一种用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台的制作方法

本发明属于导光板加工设备技术领域，具体是涉及一种用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台。

背景技术：
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表面封装技术，就是SMT(Surface Mounted Technology)，是电子组装行业里最流行的一种技术和工艺。目前，批量化电路印刷都是使用激光切割技术进行SMT印刷模板的加工，故对应的印刷末班称为SMT激光模板。由于经过激光切割方法所得到的印刷模板的孔壁上容易产生毛刺，所以比较粗糙，而为了使其光滑需要对模板表面进行电抛光处理，这不仅增加了SMT激光模板的制造成本，而且电抛光处理后的SMT激光模板的表面不够光亮，不仅不利于锡膏在模板表面的滚动，而且不利于SMT激光模板脱模的顺畅性，从而造成SMT激光模板脱模过程中锡膏的桥连、短路或者锡膏不足等缺陷的发生，这严重影响了电子元器件的焊接可靠性，从而降低了生产效率。

纳米溶液具有疏水、疏油的特点，故将纳米溶液喷涂在SMT激光模板表面能够增强SMT激光模板自身清洁的能力，而为了使纳米溶液对SMT激光模板的辅助效果达到最佳，需要将其均匀的涂覆在SMT激光模板的表面。专利号为201510778566.3的专利提出了一种用于SMT激光模板的纳米溶液自动喷涂装置，其将SMT激光模板安置于设有真空吸附孔的工作平台，利用摄像头采集SMT激光模板，并输送结构将工作平台输送至指定的喷枪下方，实现自动喷涂，从而代替人工手动喷涂作业；其中其采用的工作平台上溶液安置槽并设有相应排液孔结构，而其真空吸附孔也成型在工作平台的溶液安置槽，则喷涂时其溶液容易进入真空吸附孔内，容易导致吸附设施发生故障。

技术实现要素：
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为此，本发明所要解决的技术问题在于现有技术中用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台容易使得纳米溶液进入到真空吸附孔中，从而影响吸附装置发生故障，从而提出一种用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一种用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台，包括：

加工平台，所述加工平台上成型有长方形的凹台，所述凹台的中心处成型有固定块，所述凹台上成型有若干排料槽，所述加工平台的外侧成型有回字形的定位板。

真空吸附盘，所述真空吸附盘通过所述固定块固定连接在所述凹台上。

推板，所述推板的后侧面抵靠在所述凹台的内侧壁上，所述推板的下端面抵靠在所述凹台的上表面。

驱动气缸，所述驱动气缸的缸体固定设置在所述定位板上，所述驱动气缸的输出轴穿过所述凹台的外侧壁后与所述推板连接。

集液盒，所述集液盒设置在所述加工平台的下方，所述集液盒的开口处成型有相对设置的第一凸块和第二凸块，第一固定螺栓穿过所述第一凸块后螺接在所述加工平台的下表面，第二固定螺栓穿过所述第二凸块后螺接在所述加工平台的下表面。

作为上述技术方案的优选，所述排料槽的内侧壁倾斜设置。

作为上述技术方案的优选，所述真空吸附盘为正方形真空吸附盘，所述真空吸附盘上设置有多个真空吸附孔。

作为上述技术方案的优选，所述排料槽位于所述固定块的外侧，且所述排料槽位于所述真空吸附盘的正下方。

作为上述技术方案的优选，所述推板的高度大于所述推板后侧面抵靠的凹台内侧壁的高度。

作为上述技术方案的优选，所述第一固定螺栓和所述第二固定螺栓采用梅花头螺栓。

本发明的有益效果在于：其通过固定块将真空吸附盘设置在凹台的上方，并在凹台上设置了排料槽，可以防止纳米溶液进入到真空吸附盘上的真空吸附孔中，避免导致吸附装置发生故障；其通过在加工平台上设置推板和驱动气缸，可以利用推板对吸真空吸附盘上的激光模板进行定位，并且可以利用推板在凹台上向前滑动，将凹台上的纳米溶液推送到排料槽，通过拍了槽下方的集液盒进行回收。

附图说明：

以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：

图1为本发明一个实施例的用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台主视图；

图2为本发明一个实施例的用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台仰视图；

图3为本发明一个实施例的真空吸附盘表面结构示意图。

图中符号说明：

1-加工平台，2-真空吸附盘，3-推板，4-驱动气缸，5-集液盒，101-凹台，102-固定块，103-排料槽，104-定位板，201-真空吸附孔，501-第一凸块，502-第二凸块，503-第一固定螺栓，504-第二固定螺栓。

具体实施方式：

如图1、图2所示，本发明的用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台，包括：

加工平台1，所述加工平台1上成型有长方形的凹台101，所述凹台101的中心处成型有固定块102，所述凹台101上成型有若干排料槽103，所述加工平台1的外侧成型有回字形的定位板104。所述排料槽103的内侧壁倾斜设置。

真空吸附盘2，所述真空吸附盘2通过所述固定块102固定连接在所述凹台101上。如图3所示，所述真空吸附盘2为正方形真空吸附盘，所述真空吸附盘2上设置有多个真空吸附孔201。所述排料槽103位于所述固定块102的外侧，且所述排料槽103位于所述真空吸附盘2的正下方。

推板3，所述推板3的后侧面抵靠在所述凹台101的内侧壁上，所述推板3的下端面抵靠在所述凹台101的上表面。所述推板3的高度大于所述推板3后侧面抵靠的凹台101内侧壁的高度。

驱动气缸4，所述驱动气缸4的缸体固定设置在所述定位板104上，所述驱动气缸4的输出轴穿过所述凹台101的外侧壁后与所述推板3连接。

集液盒5，所述集液盒5设置在所述加工平台1的下方，所述集液盒5的开口处成型有相对设置的第一凸块501和第二凸块502，第一固定螺栓503穿过所述第一凸块501后螺接在所述加工平台1的下表面，第二固定螺栓504穿过所述第二凸块502后螺接在所述加工平台1的下表面。所述第一固定螺栓503和所述第二固定螺栓504采用梅花头螺栓。

工作原理：

通过第一固定螺栓和第二固定螺栓将集液盒固定在加工平台的下表面，喷涂前，通过驱动气缸推动推板来实现真空吸附盘上的激光模板的定位，喷涂后，通过驱动气缸推动推板来实现凹台上表面纳米溶液的清理，

本实施例所述的一种用于纳米溶液自动喷涂装置的工作平台，包括：加工平台、真空吸附盘、推板、驱动气缸、集液盒。其通过固定块将真空吸附盘设置在凹台的上方，并在凹台上设置了排料槽，可以防止纳米溶液进入到真空吸附盘上的真空吸附孔中，避免导致吸附装置发生故障；其通过在加工平台上设置推板和驱动气缸，可以利用推板对吸真空吸附盘上的激光模板进行定位，并且可以利用推板在凹台上向前滑动，将凹台上的纳米溶液推送到排料槽，通过拍了槽下方的集液盒进行回收。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。