侧面与清洗框架内壁的侧面抵触。
13.优选的，所述抵触块远离清洁框一侧的下侧做圆角处理。
14.与现有技术相比，本实用新型的有益效果：
15.本实用新型中，通过超声波振子促使清洗框架内带动水震动，对清洁框内的石英晶体进行清洁，使得清洁框内质量变轻，进而促使扭簧形变复位的力逐渐变大，使得清洁框
具有向上的力，此时楔形块与抵触块之间摩擦抵触的力逐渐变大，当清洁框向上的力大于楔形块与抵触块之间的摩擦力后，使得弹簧和阻尼伸缩杆收缩，解除楔形块对清洁框的限制，促使清洁框上移，完成装置对清洁框内石英晶体的清洁，节约能源，且保证装置对石英晶体清洗的效果。
16.本实用新型中，通过握住提把将清洁框抬起，然后通过将清洁框放入清洗框架内进行清洁，使得清洁框内质量变轻，在扭簧的作用下促使清洁框具有向上的力，当清洁框向上的力大于楔形块与抵触块之间的摩擦力后，使得弹簧和阻尼伸缩杆收缩，解除楔形块对清洁框的限制，促使清洁框上移，便于使用者通过提把将清洁框从清洗框架内取出，操作简单方便。
附图说明
17.图1为本实用新型的立体结构示意图；
18.图2为本实用新型的立体结构剖面图；
19.图3为本实用新型的图2中a处结构放大图。
20.图中：1、清洗框架；2、超声波振子；3、转杆；4、抵触板；5、扭簧；6、阻尼伸缩杆；7、弹簧；8、楔形块；9、清洁框；10、支持块；11、抵触块；12、提把。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术工作人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
22.请参阅图1至图3，本实用新型提供一种技术方案：一种石英晶体用无损的清洗装置，包括清洗框架1，清洗框架1内壁的底面设置有超声波振子2；
23.清洗框架1内壁前后的两侧转动连接有转杆3，转杆3的侧面固定套接有抵触板4，抵触板4的侧面固定套接有扭簧5，扭簧5的一端与转杆3的侧面固定连接，扭簧5的另一端与清洗框架1内壁的侧面固定连接；
24.清洗框架1内壁左右的两侧均固定连接有阻尼伸缩杆6，阻尼伸缩杆6的侧面固定套接有弹簧7，弹簧7的两端分别与阻尼伸缩杆6侧面中部的两端固定连接，阻尼伸缩杆6远离清洗框架1的一端固定连接有楔形块8；
25.清洗框架1内壁的侧面滑动连接有清洁框9，清洁框9左右两侧的下侧均固定连接有支持块10，支持块10下侧与抵触板4的一端抵触，清洁框9左右两侧的上侧均固定连接有抵触块11，且抵触块11的上侧与楔形块8的下侧抵触。
26.本实施例中，如图2所示，抵触板4的两侧均为弧形，且抵触板4倾斜45
°
固定套接在转杆3的侧面上，通过抵触板4与扭簧5配合对清洁框9进行支撑，便于对清洁框9内原料进行清洁。
27.本实施例中，如图1、图2和图3所示，转杆3侧面的两端均固定套接有阻尼圈，且阻尼圈的端面与清洗框架1内壁的侧面抵触，通过阻尼圈增加转杆3与清洗框架1之间的摩擦力。
28.本实施例中，如图1、图2和图3所示，楔形块8远离清洗框架1内壁一侧的上侧开设有斜面，使用者将清洁框9放入清洗框架1内时，通过抵触块11挤压斜面便于使得楔形块8带动弹簧7收缩，便于将清洁框9固定在清洗框架1的内部。
29.本实施例中，如图1、图2和图3所示，清洁框9左右的两侧均固定连接有提把12，且提把12的下侧固定连接有圆柱，且圆柱的侧面与清洗框架1内壁的侧面抵触，通过提把12便于使用者将清洁框9从清洗框架1内取出。
30.本实施例中，如图1、图2和图3所示，抵触块11远离清洁框9一侧的下侧做圆角处理，保证抵触块11与楔形块8侧面的斜面滑动的顺畅性。
31.本实用新型的使用方法和优点：该种石英晶体用无损的清洗装置在使用时，工作过程如下：
32.如图1、图2和图3所示，使用者将石英晶体放置在清洁框9的内部，然后通过握住提把12将清洁框9抬起，然后通过将清洁框9放入清洗框架1内时，使得抵触块11挤压斜面使得楔形块8带动弹簧7和阻尼伸缩杆6同时收缩，此时支持块10与抵触板4的侧面抵触，使得抵触板4和转杆3偏转、扭簧5形变，完成将清洁框9固定在清洗框架1的内部，然后通过超声波振子2促使清洗框架1内带动水震动，对清洁框9内的石英晶体进行清洁；
33.当装置对石英晶体清洁时，使得石英晶体表面的杂物掉落，进而使得清洁框9与其内部的石英晶体质量变轻，进而促使扭簧5形变复位的力逐渐变大，带动抵触板4和转杆3具有偏转复位的力，使得清洁框9具有向上的力，此时楔形块8与抵触块11之间摩擦抵触的力逐渐变大，当清洁框9向上的力大于楔形块8与抵触块11之间的摩擦力后，使得弹簧7和阻尼伸缩杆6收缩，解除楔形块8对清洁框9的限制，促使清洁框9上移，完成装置对清洁框9内石英晶体的清洁，节约能源。
34.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术工作人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。