一种硅片清洗用双层石英槽的制作方法

1.本实用新型涉及硅片清洗设备技术领域，具体涉及一种硅片清洗用双层石英槽。


背景技术：

2.在硅片进行清洗时，硅片需要放置在石英槽中利用清洗液对其进行清洗，现有的对硅片进行清洗的石英槽，一般是通过机械臂将硅片放入石英槽中，进行清洗，此时方式虽然十分快捷，但是耗费成本高，不适用于小批次硅片的清洗，为了解决上述问题，提出了一种硅片清洗用双层石英槽。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种硅片清洗用双层石英槽。
4.本实用新型解决技术问题采用的技术方案是：一种硅片清洗用双层石英槽，其包括：石英槽本体，所述石英槽本体的内部设置有若干个放置杆组成的放置架，所述放置架的上端一侧设置有提升机构，所述放置架通过提升机构在石英槽本体内部竖向移动，放置架上下往复移动，使得硅片产生振动，硅片上的污渍可掉落；
5.所述提升机构包括横杆，所述横杆通过底端两侧的连杆固定连接于放置架的上端一侧，所述横杆的端部固定连接有竖杆，所述竖杆由横杆的端部延伸至石英槽本体的外壁中部，所述石英槽本体相对竖杆开设有竖槽，所述竖杆的下端通过连接块滑动连接于竖槽内，拉动横杆，可使得一侧的竖杆下端的连接块在竖槽内滑动，横杆下方的放置架即可移动，此种硅片的提起放入方式简单且成本低，适用于小批次的硅片清洗。
6.优选的，所述石英槽本体的内部且位于放置架的下方设置有滤板，所述滤板的上端两侧中部通过短杆固定连接于放置架的底端两侧，所述滤板的侧面贴合石英槽本体的内壁，通过滤板可以将废液中的杂质过滤，并且当提出放置架时，与放置架底端固定的滤板随之被提出，方便清洗其表面的杂质。
7.优选的，所述滤板的正面截面为弧形，杂质积累在弧形的凹面内，不易掉落，所述滤板的底端开设有若干个均匀分布的滤孔，所述滤板的底端与石英槽本体的内部底壁之间形成排水腔，过滤后的废液会进入排水腔排出。
8.优选的，所述石英槽本体的一侧下部侧壁上相对排水腔开设有出水口，所述出水口为长条型，所述出水口内嵌合有橡胶塞，拔出橡胶塞后，废液可从出水口排出。
9.优选的，所述竖槽的底壁上固定连接有弹簧，所述弹簧的上端通过连接块固定连接于竖杆的下端，弹簧提供一定的阻力，避免拉动横杆时用力过大移动幅度过大，引起硅片较大的振动偏移掉落。
10.本实用新型具有以下优点：
11.通过设置提升机构，只需拉动提升机构的横杆就可以提起和放回放置架，此种移动方式简单且成本低，适用于小批次的硅片清洗，同时通过提升机构可以带动放置架上的硅片上下移动，使得硅片产生振动，硅片上的污渍可掉落，便于清洗，通过设置与放置架一
体化连接的滤板，滤板可对废液进行过滤，并且当提出放置架时，与放置架底端固定的滤板随之被提出，方便清洗其表面的杂质。
附图说明
12.图1是本实用新型一优选实施例的一种硅片清洗用双层石英槽的剖切结构示意图；
13.图2是本实用新型一优选实施例的一种硅片清洗用双层石英槽的立体结构示意图；
14.图3是本实用新型一优选实施例的一种硅片清洗用双层石英槽的a处放大结构示意图。
15.附图标记说明：1、石英槽本体；2、放置架；3、提升机构；31、横杆；32、竖杆；33、竖槽；34、弹簧；4、滤板；41、滤孔；5、出水口；6、排水腔。
具体实施方式
16.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相正对地重要性。
17.实施例
18.如图1-3所示的一种硅片清洗用双层石英槽，包括石英槽本体1，石英槽本体1的内部设置有若干个放置杆组成的放置架2，石英槽本体1内放置有清洗液，将硅片放置在放置架2上，使得硅片浸泡在清洗液中，可以使其表面的污渍溶解，放置架2的上端一侧设置有提升机构3，放置架2通过提升机构3在石英槽本体1内部竖向移动，放置架2上下往复移动，使得硅片产生振动，硅片上的污渍可掉落，顺着放置架2的放置杆之间的空隙下落，并且清洗完毕后，通过提升机构3将放置架2提出石英槽本体1，可取出放置架2上的硅片。
19.提升机构3包括横杆31，横杆31通过底端两侧的连杆固定连接于放置架2的上端一侧，横杆31的端部固定连接有竖杆32，竖杆32由横杆31的端部延伸至石英槽本体1的外壁中部，石英槽本体1相对竖杆32开设有竖槽33，竖杆32的下端通过连接块滑动连接于竖槽33内，在使用提升机构3进行提升时，拉动横杆31，可使得一侧的竖杆32下端的连接块在竖槽33内滑动，横杆31下方的放置架2即可移动，此种硅片的提起放入方式简单且成本低，适用于小批次的硅片清洗，并且竖杆32的移动被竖槽33导向，使得横杆31和放置架2的移动位置被导向，方便放置架2的上下移动，并且竖槽33的底壁上固定连接有弹簧34，弹簧34的上端通过连接块固定连接于竖杆32的下端，弹簧34提供一定的阻力，避免拉动横杆31时用力过大移动幅度过大，引起硅片较大的振动偏移掉落。
20.清洗后废液中的杂质不方便排出，因此在石英槽本体1的内部且位于放置架2的下方设置滤板4，通过滤板4可以将废液中的杂质过滤，滤板4的上端两侧中部通过短杆固定连接于放置架2的底端两侧，滤板4的侧面贴合石英槽本体1的内壁，当提出放置架2时，与放置
架2底端固定的滤板4随之被提出，方便清洗其表面的杂质。
21.滤板4上的杂质容易掉落，因此滤板4的正面截面设为弧形，滤板4的底端开设有若干个均匀分布的滤孔41，杂质积累在弧形的凹面内，不易掉落，滤板4的底端与石英槽本体1的内部底壁之间形成排水腔6，过滤后的废液会进入排水腔6排出，石英槽本体1的一侧下部侧壁上相对排水腔6开设有出水口5，出水口5为长条型，出水口5内嵌合有橡胶塞，拔出橡胶塞后，废液可从出水口5排出。
22.工作原理：将硅片放置在放置架2上，使得硅片浸泡在清洗液中，可以使其表面的污渍溶解，通过拉推提升机构3的横杆31带动放置架2上下往复移动，使得硅片产生振动，硅片上的污渍可掉落，顺着放置架2的放置杆之间的空隙下落，并且清洗完毕后，通过提升机构3将放置架2提出石英槽本体1，可取出放置架2上的硅片，通过滤板4可以将废液中的杂质过滤，当提出放置架2时，与放置架2底端固定的滤板4随之被提出，方便清洗其表面的杂质，最后，拔出橡胶塞，过滤后的废液会进入排水腔6从出水口5排出。
23.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。