一种薄片化硅片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及硅片清洗技术领域，尤其涉及一种薄片化硅片清洗装置。


背景技术：

2.薄片化硅片是制作集成电路的重要材料，在生产过程中需要经过表面整形、定向、切割、研磨、腐蚀、抛光、清洗等工序，硅片清洗机是薄硅片清洗工序中需要频繁使用的仪器，而硅片清洗装置是硅片清洗机中的重要组成结构。
3.在薄片化硅片清洗的过程中，由于清洗的工序较多，会将薄片化硅片放置在不同区域的条状清洗槽内清洗，不便于薄片化硅片加工的使用。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种薄片化硅片清洗装置。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种薄片化硅片清洗装置，包括底座，底座的上表面固定连接有顶罩，所述底座的上表面固定连接有多个气缸，多个气缸的输出端固定连接有同一个垫板，且垫板的上表面放置有超声波清洗槽、超声碱洗槽、超声漂洗槽、双氧水槽、纯水超声溢流漂洗槽、慢提拉脱水槽、热风烘干槽和冷风槽，且超声碱洗槽有三个，纯水超声溢流漂洗槽有四个，热风烘干槽有两个，且超声波清洗槽、超声碱洗槽、超声漂洗槽、双氧水槽、纯水超声溢流漂洗槽、慢提拉脱水槽、热风烘干槽和冷风槽之间呈点状分布，所述顶罩的一侧外壁设置有多个安装口，安装口内设置有透明观察窗。
7.进一步的，所述顶罩的两侧分别固定连接有侧板和密封帘，且密封帘与侧板相接触。
8.进一步的，所述顶罩的两侧内壁分别固定连接有固定板，且两个固定板的底部分别固定连接有支撑板。
9.进一步的，所述顶罩的顶部内壁转动连接有两个转动辊，且两个转动辊之间绕接有同一个皮带。
10.进一步的，所述顶罩的顶部内壁固定连接有电机，且电机的输出端与其中一个转动辊相固定连接。
11.进一步的，两个所述支撑板之间固定连接盛放机构，盛放机构包括滑动架、两个转动轮、导向板、多个连接柱和镂空板。
12.进一步的，所述滑动架位于两个支撑板，且两个转动轮与皮带和支撑板相接触。
13.进一步的，所述滑动架与导向板相连接，且多个连接柱固定连接在导向板与镂空板之间。
14.本实用新型的有益效果为：
15.1.通过超声波清洗槽、超声碱洗槽、超声漂洗槽、双氧水槽、纯水超声溢流漂洗槽、
慢提拉脱水槽、热风烘干槽和冷风槽之间呈点状分布的设计可以将薄片化硅片进行超声清洗、超声碱洗、双氧水清洗、慢提拉脱水等及烘干、冷却等工序，避免薄片化硅片在清洗过程中进行转运，减少了薄片化硅片的清洗时间，提升了薄片化硅片的加工效率，保障薄片化硅片的加工应用。
16.2.通过侧板和密封帘相结合的设置可以对薄片化硅片在清洗过程中对侧罩的两侧作密封，减少清洗环境下灰尘的进入，保证了薄片化硅片的清洗使用。
17.3.通过盛放机构上转动轮在支撑板上的设置可以对盛放机构及其上的薄片化硅片进行传送，且由皮带的作用下带动盛放机构及其上的薄片化硅片做自动化移动，便于薄片化硅片移动至不同槽体内进行加工，提升作业人员的操作体验。
附图说明
18.图1为本实用新型提出的一种薄片化硅片清洗装置的立体结构示意图；
19.图2为本实用新型提出的一种薄片化硅片清洗装置的内部立体结构示意图；
20.图3为本实用新型提出的一种薄片化硅片清洗装置的侧面打开结构示意图；
21.图4为本实用新型提出的一种薄片化硅片清洗装置的盛放机构结构示意图。
22.图中：1、底座；2、顶罩；3、气缸；4、垫板；5、超声波清洗槽；6、超声碱洗槽；7、超声漂洗槽；8、双氧水槽；9、纯水超声溢流漂洗槽；10、慢提拉脱水槽；11、热风烘干槽；12、冷风槽；13、透明观察窗；14、侧板；15、密封帘；16、固定板；17、支撑板；18、转动辊；19、皮带；20、滑动架；21、转动轮；22、导向板；23、连接柱；24、镂空板。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
24.参照图1-图4，一种薄片化硅片清洗装置，包括底座1，底座1 的上表面通过螺栓固定有顶罩2，其特征在于，底座1的上表面通过螺栓固定有多个气缸3，多个气缸3的输出端通过螺栓固定有同一个垫板4，且垫板4的上表面放置有超声波清洗槽5、超声碱洗槽6、超声漂洗槽7、双氧水槽8、纯水超声溢流漂洗槽9、慢提拉脱水槽 10、热风烘干槽11和冷风槽12，且超声碱洗槽6有三个，纯水超声溢流漂洗槽9有四个，热风烘干槽11有两个，且超声波清洗槽5、超声碱洗槽6、超声漂洗槽7、双氧水槽8、纯水超声溢流漂洗槽9、慢提拉脱水槽10、热风烘干槽11和冷风槽12之间呈点状分布，由于超声波清洗槽5、超声碱洗槽6、超声漂洗槽7、双氧水槽8、纯水超声溢流漂洗槽9、慢提拉脱水槽10、热风烘干槽11和冷风槽12之间呈点状分布的设计可以将薄片化硅片进行超声清洗、超声碱洗、双氧水清洗、慢提拉脱水等及烘干、冷却等工序，避免薄片化硅片在清洗过程中进行转运，减少了薄片化硅片的清洗时间，提升了薄片化硅片的加工效率，保障薄片化硅片的加工应用，顶罩2的一侧外壁设置有多个安装口，安装口内设置有透明观察窗13，由透明观察窗13以便于作业人员观察薄片化硅片的清洗作业。
25.顶罩2的两侧分别通过螺栓固定有侧板14和密封帘15，且密封帘15与侧板14相接触，由侧板14和密封帘15相结合的设置可以对薄片化硅片在清洗过程中对侧罩2的两侧作
密封，减少清洗环境下灰尘的进入，保证了薄片化硅片的清洗使用。
26.其中，顶罩2的两侧内壁分别通过螺栓固定有固定板16，且两个固定板16的底部分别通过螺栓固定有支撑板17，顶罩2的顶部内壁转动连接有两个转动辊18，且两个转动辊18之间绕接有同一个皮带19，顶罩2的顶部内壁通过螺栓固定有电机，且电机的输出端与其中一个转动辊18相固定连接，两个支撑板17之间滑动连接盛放机构，盛放机构包括滑动架20、两个转动轮21、导向板22、多个连接柱23和镂空板24，通过盛放机构上转动轮21在支撑板17上的设置可以对盛放机构及其上的薄片化硅片进行传送。
27.在本实用新型中，滑动架20位于两个支撑板17，且两个转动轮21与皮带19和支撑板17相接触，由皮带19的作用下带动盛放机构及其上的薄片化硅片做自动化移动，便于薄片化硅片移动至不同槽体内进行加工，提升作业人员的操作体验，滑动架20与导向板22相连接，且多个连接柱23通过螺栓固定在导向板22与镂空板24之间，由连接柱23和镂空板24的设置可以减少薄片化硅片在清洗过程中的遮挡，保证薄片化硅片的清洗效果。
28.本实施例的工作原理：使用时，作业人员首先从超声波清洗槽5 的方向打开密封帘15，然后将需要清洗的薄片化硅片放置在镂空板 24上，此时盛放机构位于超声波清洗槽5的上方，然后关闭密封帘 15，作业人员再分别控制多个气缸3同时启动，以此使得垫板4和其上的各类槽体向上滑动，当薄片化硅片位于超声波清洗槽5内时，停止运行气缸3，此时，由超声波清洗槽5对其中的薄片化硅片进行清洗，当清洗完毕后，作业人员再控制气缸3使得垫板4和其上的各类槽体向下滑动，直至与薄片化硅片相脱离，然后作业人员再拿取其他放置有未清洗薄片化硅片的盛放机构放置在两个支撑板17之间，再启动电机，继而使得皮带19在转动辊18转动下进行传送，由于转动轮21与皮带19相接触，在皮带19传送时会带动转动轮21滚动，继而使得盛放机构及其中的薄片化硅片向一侧输送，并与其它的各类槽体相接触，再重复以上工序，当薄片化硅片分别位于超声波清洗槽5、超声碱洗槽6、超声漂洗槽7、双氧水槽8、纯水超声溢流漂洗槽9、慢提拉脱水槽10、热风烘干槽11和冷风槽12中时进行超声清洗、超声碱洗、双氧水清洗、慢提拉脱水等及烘干、冷却等工序从侧罩2 的另外一侧传送出，随即完成薄片化硅片的清洗作业。
29.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。