1.本实用新型涉及晶圆技术领域,具体为一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备。
背景技术:2.晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主,晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点,其中,晶圆在生产的过程中需要对其表面及切割面进行清洁。
3.目前,市面上大多数对晶圆的清洗设备效率都比较低,并且清洗完成后,还需对晶圆表面残留的清洗液进行干燥,耗时耗力,增加一定晶圆加工的生产成本,给人们晶圆的生产带来一定的困扰。
技术实现要素:4.针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备,具备清洗效率高等优点,解决了一般晶圆清洗高效的湿法清洗设备清洗效率较低的问题。
5.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备,包括加工台,所述加工台的底端固定连接有支撑腿,所述加工台的顶端固定连接有限位罩,所述加工台的底端固定连接有防护箱,所述防护箱的内底壁固定连接有电机,所述电机的输出端通过联轴器固定连接有旋转轴,所述旋转轴的外壁固定连接有轴承,所述旋转轴的顶端固定连接有放置块,所述放置块的顶端开设有放置槽,所述放置块的内部开设有漏水孔,所述限位罩的内顶壁固定连接有储液箱,所述储液箱的顶端固定连接有进液管,所述储液箱的内底壁固定连接有保护箱,所述保护箱的内部固定连接有水泵,所述水泵的正面固定连接有导液管,所述水泵的正面固定连接有排液管,所述排液管的底端固定连接有喷头。
6.所述加工台的内部开设有引流孔,所述加工台的底端活动连接有密封圈,所述密封圈的底端固定连接有储水箱,所述支撑腿的一侧固定连接有第一活动座,所述第一活动座的内部活动连接有支撑板,所述支撑板的顶端固定连接有第二活动座,所述第二活动座的内部活动连接有连接杆,所述连接杆的外壁设置有外螺纹,所述连接杆的顶端活动连接有固定罩,所述固定罩的内壁设置有内螺纹。
7.进一步,所述旋转轴贯穿防护箱的内部并延伸至放置块的底端,且旋转轴与防护箱活动连接。
8.进一步,所述加工台的内部开设有轴承槽,且轴承槽的形状大小与轴承的形状大小均相互匹配。
9.进一步,所述排液管贯穿保护箱的内部并延伸至储液箱的底端,且排液管与储液箱固定连接。
10.进一步,所述引流孔的数量为若干个,且若干个引流孔等距离开设在加工台的内部。
11.进一步,所述支撑板的数量为两个,且两个支撑板以储水箱的中垂线为对称轴对称设置。
12.进一步,所述连接杆贯穿加工台的内部并延伸至加工台的顶端,且连接杆与加工台活动连接。
13.与现有技术相比,本技术的技术方案具备以下有益效果:
14.1、该晶圆清洗高效的湿法清洗设备,通过设置有电机、旋转轴、放置块、放置槽、漏水孔、储液箱、水泵和喷头,以实现该清洗设备具有更高清洗效率的目的,将晶圆放置在放置块顶端的放置槽内部,启动水泵,将储液箱内部的清洗液通过导液管进入水泵内部,再通过排液管将清洗液从喷头处喷洒在晶圆表面进行清洗,启动电机,带动旋转轴的旋转,从而带动放置块和晶圆的旋转,继而通过晶圆转动提供去除残留的离心力,在离心离德作用下清洗液携带残留一起从晶圆的表面甩出,省时省力,并且在后续晶圆干燥之后,不会再晶圆表面留下液痕或颗粒,从而使人们使用起来更加的便捷。
15.2、该晶圆清洗高效的湿法清洗设备,通过设置有储水箱、第一活动座、支撑板、第二活动座、连接杆、外螺纹、固定罩和内螺纹,以实现该清洗设备具有更好集料效果的目的,晶圆清洗时甩出的清洗液通过引流孔流入储水箱内部,定期反向转动固定罩,将固定罩内壁的内螺纹与连接杆外壁的外螺纹反向啮合,从而将固定罩与连接杆脱离,继而通过第二活动座,将连接杆与加工台脱离,再从支撑板内部取出储水箱,对内部的清洗液集中处理,减少工作人员的工作量,便于后续对清洗液的处理,从而使人们使用起来更加的省心。
附图说明
16.图1为本实用新型结构示意图;
17.图2为本实用新型正视结构示意图;
18.图3为本实用新型放置块与漏水孔之间连接结构立体图;
19.图4为本实用新型图1中a处放大结构示意图;
20.图5为本实用新型图1中b处放大结构示意图。
21.图中:1、加工台;2、支撑腿;3、限位罩;4、防护箱;5、电机;6、旋转轴;7、轴承;8、放置块;9、放置槽;10、漏水孔;11、储液箱;12、进液管;13、保护箱;14、水泵;15、导液管;16、排液管;17、喷头;18、引流孔;19、密封圈;20、储水箱;21、第一活动座;22、支撑板;23、第二活动座;24、连接杆;25、外螺纹;26、固定罩;27、内螺纹。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
23.请参阅图1-5,本实施例中的一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备,包括加工台1,加工台1的底端固定连接有支撑腿2,加工台1的顶端固定连接有限位罩3,加工台1的底端固定连接有防护箱4,防护箱4的内底壁固定连接有电机5,电机5的输出端通过联轴器固定连接有旋转轴6,旋转轴6的外壁固定连接有轴承7,旋转轴6的顶端固定连接有放置块8,放置块8的顶端开设有放置槽9,放置块8的内部开设有漏水孔10,限位罩3的内顶壁固定连接有储液箱11,储液箱11的顶端固定连接有进液管12,储液箱11的内底壁固定连接有保护箱13,保护箱13的内部固定连接有水泵14,水泵14的正面固定连接有导液管15,水泵14的正面固定连接有排液管16,排液管16的底端固定连接有喷头17。
24.加工台1的内部开设有引流孔18,加工台1的底端活动连接有密封圈19,密封圈19的底端固定连接有储水箱20,支撑腿2的一侧固定连接有第一活动座21,第一活动座21的内部活动连接有支撑板22,支撑板22的顶端固定连接有第二活动座23,第二活动座23的内部活动连接有连接杆24,连接杆24的外壁设置有外螺纹25,连接杆24的顶端活动连接有固定罩26,固定罩26的内壁设置有内螺纹27。
25.请参阅图1,本实施例中的,旋转轴6贯穿防护箱4的内部并延伸至放置块8的底端,且旋转轴6与防护箱4活动连接。
26.需要说明的是,便于带动放置块8内部的晶圆旋转。
27.请参阅图1,本实施例中的,加工台1的内部开设有轴承槽,且轴承槽的形状大小与轴承7的形状大小均相互匹配。
28.需要说明的是,提高旋转轴6转动的顺畅性。
29.请参阅图1,本实施例中的,排液管16贯穿保护箱13的内部并延伸至储液箱11的底端,且排液管16与储液箱11固定连接。
30.需要说明的是,便于将储液箱11内部的清洗液导出。
31.请参阅图1,本实施例中的,引流孔18的数量为若干个,且若干个引流孔18等距离开设在加工台1的内部。
32.需要说明的是,便于将加工台1上的清洗液导入储水箱20。
33.请参阅图1-2,本实施例中的,支撑板22的数量为两个,且两个支撑板22以储水箱20的中垂线为对称轴对称设置。
34.需要说明的是,提高储水箱20的稳定性。
35.请参阅图1-2,本实施例中的,连接杆24贯穿加工台1的内部并延伸至加工台1的顶端,且连接杆24与加工台1活动连接。
36.需要说明的是,便于对储水箱20的拆卸。
37.可以理解的是,该晶圆清洗高效的湿法清洗设备,将晶圆放置在放置块8顶端的放置槽9内部,启动水泵14,将储液箱11内部的清洗液通过导液管15进入水泵14内部,再通过排液管16将清洗液从喷头17处喷洒在晶圆表面进行清洗,启动电机5,带动旋转轴6的旋转,从而带动放置块8和晶圆的旋转,继而通过晶圆转动提供去除残留的离心力,在离心离德作用下清洗液携带残留一起从晶圆的表面甩出,省时省力,并且在后续晶圆干燥之后,不会再晶圆表面留下液痕或颗粒,从而使人们使用起来更加的便捷。
38.上述实施例的工作原理为:
39.工作时,将晶圆放置在放置块8顶端的放置槽9内部,启动水泵14,将储液箱11内部
的清洗液通过导液管15进入水泵14内部,再通过排液管16将清洗液从喷头17处喷洒在晶圆表面进行清洗,启动电机5,带动旋转轴6的旋转,从而带动放置块8和晶圆的旋转,继而通过晶圆转动提供去除残留的离心力,在离心离德作用下清洗液携带残留一起从晶圆的表面甩出,继而通过放置块8内部的漏水孔10排出放置块8,落在加工台1上的清洗液通过引流孔18流入储水箱20内部,定期反向转动固定罩26,将固定罩26内壁的内螺纹27与连接杆24外壁的外螺纹25反向啮合,从而将固定罩26与连接杆24脱离,继而通过第二活动座23,将连接杆24与加工台1脱离,再从支撑板22内部取出储水箱20,对内部的清洗液集中处理,从而工作完成。
40.需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个
……”
限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
41.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。