1.本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种硅片生产加工清洗装置。
背景技术：
2.半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷。
3.专利申请cn110773505a，公开日为20200211，公开了一种硅片清洗装置及方法，涉及半导体硅片领域。该装置包括：清洗槽，用于盛放清洗待清洗硅片的清洗液；设置在清洗槽内部的多条清洗线，每相邻两条清洗线之间间隔一定距离，每一清洗线的两端均分别与清洗槽的内部侧壁或设置在内部侧壁上的装置连接；夹持结构，设置于清洗槽的开口的上方，用于固定多个待清洗硅片，并带动硅片沿竖直方向运动，多个硅片因晶棒被切割而形成，多个硅片之间的间隙与多条清洗线相对应。上述专利的实施例有效解决了现有技术无法有效清洗相邻硅片的相对表面，清洗质量低的问题。上述专利虽然能够对硅片进行清洗，但是只能够对硅片进行一次的清洗，清洗效果较差。
4.针对上述专利只能对硅片进行一次清洗，清洗效果较差的问题，故现在迫切需要一种能够对硅片进行多次清洗的硅片生产加工清洗装置，用来解决上述问题。
技术实现要素：
5.为了克服现有的硅片清洗装置一般只能对硅片进行一次清洗，清洗效果较差的缺点，本实用新型的目的是提供一种能够对硅片进行多次清洗的硅片生产加工清洗装置。
6.本实用新型通过以下技术途径实现：
7.一种硅片生产加工清洗装置，包括有底座、清洗池、装料箱、导向架、电机、丝杆、第一电动推杆、移动架、第二电动推杆、固定块、放置架和排水阀，底座顶部右侧连接有用于放置超纯水的清洗池，清洗池上连接有两个用于放置酸性清洗液和碱性清洗液的装料箱，底座顶部左侧也连接有装料箱，底座的一侧放置有导向架，导向架右侧连接有电机，导向架上部转动式设置有丝杆，丝杆右端与电机的输出轴连接，丝杆的一侧螺纹式设置有第一电动推杆，第一电动推杆的伸缩杆顶部连接有移动架，移动架下部前后两侧均连接有第二电动推杆，两个第二电动推杆的伸缩杆内侧均连接有固定块，两个固定块内侧之间放置有用于放置硅片的放置架，放置架位于左侧的装料箱内，清洗池装料箱底部均连接有排水阀并连通。
8.进一步地，还包括有固定架、暖风机、滑轨、滑板、第三电动推杆和推板，右侧的清洗池上远离第一电动推杆的一侧连接有固定架，固定架内部左侧连接有用于对清洗好的硅片进行烘干的暖风机，固定架内底部前后两侧均连接有滑轨，两个滑轨上部之间滑动式设置有滑板，滑板位于暖风机的上方，右侧的清洗池右侧连接有第三电动推杆，第三电动推杆位于滑板的下方，第三电动推杆的伸缩杆右侧连接有推板，推板上部与滑板连接。
9.进一步地，还包括有挡板，固定架上部滑动式设置有用于挡住滑板上方的挡板。
10.进一步地，滑板顶部均匀间隔开有圆孔。
11.进一步地，还包括有高压喷头，右侧的清洗池左侧下部连接有用于对清洗池进行清洗的高压喷头并连通。
12.进一步地，放置架的材质为铁。
13.本实用新型对比现有技术来讲，具备以下优点：
14.1、本实用新型通过第一电动推杆作为驱动力，能够驱动硅片往下运动依次进入酸性清洗液、超纯水和碱性清洗液内进行清洗，从而能够通过酸性清洗液、碱性清洗液和超纯水对硅片进行多次浸泡清洗，清洗效果较好。
15.2、本实用新型通过启动暖风机，暖风机能够往上吹热风，从而能够对清洗好的硅片进行烘干。
16.3、本实用新型通过将挡板往左推动关闭，使得挡板挡住固定架上部，挡板能够挡住热风，从而能够避免热量散发太快，进而能够更好的对清洗好的硅片进行烘干。
附图说明
17.图1为本实用新型的立体结构示意图。
18.图2为本实用新型丝杆、移动架和放置架等零件的立体结构示意图。
19.图3为本实用新型移动架、放置架和固定块等零件的立体结构示意图。
20.图4为本实用新型固定架、暖风机和滑板等零件的立体结构示意图。
21.图5为本实用新型滑轨、滑板和推板等零件的立体结构示意图。
22.附图标号：1_底座，101_清洗池，2_装料箱，3_导向架，301_电机，4_丝杆，5_第一电动推杆，6_移动架，7_第二电动推杆，8_固定块，9_放置架，10_固定架，11_暖风机，12_滑轨，13_滑板，14_第三电动推杆，15_推板，16_挡板，17_排水阀，18_高压喷头。
具体实施方式
23.以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述，但不作为对本实用新型的限定。
24.实施例1
25.一种硅片生产加工清洗装置，参阅图1、图2、图3和图5所示，包括有底座1、清洗池101、装料箱2、导向架3、电机301、丝杆4、第一电动推杆5、移动架6、第二电动推杆7、固定块8、放置架9和排水阀17，底座1顶部右侧连接有清洗池101，人们可以将适量的超纯水倒入清洗池101内，清洗池101上连接有两个装料箱2，底座1顶部左侧也焊接有装料箱2，人们可以将适量的酸性清洗液倒入左右两侧的装料箱2内，底座1后方放置有导向架3，导向架3右侧栓接有电机301，导向架3上部转动式设置有丝杆4，丝杆4右端与电机301的输出轴连接，丝杆4左部螺纹式设置有第一电动推杆5，第一电动推杆5的伸缩杆缩短能够带动硅片往下运动，使得硅片进入左侧的装料箱2内部与酸性清洗液充分接触，从而能够通过酸性清洗液进行清洗，第一电动推杆5的伸缩杆顶部连接有移动架6，移动架6下部前后两侧均连接有第二电动推杆7，两个第二电动推杆7的伸缩杆内侧均连接有固定块8，两个固定块8内侧之间放置有放置架9，放置架9的材质为铁，人们可以将硅片依次放在放置架9上，放置架9位于左侧
的装料箱2内，清洗池101装料箱2底部均连接有排水阀17并连通。
26.当需要使用该装置时，人们先将该装置放置在指定位置，然后将适量的酸性清洗液倒入左右两侧的装料箱2内，再将适量的碱性清洗液倒入中间的装料箱2内，然后将适量的超纯水倒入清洗池101内，再将硅片依次放置在放置架9上，然后启动第一电动推杆5，控制第一电动推杆5的伸缩杆缩短，带动移动架6往下运动，移动架6往下运动带动固定块8、放置架9和硅片往下运动，使得放置架9和硅片进入左侧的装料箱2内部与酸性清洗液充分接触，然后控制第一电动推杆5的伸缩杆停止运动，从而能够通过酸性清洗液对硅片进行浸泡清洗，清洗完成后，控制第一电动推杆5的伸缩杆伸长，带动移动架6往上运动，移动架6往上运动带动固定块8、放置架9和硅片往上运动复位，使得放置架9和硅片与酸性清洗液分离，然后控制第一电动推杆5的伸缩杆停止运动，再启动电机301，控制电机301的输出轴正转，带动丝杆4正转，丝杆4正转带动第一电动推杆5往右运动，第一电动推杆5往右运动带动移动架6、放置架9和硅片往右运动，当放置架9和硅片运动至清洗池101正上方时，关闭电机301，再控制第一电动推杆5的伸缩杆缩短，带动移动架6往下运动，移动架6往下运动带动固定块8、放置架9和硅片往下运动，使得放置架9和硅片进入清洗池101内部与超纯水充分接触，然后控制第一电动推杆5的伸缩杆停止运动，从而能够通过超纯水再次对硅片进行清洗，清洗完成后，重复上述操作，能够使得硅片依次与碱性清洗液、超纯水、酸性清洗液和超纯水接触，从而完成对硅片的六次清洗，然后关闭第一电动推杆5，再将清洗好的硅片依次取走，然后启动电机301，控制电机301的输出轴反转，带动丝杆4反转，丝杆4反转带动第一电动推杆5往左运动，第一电动推杆5往左运动带动移动架6和放置架9往左运动复位，然后人们关闭电机301，再打开排水阀17，使得清洗池101内和装料箱2内的酸性清洗液、碱性清洗液和超纯水能够通过排水阀17往下排出，全部排出后，关闭排水阀17即可。
27.实施例2
28.在实施例1的基础之上，参阅图4和图5所示，还包括有固定架10、暖风机11、滑轨12、滑板13、第三电动推杆14和推板15，右侧的清洗池101右侧连接有固定架10，固定架10内部左侧焊接有暖风机11，启动暖风机11，暖风机11能够往上吹热风，从而能够对清洗好的硅片进行烘干，固定架10内底部前后两侧均焊接有滑轨12，两个滑轨12上部之间滑动式设置有滑板13，滑板13位于暖风机11的上方，滑板13顶部均匀间隔开有圆孔，右侧的清洗池101右侧栓接有第三电动推杆14，第三电动推杆14位于滑板13的下方，第三电动推杆14的伸缩杆右侧连接有推板15，推板15上部与滑板13连接。
29.当硅片经过六次清洗后，人们通过第一电动推杆5能够将放置架9放置在滑板13顶部，然后启动第二电动推杆7，控制第二电动推杆7的伸缩杆缩短，带动固定块8往外侧运动，使得固定块8松开放置架9，然后控制第二电动推杆7的伸缩杆停止运动，此时，人们启动暖风机11，暖风机11能够往上吹热风，从而能够对清洗好的硅片进行烘干，烘干完成后，人们关闭暖风机11，再启动第三电动推杆14，控制第三电动推杆14的伸缩杆伸长，带动推板15往右运动，推板15往右运动带动滑板13、放置架9和硅片往右运动，滑轨12起导向作用，然后人们可以将放置架9取走，再控制第三电动推杆14的伸缩杆缩短，带动推板15和滑板13往左运动复位，然后关闭第三电动推杆14，再将烘干好的硅片取走，然后将放置架9放置在两个固定块8之间，控制第二电动推杆7的伸缩杆伸长，带动固定块8往内侧运动，从而能够通过固定块8将放置架9夹紧固定，然后关闭第二电动推杆7即可。
30.参阅图5所示，还包括有挡板16，固定架10上部滑动式设置有挡板16，挡板16往左推动关闭能够挡住固定架10上部，从而能够避免热量散发太快，进而能够更好的对清洗好的硅片进行烘干。
31.当需要对清洗好的硅片进行烘干时，首先将挡板16往右拉动打开，使得挡板16不再挡住滑板13的上方，然后通过第一电动推杆5能够将放置架9放置在滑板13顶部，再将挡板16往左推动关闭，使得挡板16挡住固定架10上部，然后启动暖风机11，暖风机11能够往上吹热风，从而能够对清洗好的硅片进行烘干，挡板16能够挡住热风，从而能够避免热量散发太快，进而能够更好的对清洗好的硅片进行烘干，烘干完成后，关闭暖风机11，再将烘干好的硅片取走即可。
32.参阅图2所示，还包括有高压喷头18，右侧的清洗池101左侧下部焊接有高压喷头18并连通，高压喷头18能够将水喷入清洗池101内部，从而对清洗池101进行清洗。
33.当需要对清洗池101内部进行清洗时，人们可以在高压喷头18上外接水管，然后启动高压喷头18，高压喷头18能够将水喷入清洗池101内部，从而对清洗池101进行清洗，清洗完成后，人们关闭高压喷头18，再将外接水管拔出。
34.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。