一种半自动半导体设备部件清洗机的制作方法

文档序号:30714923发布日期:2022-07-12 17:47阅读:236来源:国知局
一种半自动半导体设备部件清洗机的制作方法

1.本实用新型属于半导体清洗设备技术领域,具体涉及一种半自动半导体设备部件清洗机。


背景技术:

2.硅基氮化镓目前是比较热门的第三代半导体材料,其采用mocvd设备进行异质外延生长从而导致反应室内核心部件(如钼环、石英制品、石墨制品等)会产生氮化镓、碳等附着物。
3.由于硅基氮化镓的生长特性,若反应室内核心部件上存在附着物,会对反应生长的薄膜质量产生严重的影响,所以,在进行生长工艺之前,需要对反应室内部件上的附着物进行清理。
4.目前的清洗方式大多数是采用手动清洗操作平台清洗部件上的附着物,如图1所示,现有的手动清洗操作平台包括依次设置的第一药液池单元、用于放置部件的放置平台1a、第二药液池单元和吹干槽2a。第一药液池单元、第二药液池单元可以分别独立设置一个或多个药液池3a,清洗部件时,将被清洗部件置于网兜中,将装有被清洗部件的网兜先依次放入第一药液池单元的一个或多个药液池3a内进行浸泡,然后从网兜中拿出置于放置平台1a上进行擦拭,擦拭完后的部件再次放入网兜,再将网兜依次置于第二药液池单元的一个或多个药液池3a内浸泡、吹干槽2a内吹干,然后再拿出放置于放置平台1a上。然而采用手动清洗操作平台清洗时,常常存在以下问题:操作平台上一个操作人员一次只能进行一批次部件的清洗,严重浪费人工,且人工操作时间长,清洗效率低下;清洗时由于常常需要更换不同的药液池进行浸泡清洗,部件发生磕碰破损的几率大;擦拭操作和吹干放置在同一操作平台上,部件易受污染。


技术实现要素:

5.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种清洗效率高、部件磕碰风险和受污染风险小的半自动半导体设备部件清洗机。
6.为解决以上技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
7.一种半自动半导体设备部件清洗机,包括机架,所述清洗机还包括设置在所述机架上的第一清洗区和第二清洗区,所述第一清洗区包括依次设置的第一药液槽单元和第一平台,所述第二清洗区包括依次设置的第二平台、第二药液槽单元、吹干槽和第三平台,所述清洗机还包括活动设置在所述机架上且位于所述第二清洗区的机械手及用于控制所述机械手运行的控制系统,所述机械手用于抓取或释放所述部件。
8.根据本实用新型的一些实施方面,所述第一清洗区、第二清洗区之间设置用于将所述第一清洗区、第二清洗区彼此独立设置的隔板。
9.在一些优选且具体实施方式中,所述隔板固定或活动设置在所述机架上,当所述隔板活动设置时,移动所述隔板使得所述第一清洗区和第二清洗区彼此独立或相互连通。
10.根据本实用新型的一些实施方面,所述清洗机还包括横向设置在所述机架上的导轨,所述机械手沿所述导轨的长度方向滑动设置在所述导轨上,所述机械手为伸缩臂式机械手。
11.在一些优选且具体实施方式中,所述导轨为转动设置在所述机架上的丝杆导轨,所述机械手具有能够与所述丝杆导轨配合且在所述丝杆导轨上滑动的螺母,所述清洗机还包括用于驱动所述丝杆导轨转动的电机,所述控制系统分别与所述电机和机械手电连接。
12.根据本实用新型的一些实施方面,所述清洗机还包括活动设置在所述机架上且用于盖合所述第一清洗区和第二清洗区的多个门,所述多个门包括与所述第二平台位置对应设置的第一门和与所述第三平台位置对应设置的第二门。
13.根据本实用新型的一些实施方面,所述第一药液槽单元包括依次设置的第一药液槽和第二药液槽,所述第一药液槽的尺寸和第二药液槽的尺寸不同。
14.根据本实用新型的一些实施方面,所述第二药液槽单元包括一个或多个依次设置的第三药液槽。
15.在一些优选且具体实施方式中,所述第二药液槽的尺寸大于所述第一药液槽的尺寸,所述第二药液槽靠近所述第一平台设置,所述第一药液槽远离所述第一平台设置;所述第三药液槽的尺寸大于等于所述第二药液槽的尺寸。
16.在一些优选且具体实施方式中,所述第一药液槽设置一个或多个,当设置多个所述第一药液槽时,其中一部分所述第一药液槽内盛放水,剩余所述第一药液槽内盛放化学药液,所述第二药液槽设置一个或多个。所述第二药液槽、第三药液槽内分别盛放化学药液。
17.在一些具体实施方式中,所述第一药液槽设置6个,6个所述第一药液槽呈2列分布,各列分别分布3个所述第一药液槽;所述第二药液槽设置2个;所述第三药液槽设置2个。
18.根据本实用新型的一些实施方面,所述半导体设备包括mocvd设备或pecvd设备,所述部件包括钼环、石英制品、石墨制品中的一种或多种。
19.由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
20.本实用新型的清洗机清洗半导体部件时,操作人员手动将部件置于第一药液槽单元的药液槽内浸泡,浸泡完后,拿出置于第一平台上擦拭,擦拭完后的部件置于第二平台上,然后通过机械手抓取部件置于第二药液槽单元的药液槽内浸泡、吹干槽内吹干,然后置于第三平台上待取出,手动操作和自动操作相结合,互不干扰,大大提升清洗效率,可以同时进行2批次以上部件的清洗,同时减少磕碰风险及污染部件风险。
附图说明
21.图1为现有的半导体设备部件清洗机的俯视结构示意图;
22.图中:1a、放置平台;2a、吹干槽;3a、药液池。
23.图2为本实用新型一个实施例的半自动半导体设备部件清洗机的立体结构示意图;
24.图3为本实用新型一个实施例的半自动半导体设备部件清洗机的俯视结构示意图;
25.图4为本实用新型一个实施例的半自动半导体设备部件清洗机的主视结构示意图
(未显示门结构);
26.图中:1、机架;2、第一平台;3、第二平台;4、吹干槽;5、第三平台;6、机械手;7、导轨;8、隔板;9、第一门;10、第二门;11、第一药液槽;12、第二药液槽;13、第三药液槽。
具体实施方式
27.以下结合说明书附图对本实用新型做进一步描述:
28.如图2~4所示的半自动半导体设备部件清洗机,用于清洗半导体设备内部件,如用于清洗mocvd设备内的各种石英制品、钼环、石墨制品等部件。
29.该半自动半导体设备部件清洗机,包括机架1、设置在机架1上的第一清洗区和第二清洗区,第一清洗区、第二清洗区之间设置用于将第一清洗区和第二清洗区彼此独立的隔板8,使得第一清洗区、第二清洗区之间的清洗工作互不干扰,该清洗机还包括活动设置在机架1上且位于第二清洗区的机械手6及用于控制机械手6运行的控制系统(图中未示出控制系统),机械手6用于抓取或释放待清洗部件。
30.第一清洗区包括依次设置的第一药液槽单元和第一平台2,第一药液槽单元包括依次设置的第一药液槽11和第二药液槽12,第二药液槽12的尺寸大于第一药液槽11的尺寸,第二药液槽12靠近第一平台2设置,第一药液槽11远离第一平台2设置,第一药液槽11可以设置一个或多个,第二药液槽12可以设置一个或多个,本例中,第一药液槽11设置多个,呈两列分布,各列分别设置3个第一药液槽11,其中一个列第一药液槽11内盛放化学药剂,另一列第一药液槽11内盛放水,且盛放水的第一药液槽11靠近第二药液槽12设置,多个第一药液槽11可同时清洗多套尺寸较小的部件,即每个盛放化学药剂的第一药液槽11内可以浸泡一套部件;第二药液槽12设置2个。
31.第二清洗区包括依次设置的第二平台3、第二药液槽单元、吹干槽4和第三平台5,第二药液槽单元包括一个或多个依次设置的第三药液槽13,第三药液槽13的尺寸大于等于第二药液槽12的尺寸,本例中,依次设置2个第三药液槽13,2个第三药液槽13分别盛放化学药剂。
32.清洗时,小尺寸部件可以先放置于第一药液槽11内浸泡,然后与大尺寸部件一同置于第二药液槽12内浸泡,再取出置于第一平台2上进行擦拭,擦拭完的部件置于第二平台3上,控制系统控制机械手6抓取第二平台3上的部件,然后置于第三药液槽13内浸泡,浸泡完成机械手6再将部件置于吹干槽4内吹干,吹干后的部件再由机械手6放置于第三平台5上待取出。
33.本例中,隔板8固定或活动设置在机架1上,当隔板8活动设置时,可移动隔板8使得第一清洗区和第二清洗区彼此独立或相互连通,则操作人员可以将擦拭完成的部件通过第一清洗区和第二清洗区连通的位置直接放置于第二平台3上待机械手6抓取。
34.本例中,清洗机包括横向设置在机架1上的导轨7,导轨7设置在第二清洗区内位于机架1的中部,机械手6沿导轨7的长度方向滑动设置在导轨7上,机械手6为伸缩臂式机械手。该导轨7为转动设置在机架1上的丝杆导轨,机械手6具有能够与丝杆导轨配合且在丝杆导轨上滑动的螺母,该清洗机还包括用于驱动丝杆导轨转动的电机(图中未画出),控制系统分别与电机和机械手6电连接。控制系统内预设有用于控制电机转动、机械手6抓取或释放部件的程序,同时控制系统还能控制机械手6抓取或释放部件的间隔时间,及横向运行间
隔时间及伸缩臂伸缩动作,以便控制部件在各第三药液槽13内的浸泡时间及在吹干槽4内的吹干时间。部件在第二清洗区内严格按照设定时间进行浸泡、吹干,相比人为操作,清洗更加干净,效率更高。
35.采用本例中的清洗机,可以同时进行多批次部件的清洗,如当擦拭完成的部件进入第二清洗区进行清洗作业时,只要使得机械手6按照设定程序对擦拭完成后的部件抓取并置于第三药液槽13内浸泡,而若第三药液槽13有多个,则机械手6按照设定程度依次进入各第三药液槽13浸泡设定时间,然后取出后置于吹干槽4内并在设定时间内吹干,然后取出置于第三平台5上待操作人员取出。在机械手6对于擦拭完的一批次部件在第二清洗区进行清洗时,可以解放操作人员的双手,使得操作人员可以在第一清洗区进行下一批次部件的清洗,互不干扰,大大提高部件的清洗效率,一名操作人员在一台清洗机上可以同时进行多批次的部件的清洗(传统的清洗方式:一名操作人员只能完全清洗完一批次部件后,才能进行下一批次部件的清洗)。并且第二清洗区采用机械手6操作,可以大大降低部件的磕碰率,擦拭用平台(本例中,为第一平台)及放置吹干部件用平台(本例中,为第三平台)分开设置,大大降低部件的污染率。
36.在清洗部件时,为了便于部件的抓取或释放,通常是将部件置于网兜且网兜上插设杆件或提篮中,操作人员或机械手抓取或释放网兜上的杆件或提篮的提手,以将部件放入各药液槽、吹干槽,或从各药液槽、吹干槽中取出,放置于平台上。
37.本例中,该清洗机还包括活动设置在机架1上用于盖合第一清洗区和第二清洗区的多个门,门的主体部位可以采用玻璃制品,便于观察。
38.多个门包括与第二平台3位置对应设置的第一门9和与第三平台5位置对应设置的第二门10,多个门可以在清洗机不使用时,处于全部关闭状态。当操作人员在清洗机上进行清洗操作时,第一清洗区对应的门全部打开;第二清洗区对应的门可以视情况开启或关闭,如可以先全部关闭,当操作人员需要将待清洗部件放置于第二平台3上时,可以开启第一门9,操作人员需要将清洗完后部件从第三平台5上取出时,开启第二门10。
39.上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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