一种氢氧化铝用新型连续沉降槽的制作方法

文档序号:11938935阅读:286来源:国知局

本实用新型涉及化工品生产领域,特别是涉及一种氢氧化铝用新型连续沉降槽。



背景技术:

氢氧化铝生产中,普遍使用的为单层连续沉降槽。是一个底部稍带锥形大直径圆通形槽。料将经中央下料区直接送至液面以下,即直接插入悬浮区。清液由槽体顶部溢流而出,成为溢流。

现有技术中连续沉降槽的沉降原理大多数依靠物料自身的重力进行沉降,在物料进入槽体内时,存在物料混合不均匀,大比重的物料带着轻比重物料下沉,存在沉降质量底,产品不合格的缺点。



技术实现要素:

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种氢氧化铝用新型连续沉降槽,通过进料管连续进料,进入槽体内的物料在搅拌装置连续搅拌下,完成沉降,具有沉降均匀完全、效率高的优点。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种氢氧化铝用新型连续沉降槽,包括槽体和搅拌装置,所述搅拌装置设置在槽体内部,所述槽体顶部设置有一横梁,所述横梁底布分别设置有两个将槽体隔开的L型板,所述L型板下方依次设置第一隔板和第二隔板,所述搅拌装置包括驱动电机和转轴,所述驱动电机设置在横梁中间并且与转轴相连接,所述转轴底端穿过第一个隔板、第二隔板一直延伸到槽体底部,所述第一个隔板与第二隔板之间的转轴段上侧璧分别设置有成八字型分别的搅拌叶片,所述第二隔板与槽体底部之间的转轴段侧壁两侧设置有三角架,所述三角架侧端面均与转轴铰接,所述三角架下方设置有数个齿耙。

在本实用新型一个较佳实例中,所述L型板将槽体上部隔成中间带有间隔的两个溢流腔。

在本实用新型一个较佳实例中,所述间隔顶部设置有进料槽,所述两个溢流腔侧壁均设置有向下折弯的溢流管。

在本实用新型一个较佳实例中,所述第一隔板与第二隔板的间距为1.5米。

在本实用新型一个较佳实例中,所述第一隔板板面为带有45度角度条形板的圆板,第二隔板板面为带有数个网眼的圆板。

本实用新型的有益效果是:本实用新型指出的氢氧化铝用新型连续沉降槽,利用叶片搅拌使得比重不同的物料均匀分开,比重大的物料进入沉淀区沉淀,比重轻的物料向上飘逸,然后进入溢流区流出,通过进料管连续进料,进入槽体内的物料在搅拌装置连续搅拌下,完成沉降,具有沉降均匀完全、效率高的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:

图1是本实用新型一种氢氧化铝用新型连续沉降槽一较佳实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1,本实用新型实施例包括:

一种氢氧化铝用新型连续沉降槽,包括槽体1和搅拌装置,所述搅拌装置设置在槽体1内部,所述槽体1顶部设置有一横梁11,所述横梁11底布分别设置有两个将槽体隔开的L型板12,所述L型板12下方依次设置第一隔板13和第二隔板14,所述搅拌装置包括驱动电机21和转轴22,所述驱动电机21设置在横梁11中间并且与转轴21相连接,所述转轴21底端穿过第一个隔板13、第二隔板14一直延伸到槽体1底部,所述第一个隔板13与第二隔板14之间的转轴21段上侧璧分别设置有成八字型分别的搅拌叶片3,对进入槽体1内的液体料进行搅拌。

所述第二隔板14与槽体4底部之间的转轴21段侧壁两侧设置有三角架4,所述三角架4侧端面均与转轴21铰接,所述三角架4下方设置有数个齿耙41,对沉入槽体1底部的沉渣进行集中耙料。

所述L型板12将槽体上部隔成中间带有间隔5的两个溢流腔15,其中,L型板底部横板带有数个进水孔。所述间隔5顶部设置有进料槽6,间隔5一直通到第一隔板13底平面,液体从进料槽6一端流入槽体1内,直接进入第一隔板13与第二隔板14之间,所述两个溢流腔15侧壁均设置有向下折弯的溢流管151。

所述第一隔板13与第二隔板14的间距为1.5米。

所述第一隔板13板面为带有45度角度条形板的圆板,第二隔板14板面为带有数个网眼的圆板,能够帮助比重大的物料沉淀,提高沉淀质量和效率。

综上所述,本实用新型指出的氢氧化铝用新型连续沉降槽,利用叶片搅拌使得比重不同的物料均匀分开,比重大的物料进入沉淀区沉淀,比重轻的物料向上飘逸,然后进入溢流区流出,通过进料管连续进料,进入槽体内的物料在搅拌装置连续搅拌下,完成沉降,具有沉降均匀完全、效率高的优点。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容及附图所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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