一种自清理循环水处理设备的制作方法

1.本技术实施例涉及工业生产领域，特别涉及一种用于可以自清洗的循环水处理设备。


背景技术：

2.循环水处理设备是一套对循环水进行降温和水质处理的系统设备，包括原水供压部分，原水处理部分，精密过滤部分以及储水部分等部件组成。
3.在相关技术中，由于循环水处理设备需要大量水循环，在水体质量较差或不达标的情况下，电极板上会产生大量污垢、细菌及水垢，若不及时清理会影响水循环效率。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供了一种自清理循环水处理设备，包括反应罐体(10)、消毒罐体(20)、冷却罐体(30)和过滤池(40)，各罐体之间通过连接管连接；
5.所述反应罐体(10)的侧壁底部设置有进水口，侧壁顶部设置有出水口，所述出水口通过所述连接管连接所述消毒罐体(20)，所述消毒罐体(20)连接所述冷却罐体(30)；
6.所述反应罐体(10)内设置有多层电极板(13)，所述电极板(13)上设置有除垢铲(14)，用于清理所述电极板(13)上的附着的污垢；所述反应罐体(10)顶部设置有喷淋头(15)，用于对所述电极板(13)清洗；
7.所述反应罐体(10)的底部连接有所述过滤池(40)，用于将所述喷淋头(15)清洗的污水进行过滤。
8.具体的，所述反应罐体(10)分为控制区(11)和反应区(12)，且所述控制区(11)和罐底呈倾斜面，所述控制区(11)内部放置有控制装置和硬件模组；
9.所述进水口的下方设置有排污口，且所述排污口位于所述倾斜面最底部。
10.具体的，所述电极板(13)包括阴极板和阳极板，且所述阴极板和所述阳极板交替层叠设置，所述阴极板和阳极板上开设有通孔阵列(131)；所述喷淋头(15)清洗的水流通过所述通孔阵列(131)流向罐体的所述倾斜面上。
11.具体的，所述除垢铲(14)设置于所述阴极板和/或所述阳极板上，且所述除垢铲(14)包括上铲块(141)、下铲块(142)和连接体(143)，所述上铲块(141)和所述下铲块(142)之间开设有槽道(144)，所述电极板(13)位于所述槽道(144)内。
12.具体的，所述连接体(143)的侧边设置有伸缩杆(145)，所述伸缩杆(145)用于控制所述除垢铲(14)往复运动；所述伸缩杆(145)和所述反应罐体(10)外部的控制箱(16)电性连接，用于控制所述伸缩杆(145)的运动状态。
13.具体的，所述过滤池(40)内设置有过滤网(41)或渗透膜，用于对排污口流出的污水进行过滤。
14.本使实用新型带来的有益效果至少包括：通过在电极板上安装除垢铲，通过电力驱动除垢铲的往复运动，能够及时将置换反应吸附在极板上的杂质铲除，同时配合罐顶的
喷淋头将杂质冲洗到罐底，并通过过滤池进行过滤。相较于传统的人工清洗的方式，自清洗可以节约人工成本和清洗时间，还能够提高循环水处理效率，延长设备使用寿命。
附图说明
15.图1是本技术实施例提供的自清理循环水处理设备的结构示意图；
16.图2是本技术实施例提供的除垢铲和电极板的结构示意图；
17.图3是本技术实施例提供的除垢铲的结构示意图。
18.附图标记分别表示：10-反应罐体，11-控制区，12-反应区，13-电极板，131-通孔阵列，14-除垢铲，141-上铲块，142-下铲块，143-连接体，144-槽道，145-伸缩杆，15-喷淋头，16-控制箱，20-消毒罐体，30-冷却罐体，40-过滤池，41-过滤网。
具体实施方式
19.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
20.在本文中提及的“多个”是指两个或两个以上。“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
21.图1是本技术实施例提供的自清理循环水处理设备的结构示意图。该设备包括反应罐体(10)、消毒罐体(20)、冷却罐体(30)和过滤池(40)，各罐体之间通过连接管连接。
22.反应罐体(10)是发生反应和水处理的主要罐体，消毒罐体(20)用于将初步处理的水体进行杀菌消毒，避免细菌滋生。经过高温消毒后的水体需要进一步冷却循环使用，所以需要使用冷却罐体(30)或冷却塔进行降温。在进行水处理过程中，在反应罐体(10)内部设置有电极板(13)(包括阴极板和阳极板)，本方案中的阴极板和阳极板采用交替层叠设置，目的为方便的水体充分反应净化。反应罐体(10)侧壁的下方为进水口，顶部为出水口，通入反应罐的水体需要经过电极板(13)参与反应。电极板(13)的阳极和阴极均采用钛合金材质制作，阳极镀惰性金属，目的为进行置换反应，在阴极吸附杂质。但当阴极杂质吸附过多时就需要及时清理，否则会影响置换反应的效率。
23.如图2和图3所示，本方案在阴极板和/或阳极板上设置除垢铲(14)。除垢铲(14)分为上下两部分，上铲块(141)和下铲块(142)之间开设出槽道(144)。电极板(13)插入到槽道(144)内，且上铲块(141)和下铲块(142)侧边为连接体(143)，连接体(143)可以保持嵌套在电极板(13)上不会滑动脱离(槽道(144)高度略大于电极板(13)厚度)。上铲块(141)和下铲块(142)为对称结构，铲面与电极板(13)面接触，用于铲除极板上吸附的杂质。在连接体(143)上还安装有伸缩杆(145)，伸缩杆(145)由驱动电机控制整个除垢铲(14)前后往复运动。此外，对于铲除的杂质污泥等，需要及时将其处理掉。因此本方案在反应罐的罐顶安装有喷淋头(15)，喷淋头(15)外接水管，在需要进行清洗的时候，开启喷淋，但考虑到能冲洗所有电极板(13)，所以本方案在电极板(13)上开设通孔阵列(131)，通孔阵列(131)能够确保喷淋的水体能够覆盖到各层电极板(13)。本方案中杂质吸附在阴极板上，因而在阴极板上设置除垢铲(14)，各个除垢铲(14)组成的阵列由罐底的动力装置驱动。在其他实施例中，可以将除垢铲(14)设置在阳极板或所有极板上都安装除垢铲(14)，提高除垢效果。在反应
罐体(10)的外壁上还设有控制箱(16)，控制箱(16)用于控制电机带动除垢铲(14)往复运动铲除污垢。
24.被铲除的杂质污泥等被水流冲刷流入罐底，为了能够确保杂质能够彻底冲刷，且节约水资源。本方案将反应罐体(10)分成反应区(12)和控制区(11)，二者交界面设置为倾斜面。各层电极板(13)设置在反应区(12)，而下部的控制区(11)是用于放置电力和动力设施，如控制装置和硬件模组。杂质被冲刷后透过阵列通孔流到倾斜面上，进而落到底部。在进水口的下方，也即反应区(12)的最底部设置有排污口，杂质污水通过排污口流到过滤池(40)中。过滤池(40)内安装有过滤网(41)或渗透膜，目的是为了滤除杂质，得到赶紧的水体，实现水体的循环利用，同时还能够对金属杂质二次回收，提高资源利用率。
25.综上所述，本技术提供的自清理循环水处理设备在实现水处理的基础上，在电机板上安装了除垢铲，除垢铲采用开槽设计，配合电机和伸缩杆的往复运动，确保电极板的上下面吸附的杂质能够及时被铲除。在电极板上开设的通孔阵列，不仅可以增大反应面积，充分进行水处理，提高反应效率，而且还可以确保各层电极板上铲除的杂质都能被喷淋冲洗，将杂质冲刷到罐底。而罐体分为反应区和控制区，将原本裸露的硬件和控制零部件整合到罐体内部，同时设置的倾斜面可以将杂质汇聚到斜面最下方，通过排污口排出，无需对罐底二次冲洗，节约水资源。流出到过滤池的混合杂质通过过滤网可以将金属杂质和水体分离，实现水循环的前提下，还可以对金属杂质二次回收，提高资源利用率。
26.以上对本实用新型的较佳实施例进行了描述；需要理解的是，本实用新型并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本实用新型的实质内容；因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。