一种单晶硅片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及硅片制作领域，尤其涉及一种单晶硅片清洗装置。


背景技术：

2.单晶硅片的加工主要包括切断、外径滚圆、切片、倒角、研磨、腐蚀、清洗等步骤，切片后，硅片表面有机械损伤层，近表面晶体的晶格不完整，而且硅片表面有金属粒子等杂质污染。因此，一般切片后，在制备太阳能电池前，需要对硅片进行化学腐蚀。在单晶硅片加工过程中很多步骤需要用到清洗，这里的清洗主要是指腐蚀后的最终清洗。清洗的目的在于清除晶片表面所有的污染源。污染源可以分为三类:一类是分子杂质，包括加工中的一些有机物质；第二类是离子杂质，包括钠离子、氯离子、氟离子等。在腐蚀过程中；它是一种三原子杂质，如一些重金属杂质，如金、铁、铜和铬。
3.现有的清洗装置大多通过夹具将单晶硅片夹持后，先用脱胶剂将单晶硅片进行喷洗，再进行物理清洁，但此类清洗装置中单晶硅片夹持部位无法清理，需要手动转换位置再进行清理，操作较麻烦且工作效率较低；同时此类清洗装置的长度较长，占地面积较广。


技术实现要素：

4.本说明书一个或多个实施例提供了一种单晶硅片清洗装置，用于解决上述技术问题。
5.本实用新型采用下述技术方案：
6.本实用新型提供一种单晶硅片清洗装置，包括：箱体、放料舱门、交互面板、电源接口、脱胶液供应口、清水供应口、排风孔、乘料滚筒、第一转动轴、第二转动轴、乘料夹盘、清洗舱体、废液池、驱动装置；所述箱体表面连接有放料舱门，所述交互面板设置于所述箱体表面且位于所述放料舱门一侧，所述箱体表面一侧设置有所述电源接口、所述脱胶液供应口、所述清水供应口，所述箱体底部设置有空气加热装置，所述箱体顶部设置有排风孔；所述箱体内表面设置有所述驱动装置，所述驱动装置与所述第一转动轴可拆卸连接，所述第一转动轴穿过所述清洗舱体，并通过连接杆与所述乘料滚筒相连，所述乘料滚筒为同心圆环状，且所述乘料滚筒表面开有小孔；所述第二转动轴与所述驱动装置可拆卸连接，所述第二转动轴与所述乘料夹盘相连，所述乘料夹盘为长方体结构，且所述乘料夹盘上开有小孔，所述清洗舱体为半开式立方体结构，所述清洗舱体上方连接有液体管道，所述液体管道另一侧与所述脱胶液供应口、所述清水供应口相连，所述清洗舱体下表面通过排液管连接有废液池，所述废液池底部设置有排水孔。
7.在一个示例中，所述清洗舱体表面设置有超声波发生器以及紫外线灯。
8.在一个示例中，所述交互面板内设置有单片机，所述单片机与所述放料舱门、所述排风孔、所述驱动装置、所述空气加热装置相连。
9.在一个示例中，所述箱体底座设置有万向轮。
10.在一个示例中，所述乘料滚筒以及所述乘料夹盘内壁设置有缓冲材料。
11.在一个示例中，所述清水供应口与所述液体管道之间设置有水泵。
12.综上所述，本实用通过设置有乘料滚筒以及乘料夹盘，分别固定不同大小的单晶硅片，并通过第一转动轴以及第二转动轴，使得乘料滚筒以及乘料夹盘在清洗舱体中，与脱胶液之间的相对接触更多，从而提升清洗效率。同时，通过设置清洗舱体，增加了脱胶液的使用效率。
附图说明
13.图1为本实用新型中一种单晶硅片清洗装置的结构示意图；
14.图2为本实用新型中一种单晶硅片清洗装置的箱体剖面图。
15.附图标记：1、箱体；101、第一转动轴；102、第二转动轴；103、乘料滚筒；104、乘料夹盘；105、清洗舱体；106、废液池；107、空气加热装置；108、液体管道；2、放料舱门；3、交互面板；4、电源接口；5、脱胶液供应口；6、清水供应口；7、排风孔。
具体实施方式
16.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
17.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
18.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型发中的具体含义。
19.本说明书实施例提供一种单晶硅片清洗装置，如图1及图2所示，装置包括：
20.箱体1、放料舱门2、交互面板3、电源接口4、脱胶液供应口5、清水供应口6、排风孔7、乘料滚筒103、第一转动轴101、第二转动轴102、乘料夹盘104、清洗舱体105、废液池106、驱动装置(图中未示出)。
21.箱体1表面连接有放料舱门2，交互面板3设置于箱体1表面且位于放料舱门2一侧，箱体1表面一侧设置有电源接口4、脱胶液供应口5、清水供应口6，箱体1底部设置有空气加热装置107，箱体1顶部设置有排风孔7。
22.箱体1内表面设置有驱动装置，驱动装置与第一转动轴101以及第二转动轴102可拆卸连接，第一转动轴101穿过清洗舱体105，并通过连接杆与乘料滚筒103相连，乘料滚筒103为同心圆环状，且乘料滚筒103表面开有小孔；第二转动轴102与乘料夹盘104相连，乘料夹盘104为长方体结构，且乘料夹盘104上开有小孔。第一转动轴与第二转动轴用于带动乘
料滚筒以及乘料夹盘进行转动，具体实现方式可以是驱动装置上安装有主动齿轮，第一转动轴以及第二转动轴上安装有从动齿轮，从而通过驱动装置带动第一转动轴以及第二转动轴进行转动，从而带动乘料滚筒以及乘料夹盘在清洗舱体内转动。清洗舱体105为半开式立方体结构，清洗舱体105上方连接有液体管道108，液体管道108另一侧与脱胶液供应口5、清水供应口6相连，清洗舱体105下表面通过排液管(图中未示出)连接有废液池106，废液池106底部设置有排水孔。
23.在一个实施例中，清洗舱体105表面设置有超声波发生器以及紫外线灯。
24.在一个实施例中，交互面板3内设置有单片机，单片机与所述放料舱门2、排风孔7、驱动装置、空气加热装置107相连，用于控制放料舱门2、排风孔7、驱动装置、空气加热装置107的开闭，工作人员也可以通过交互面板设置相关参数，以将清洗装置设置为自动清洗。
25.在一个实施例中，箱体1底座设置有万向轮。
26.在一个实施例中，乘料滚筒103以及乘料夹盘104内壁设置有缓冲材料，以防止乘料滚筒103以及乘料夹盘104内的单晶硅片受损。
27.在一个实施例中，所述清水供应口6与所述液体管道108之间设置有水泵。
28.在实际工作过程中，工作人员根据单晶硅片的大小，将较大的单晶硅片通过放料舱门2放入乘料夹盘104中，将较小的单晶硅片放入乘料滚筒103中，然后关闭放料舱门2，并通过驱动装置带动第一转动轴101以及第二转动轴102的转动，从而带动乘料夹盘104以及乘料滚筒103进行转动，从而增大单晶硅片与脱胶液的接触面积，从而提升清洗效率。
29.本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。