一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统的制作方法

文档序号:33167808发布日期:2023-02-04 01:54阅读:74来源:国知局

1.本实用新型专利涉及污水处理技术领域,具体涉及到一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统。


背景技术:

2.焦化废水,是一种典型的有毒、有害、成分复杂、浓度高、难降解废水,除含有高浓度的氨、氯化物、氰化物、硫化物、氟化物和硝酸盐等无机污染物外,还含有酚类、吡啶、喹啉、多环芳烃等五百余种有机污染物。在焦化行业,随着国家节能环保政策的不断升级焦化废水的处理普遍要求实施干熄焦生产和废水零排放。因此,焦化废水的处理过程中首先要对焦化废水进行净化,最后是实现回用自用。
3.目前,焦化废水通常经预处理、生化处理和深度处理后清水进行回用。浓水由于盐分、有机物杂质被高度浓缩且污染物相当难降解,如果不经过妥善处理,必然会对土壤、地表水、周围环境等产生不利影响。工厂产生中产生的浓水往往通过熄焦处理,浓水中大量的污染物不仅会影响焦炭质量,而且对环境空气也会造成一定的污染,随着环保日益严苛,湿熄焦技术逐步被干熄焦取代,膜技术产生的少量浓水没有出路。
4.磁场作为一种场,几乎对一切处于磁场内部的物质都产生磁化作用,产生了附加磁场,附加磁场与原磁场的叠加,使得空间位置上的实际磁场发生了变化。磁化处理后水的物化性质,如折射率、电导率、介电常数、表面张力、离子水合作用、粘度以及红外吸光谱等会发生变化。
5.因此,提供一种流程短、成本低、占地面积小,处理效果好的焦化浓水零排放处理系统,就成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。将磁场与焦化浓水零排技术联用可有效针对焦化浓水的难降解特点,达到降低成本和膜污染的同时实现焦化浓水零排。


技术实现要素:

6.针对现有技术存在的不足,本实用新型专利的目的在于,提供了一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统,其流程短、成本低、占地面积小,处理效果好,能够实现焦化浓水零排放的基础上,减缓膜装置堵塞发生、降低预处理装置的药剂成本,提高回用水出水水质。
7.为实现上述目的,本实用新型专利采用如下的技术方案。
8.一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统,其特征在于:所述磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统包括由依次相连的沉淀池、臭氧催化氧化装置、臭氧催化氧化产水池、膜析装置和蒸发结晶装置组成。以便焦化浓水经沉淀池去除水中的硬度、氟化物和二氧化硅等污染物,沉淀池出水经臭氧催化氧化装置去除浓水中部分cod,减缓对后续的膜析装置造成污堵,臭氧催化氧化装置出水进入臭氧催化氧化产水池进行臭氧降解,臭氧催化氧化产水池出水进入膜析装置进行精过滤后,含有硫酸钠和氯化钠的浓盐水进入蒸发结晶装置至全部转化成固体盐。
9.所述沉淀池两侧固定永磁铁装置,减少了极性有机物活性位点与药剂分子的碰撞屏障,磁场作用下水中的悬浮物布朗运动加快增加了接触机率,提高了聚结速度,增加了混凝率,降低了污泥沉淀所消耗的药剂成本。
10.所述臭氧催化氧化装置两侧固定永磁铁装置,促进了臭氧在反应体系中稳定存在及在气液相间的传质,提高了臭氧的溶解率及反应体系中羟基自由基的产生率,减少了固相催化剂的损耗和氧化剂的使用量,降低成本。
11.所述臭氧催化氧化装置内部填充超细活性炭催化剂,超细活性炭催化剂通过陶瓷膜兜住防止流失,臭氧可以有效去除膜表面沉积的污染物并抑制微生物的产生,缓解膜污染,陶瓷膜内部的孔隙结构促进臭氧活性,提高臭氧分解,产生高浓度羟基自由基加速污染物降解。
12.所述磁化的沉淀池和臭氧催化氧化装置有效的降低了对膜析装置的膜污堵,提高了出水水质。
13.所述膜析出水经蒸发结晶装置产出硫酸钠和氯化钠产品盐,实现资源回收利用,产生经济效益。
14.进一步的,膜析装置部分出水回流至沉淀池,提高了出水水质,使出水达到回用要求。
15.与现有技术相比,本实用新型专利具有如下优点。
16.(1)出水水质好,废水零排,污水回用,实现资源回收利用,产生经济效益。
17.(2)提高了污泥的沉降性能,降低药剂成本。
18.(3)臭氧溶解率高,产生高浓度羟基自由基加速污染物降解,并进一步缓解膜污染,降低臭氧和催化剂成本。
19.(4)整套系统成本低、效率高、设计简单,结构紧凑。
附图说明
20.图1为本实用新型结构示意图。
21.图中:1.沉淀池,2.永磁铁装置,3.臭氧催化氧化装置,4.陶瓷膜,5.超细活性炭催化剂,6.臭氧催化氧化产水池,7.膜析装置,8.蒸发结晶装置。
具体实施方式
22.下面结合附图和实例对本实用新型专利作进一步的详细描述。
23.本实用新型专利所描述的方位术语如“前”、“后”、“上”、“下”、“左”、“右”、“中心”、等位置关系为基于附图所示的方位的位置关系,仅是为了便于描述本实用新型专利和简化描述而不是指示装置或者设备必须具有的特定方位,因此不能理解为对本实用新型专利的限制。
24.本实用新型专利的目的在于,提供了一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统,其流程短、成本低、占地面积小,处理效果好,能够实现焦化浓水零排放的基础上,减缓膜装置堵塞发生、降低预处理装置的药剂成本,提高回用水出水水质。
25.为实现上述目的,本实用新型专利采用如下的技术方案。
26.请参照图1,为本实用新型一种磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统的一种实
施例,其特征在于:所述磁场作用下的焦化浓水零排放处理系统包括由依次相连的沉淀池1、臭氧催化氧化装置3、臭氧催化氧化产水池6、膜析装置7和蒸发结晶装置8组成。以便焦化浓水经沉淀池1去除水中的硬度、氟化物和二氧化硅等污染物,沉淀池1出水经臭氧催化氧化装置3去除浓水中部分cod,减缓对后续膜析装置7造成污堵,臭氧催化氧化装置3出水进入臭氧催化氧化产水池6进行臭氧降解,臭氧催化氧化产水池6出水进入膜析装置7进行精过滤后,含有硫酸钠和氯化钠的浓盐水进入蒸发结晶装置8至全部转化成固体盐。
27.在本实施例中,请参照图1,沉淀池1两侧固定永磁铁装置2,减少了极性有机物活性位点与药剂分子的碰撞屏障,磁场作用下水中的悬浮物布朗运动加快增加了接触机率,提高了聚结速度,增加了混凝率,降低了污泥沉淀所消耗的药剂成本。
28.需要说明的,臭氧催化氧化装置3两侧固定永磁铁装置2,促进了臭氧在反应体系中稳定存在及在气液相间的传质,提高了臭氧的溶解率及反应体系中羟基自由基的产生率,减少了固相催化剂的损耗和氧化剂的使用量,降低成本。
29.在本实施例中,请参照图1,臭氧催化氧化装置3内部填充超细活性炭催化剂5,超细活性炭催化剂5通过陶瓷膜4兜住防止流失,臭氧可以有效去除膜表面沉积的污染物并抑制微生物的产生,缓解膜污染,陶瓷膜4内部的孔隙结构促进臭氧活性,提高臭氧分解,产生高浓度羟基自由基加速污染物降解。
30.需要说明的,磁化的沉淀池1和臭氧催化氧化装置3有效的降低了膜析装置7的膜污堵,提高了出水水质。
31.需要说明的,膜析出水经蒸发结晶装置8产出硫酸钠和氯化钠产品盐,实现资源回收利用,产生经济效益。
32.在本实施例中,请参照图1,膜析装置7部分出水回流至沉淀池1,提高了出水水质,使出水达到回用要求。
33.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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